(ISO/DIS 3745 : 2000)
(1)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
まえがき
この規格は，工業標準化法に基づいて，日本工業標準審査会の審議を経て，通商産業大臣が改正した日
本工業規格である。これによってJIS Z 8732 : 1986は改正され，この規格に置き換えられる。
今回の改正では，国際規格と整合した日本工業規格とするため，ISO/DIS 3745 : 2000, Acoustics−
Determination of sound power levels of noise sources using sound pressure−Precision methods for anechoic and
hemi−anechoic roomsに一致させた。
今回の主な改正点は，次のとおりである。
−原国際規格であるISO/DIS 3745に様式を一致させた。
−ISO/DIS 3745の改正に伴い，オクターブバンドでの測定を削除した。
−ISO/DIS 3745の改正に伴い，音響エネルギーレベルの測定方法を追加した。
−ISO/DIS 3745の改正に伴い，移動マイクロホンのためのらせん経路を追加した。
−ISO/DIS 3745の改正に伴い，旧規格の附属書5（音圧レベルの時間変動が大きい場合の測定方法）を削
除した。
− 面上平均音圧レベルによる無響室及び半無響室の適正試験方法を追加した。
JIS Z 8732には，次に示す附属書がある。
附属書A（規定） 無響室及び半無響室の一般的適正試験方法
附属書B（規定） 特定騒音源の音響パワーレベル算出を目的とした他の適正試験方法
附属書C（規定） 自由音場における固定マイクロホンの配列
附属書D（規定） 反射面上の自由音場における固定マイクロホンの基本配列
附属書E（規定） 反射面上の自由音場における移動マイクロホンのための同軸平行円周経路
附属書F（規定） 反射面上の自由音場における移動マイクロホンのための子午線経路
附属書G（規定） 反射面上の自由音場における移動マイクロホンのためのらせん経路
附属書H（規定） 1/3オクターブバンド音響パワーレベルからA特性音響パワーレベルを求める方
法
附属書I（規定） 指向指数及び指向係数の算出方法
(ISO/DIS 3745 : 2000)
(1)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
目次
ページ
序文 ··································································································································· 1
1.1 一般事項 ······················································································································ 2
1.2 騒音及び騒音源の種類····································································································· 2
1.3 試験室 ························································································································· 2
1.4 測定の不確かさ ············································································································· 2
2. 引用規格 ························································································································ 3
3. 定義 ······························································································································ 3
4. 試験室の要求事項 ············································································································ 5
4.1 一般事項 ······················································································································ 5
4.2 試験室の適性評価 ·········································································································· 5
4.3 暗騒音の評価 ················································································································ 5
5. 測定器 ··························································································································· 5
5.1 一般事項 ······················································································································ 5
5.2 校正 ···························································································································· 5
6. 測定対象音源の設置及び作動 ····························································································· 6
6.1 一般事項 ······················································································································ 6
6.2 音源位置 ······················································································································ 6
6.3 音源の設置 ··················································································································· 6
6.3.1 手持ち形機器 ·············································································································· 6
6.3.2 床置き形及び壁掛け形機器 ···························································································· 6
6.4 補助装置 ······················································································································ 6
6.5 測定対象音源の作動 ······································································································· 6
7. 音響パワーレベル算出のための音圧レベルの測定 ·································································· 7
7.1 一般事項 ······················································································································ 7
7.2 測定面 ························································································································· 7
7.2.1 測定球面（無響室における測定用） ················································································ 7
7.2.2 測定半球面（半無響室における測定用） ·········································································· 7
7.3 マイクロホン位置 ·········································································································· 7
7.3.1 一般事項 ···················································································································· 7
7.3.2 固定マイクロホン位置 ·································································································· 7
7.3.2.1 測定球面（無響室における測定用） ·············································································· 8
7.3.2.2 測定半球面（半無響室における測定用） ········································································ 8
7.3.3 同軸平行円筒経路（半無響室における測定用）·································································· 8
7.3.4 子午線経路 ················································································································· 9
7.3.5 らせん経路 ················································································································· 9
(ISO/DIS 3745 : 2000) 目次
(2)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
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2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
7.4 測定条件 ······················································································································ 9
7.5 求められるデータ ·········································································································· 9
7.6 暗騒音音圧レベルの補正·································································································· 9
7.7 表面音圧レベルの算出···································································································· 10
7.7.1 固定マイクロホン位置 ································································································· 10
7.7.1.1 等面積 ···················································································································· 10
7.7.1.2 不等面積 ················································································································· 10
7.7.2 円周マイクロホン経路 ································································································· 10
7.7.3 子午線及びらせん経路に沿っての移動 ············································································ 10
8. 音響エネルギーレベル算出のための単発音圧レベルの測定 ····················································· 10
8.1 一般事項 ····················································································································· 10
8.2 マイクロホン配置 ········································································································· 10
9. 音響パワーレベル及び音響エネルギーレベルの算出 ······························································ 11
9.1 音響パワーレベル ········································································································· 11
9.1.1 自由音場 ··················································································································· 11
9.1.2 反射面上の自由音場 ···································································································· 11
9.1.3 重み付け音響パワーレベル及びバンド音響パワーレベル ····················································· 11
9.2 音響エネルギーレベル···································································································· 11
9.2.1 自由音場 ··················································································································· 11
9.2.2 反射面上の自由音場 ···································································································· 11
10. 記録事項 ····················································································································· 12
10.1 測定対象音源 ·············································································································· 12
10.2 音響環境 ···················································································································· 12
10.3 測定器 ······················································································································· 12
10.4 音響データ ················································································································· 12
11. 報告事項 ····················································································································· 12
附属書A（規定） 無響室及び半無響室の一般的適性試験方法 ····················································· 13
A.1 一般事項 ····················································································································· 13
A.2 測定器 ························································································································ 13
A.2.1 一般事項 ·················································································································· 13
A.2.2 試験用音源の種類と位置 ······························································································ 13
A.3 試験用音源及びマイクロホンの設置 ················································································· 13
A.3.1 無響室 ····················································································································· 13
A.3.2 半無響室 ·················································································································· 13
A.3.3 マイクロホンの移動 ···································································································· 13
A.4 試験方法 ····················································································································· 13
A.4.1 試験音の発生············································································································· 13
A.4.2 音圧レベルの測定······································································································· 14
A.4.3 逆二乗則からの偏差の算出 ··························································································· 14
(ISO/DIS 3745 : 2000)
(3)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
A.4.3.1 逆二乗則による音圧レベル推定式················································································ 14
A.4.3.2 逆二乗則からの偏差 ································································································· 14
A.5 評価方法 ····················································································································· 14
附属書B（規定） 特定騒音源の音響パワーレベル算出 を目的とした他の適正試験方法 ··················· 16
B.1 一般事項 ····················································································································· 16
B.2 反射面の特性 ··············································································································· 16
B.2.1 寸法 ························································································································· 16
B.2.2 吸音率 ······················································································································ 16
B.3 異なった半径の二つの測定球面又は半球面を使う方法（2表面法） ········································ 16
B.3.1 試験音源 ··················································································································· 16
B.3.2 試験方法 ··················································································································· 16
附属書C（規定） 自由音場における固定マイクロホンの配列 ····················································· 17
附属書D（規定） 反射面上の自由音場における 固定マイクロホンの基本配列 ······························ 19
附属書E（規定） 反射面上の自由音場における 移動マイクロホンのための同軸平行円周経路 ·········· 21
附属書F（規定） 反射面上の自由音場における 移動マイクロホンのための子午線経路 ··················· 22
附属書G（規定） 反射面上の自由音場における 移動マイクロホンのためのらせん経路 ·················· 24
附属書H（規定） 1/3オクターブバンド音響パワーレベルから A特性音響パワーレベルを求める方法25
附属書I（参考） 指向指数及び指向係数の算出方法 ·································································· 26
I.1 自由音場 ······················································································································ 26
I.2 反射面上の自由音場 ······································································································· 26
文献 ·································································································································· 27
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日本工業規格 JIS
Z 8732 : 2000
(ISO/DIS 3745 : 2000)
音響−音圧法による騒音源の
音響パワーレベルの測定方法
−無響室及び半無響室における精密測定方法
Acoustics−Determination of sound power levels of noise sources using
sound pressure−Precision methods for anechoic and hemi-anechoic
rooms
序文 この規格は，1977年に第1版として発行され，2000年に発行されたISO/DIS 3745 : Acoustics−
Determination of sound power levels of noise sources using sound pressure−Precision methods for anechoic and
hemi-anechoic roomsを翻訳した日本工業規格であり，技術的内容を変更することなく作成してある。
原国際規格のISO 3745は，機械，装置及びその他の部品の音響パワーレベルを算出するための各種の方法
を規定するISO 3740シリーズの一つである。ISO 3740シリーズの一つの方法を選ぶときには，試験の条
件と目的に対してもっとも適切な方法を選ぶことが必要である。選定のための一般的な指針は，ISO 12001
及びISO 3740に規定されている。ISO 3740シリーズは，測定対象音源の設置及び作動条件の一般事項だ
けを規定している。特定の種類の機械に対する個別規格がある場合，設置及び作動条件の規定については，
それに従うことが望ましい。
この規格は，規定の音響特性をもった無響室及び半無響室を用いて，音源が放射する音響パワーを求める
ための方法について規定する。この規格で規定する方法は，規定の試験室での室内測定だけに適用される。
この規格では音圧測定からの音響パワーの計算は，ある音響パワーを放射する音源において，測定球面又
は半球面上で平均した平均二乗音圧が音響パワーに比例するという前提に基づいている。
この規格は，音源の音響パワーレベルだけでなく音響エネルギーレベルを算出する方法も規定する。単発
的又は過渡的な音については，音響パワーレベルは定義できないので，このような時間特性をもった放射
音を規定するためには，音響エネルギーレベルを適用することが必要である。他のISO 3740シリーズヘの
音響エネルギーレベルの適用は，将来の改正で考慮する。
この規格では，海面レベルにおける標準気象条件についての規準化音響パワーレベル又は音響エネルギー
レベルを求める。これは精密法の測定において特に要求されている。
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Z 8732 : 2000 (ISO/DIS 3745 : 2000)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
1. 適用範囲
1.1
一般事項 この規格は，騒音源から発生する音の音響パワーレベル又は音響エネルギーレベルを算
出するために，無響室又は半無響室において騒音源を囲む測定面上で音圧レベルを測定する方法を規定す
る。また，音響パワーレベル又は音響エネルギーレベルを算出するための表面音圧レベルを求めて，グレ
ード1の精度をもつ結果を得るための方法とともに，試験環境及び測定器についての要求事項についても
規定する。
1.2
騒音及び騒音源の種類 この規格に規定する方法は，すべての種類の騒音に適用する。
騒音源は，機械，装置及びその他の部品である。測定対象音源の最大寸法は，閉測定表面として使われ
る仮想球面（又は半球面）の半径について，7.2に規定する要求事項によるものとする。
1.3
試験室 この規格に従って行う測定に適用できる試験室は，無響室（3.11参照）又は半無響室（3.13
参照）とする。
1.4
測定の不確かさ この規格に従って行う音響パワー測定は，ほとんどの例外なしに，表1に示す値
以下の再現性の標準偏差で1/3オクターブバンド音響パワーレベルを測定することができる。
表1 この規格に従って求めた音響パワーレベルの再現性の標準偏差の推定上限値
1/3オクターブバンド中心周波数(Hz)
標準偏差σR (dB)
無響室
半無響室
50〜80*
2.0
2.0
100〜630
1.0
1.5
800〜5 000
0.5
1.0
6 300〜10 000
1.0
1.5
12 500〜20 000**
2.0
2.0
* 音場が4.に従って適正化されているとき
** 測定器が適応し，大気による音の吸収が補正されていると
き
特定の騒音源を複数の試験室に移動させ，それぞれの試験室で音源の音響パワーレベルをこの規格に従
って算出すれば，その結果はばらつきを示す。測定したレベルの標準偏差は算出でき（ISO 7574-4 附属書
BのB.2.1参照），周波数によって変化する。ほとんどの例外なしに，これらの標準偏差は表1の値を超え
ない。表1の値は，ISO 7574-1に定義される再現性の標準偏差σRである。表1の値は，この規格の方法を
適用したときの測定の不確かさの総合的な影響を考慮しているが，作動条件（例えば，回転速度，電源電
圧）又は設置条件の変化によっておこる音響パワー出力の変化は除外している。
測定の不確かさは，表1の再現性の標準偏差と要求される信頼限界に依存する。例として，正規分布す
る音響パワーレベルの期待値が測定値の±1.645σRの範囲内にある信頼水準は90%であり，±1.96σRの範囲
内にある信頼水準は95%である。その他の例については，ISO 7574-4 : 1985を参照する。それ以上の特定
の知識が利用できなければ，試験報告書に拡張不確かさ (k＝2) は再現性の標準偏差の2倍になることを
記載する。
備考1. σRが2dBを超えるときには，信頼水準の範囲は適用されない。
2. 表1に示される標準偏差は，この規格で定義する試験条件と方法に関係するが，騒音源自身
には関係しない。標準偏差の一部は，試験機関，試験室の寸法，反射面の音響特性，試験室
境界面における吸音，暗騒音及び測定器の種類と校正方法の変化に起因する。それはまた，
測定面の寸法，マイクロホン位置の数と配置，音源位置及び積分時間を含んだ実験技術にも
よる。標準偏差はまた，音源の近傍音場における測定の不確かさによって影響を受け，音源
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Z 8732 : 2000 (ISO/DIS 3745 : 2000)
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の性状に依存するが，一般に測定距離が小さく，周波数が低くなる（250Hz以下）に従って
増加する。
3. 幾つかの試験機関が類似の施設と測定器を使えば，これらの試験機関で算出した音源の音響
パワーレベルは，表1の標準偏差が示すよりもよく一致する。
4. 特定の種類の音源については，再現性の標準偏差は表1の値よりも小さくなる。そのためこ
の規格を引用する特定の機器に対する個別規格では，適切な試験機関間での試験結果からそ
れが実証できるなら，その場合に限り表1の値よりも小さな標準偏差を記載してもよい。
5. 表1に示される再現性の標準偏差は，同一条件での同一音源についての繰り返し測定につい
ての不確かさを含んでいる（繰り返し性の標準偏差については，ISO 7574-1参照）。この不
確かさは，通常，試験室が異なることによる不確かさよりも遥かに小さい。しかし，特定音
源についての安定した設置又は作動条件を維持することが困難であれば，繰り返し性の標準
偏差は表1の値に比べて小さくないことがある。こうした場合には，その音源について再現
性のある音響パワーレベルデータを得ることが困難であるという事実を記録して，試験報告
書に記載することが望ましい。
2. 引用規格 次に掲げる規格は，この規格に引用されることによって，この規格の規定の一部を構成す
る。これらの引用規格のうちで，発行年を付記してあるものは，記載された年の版だけがこの規格を構成
するものであって，その後の改正版・追補はそれに該当しない。発効年を付記していない引用規格は，そ
の最新版（追補を含む。）を適用する。
JIS C 1505 精密騒音計
JIS C 1515 音響校正器
ISO 7574-1 : 1985, Acoustics−Statistical methods for determining and verifying stated noise
emission values of machinery and equipment−Part 1 : General considerations and definitions
ISO 7574-4 : 1985, Acoustics−Statistical methods for determining and verifying stated noise
emission values of machinery and equipment−Part 4 : Methods for stated values for batches
of machines
IEC 61260 : 1995, Electroacoustics−Octave-band and fractional-octave-band filters
3. 定義 この規格で用いる主な用語の定義は，次による。
3.1
音圧 (sound pressure) p 音の存在によって静圧に重畳される変動圧力。単位はパスカル (Pa)。
備考 音圧の値は，瞬時音圧，最大音圧又はある時間空間にわたる平均二乗音圧の平方根など，幾つ
かの方法で表される。
3.2
音圧レベル (sound pressure level) Lp 音圧pの二乗を基準音圧poの二乗で除した値の常用対数の10
倍で，式(1)で与えられる。単位はデシベル (dB)。
dB
log
10
2
0
2
10p
p
Lp＝
····································································· (1)
使用した周波数重み特性又は周波数帯域幅，及び時間重み特性を明記する。基準音圧は20μPa (2×10-5Pa)。
備考 例えば，時間重み特性SのA特性音圧レベルは，LpASで表す。
3.2.1
時間平均音圧レベル (time-averaged sound pressure level) Lpeq, T 測定時間T内で，時間とともに変
化する対象音と同じ平均二乗音圧をもった連続定常音の音圧レベルで，式(2)で与えられる。
4
Z 8732 : 2000 (ISO/DIS 3745 : 2000)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
dB
1
log
10
2
0
2
10
,
∫
dt
P
P
T
L
T
peq＝
······················································· (2)
時間平均音圧レベルはデシベルで表示され，JIS C 1505の要求事項に適合する測定器で測定する。
備考 時間平均音圧レベルは，ある測定時間について求められるので，一般に添字“eq”及び“T”は
省略する。
3.2.2
測定時間 (measurement time interval) 時間平均音圧レベルを求めるための時間
3.3
測定面 (measurement surface) 測定点を設置するための音源を囲む面積Sの仮想表面。半無響室の
場合には，測定表面は反射面が終端になる。
3.4
表面音圧レベル (surface sound pressure level) Lpf 暗騒音補正K1（3.17参照）を適用した，測定面の
すべてのマイクロホン位置にわたる時間平均音圧レベルのエネルギー平均値。単位はデシベル (dB)。
3.5
音響パワー (sound power) W 単位時間に音源から放射される空気音のエネルギー。単位はワット
(W)。
ds
dt
pc
P
T
W
S
T
0
2
∫∫
1
＝
····································································· (3)
3.6
音響パワーレベル (sound power level) Lw 測定対象音源が放射する音響パワーを基準音響パワーW0
で除した値の常用対数の10倍で，式(4)で与えられる。単位はデシベル (dB)。
0
10
log
10
W
W
Lw＝
········································································ (4)
使用した周波数重み特性又は周波数帯域幅を明記する。基準音響パワーは，1pW (10-12W)。
3.7
単発音圧レベル (single event sound pressure level) LpE 単発的又は過渡的な音の単発音圧レベルは，
式(5)で与えられる。単位はデシベル (dB)。
()
∫21
2
0
2
0
10
1
log
10
t
t
E
p
dt
p
t
p
T
L＝
························································ (5)
ここに， p (t)： 瞬時音圧 (Pa)
t2-t1： 対象事象のすべての音を含むのに十分な長さの時間 (s)
p02T0： 基準値 (［20μPa］21s)
備考 他の規格では，この量を音圧暴露レベルとしている。
3.8
音響エネルギー (sound energy) E 音源から放射される単発的又は過渡的な音のエネルギー。単位は
ジュール (J)。
∫TWdt
E
0
＝
················································································· (6)
3.9
音響エネルギーレベル (sound energy level) LJ 測定対象音源から放射される音響エネルギーEを基
準音響エネルギーE0で除した値の常用対数の10倍。式(7)で与えられる。単位はデシベル (dB)。
0
10
log
10
E
E
LJ＝
········································································· (7)
使用した周波数重み特性又は周波数帯域幅を明記する。基準音響エネルギーは，1pJ (10-12J)。
5
Z 8732 : 2000 (ISO/DIS 3745 : 2000)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
3.10 自由音場 (free field) 境界面の影響を受けない均質等方媒質中の音場。実際には，対象周波数範囲
にわたって境界面における反射が無視される音場。
3.11 無響室 (anechoic room) 自由音場の得られる試験室。
3.12 反射面上の自由音場（半自由音場） (free field over a reflecting Plane) 無限大の剛壁面上の半空間に
おける均質等方媒質中の音場。
3.13 半無響室 (hemi-anechoic room) 反射面上の自由音場の得られる試験室。
3.14 対象周波数範囲 (frequency range of interest) 一般に，1/3オクターブバンド中心周波数で100〜10
000Hzの周波数範囲。
備考 特別の目的に対しては，試験環境が附属書Aによりまた，測定器の精度が特に高周波数で7.4
によって，その周波数で使用するのに適していれば，周波数範囲を拡張又は縮小してもよい。
3.15 測定半径 (measurement radius) r 球又は半球の測定鏡面の半径。
3.16 暗騒音 (background noise) 測定対象音源以外のすべての音源からの騒音。
備考 暗騒音は空気伝搬音，固体伝搬振動及び装置の電気的雑音からの寄与を含む。
3.17 暗騒音補正値 (background noise correction) K1 面上音圧レベルに対する暗騒音の影響を考慮する
ための補正値。K1は周波数に依存する。単位はデシベル (dB)。
3.18 指向指数 (directivity index) DI 音源が，ある方向に放射する音の強さを表す尺度（附属書I参照）。
単位はデシベル (dB)。
4. 試験室の要求事項
4.1
一般事項 この規格に従って測定に適用できる試験室は，次のとおりとする。
a) 一般的な目的で，自由音場又は反射面上の自由音場を与える室で，附属書Aを満足する試験室。
b) そのほかに特定音源の音響パワーレベルを求める目的で自由音場又は反射面上の自由音場を与える室
で附属書Bを満足する試験室。
4.2
試験室の適性評価 附属書A及び附属書Bは，理想的な自由音場又は半自由音場条件からの試験室
の偏差を算出し，試験室の適応性を評価する方法を示す。試験室の評価方法は，附属書A又は附属書Bに
よる。
備考 逆二乗則からの偏差が附属書A又は附属書Bに示す値を超える空間での測定が必要である場合
には，JIS Z 8733, JIS Z 8736-1, JIS Z 8736-2, ISO 3746を参照。
4.3
暗騒音の評価 測定面上のすべてのマイクロホン位置で，暗騒音のレベルは測定する音圧レベルよ
り少なくとも10dB小さいものとする。加算したA特性騒音がすべての帯域を加算したA特性音圧レベル
よりも10dB以上低ければ，A特性音響パワーの算出はこの評価を満足しない帯域を含んで行ってもよい。
5. 測定器
5.1
一般事項 マイクロホン及びケーブルを含んだ測定システムは，JIS C 1505に適合するものとする。
使用するフィルタは，IEC 61260のクラス1に適合するものとする。
10 000H
z以上の測定については，マイクロホン振動面は音源からマイクロホンへのベクトルに
平行とする。マイクロホンの指向性，ウインドスクリーンの減衰及び相対湿度による空気吸収は補償する。
5.2
校正 測定対象周波数範囲内の一つ以上の周波数で全測定システムを校正するために，一連の測定
の間JIS C 1515に規定するクラス1の音響校正器を使用する。
音響校正器がJIS C 1515に適合していることを1年に1度検査しなければならない。測定システムがJIS
6
Z 8732 : 2000 (ISO/DIS 3745 : 2000)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
C 1505に適合していることを周期的に検査する。
6. 測定対象音源の設置及び作動
6.1
一般事項 測定対象音源の設置及び作動方法は，音源から放射する音響パワーに重大な影響を与え
ることがある。ここでは，測定対象音源の設置及び作動条件による音響パワーの変化を最小にする条件を
規定する。測定対象音源の設置及び作動について個別規格があるときには，それに従う。
6.2
音源位置 試験室内に音源を設置するには，測定面が7.2に従って測定対象音源を囲むことのできる
十分な空間を確保することが重要である。
設置条件及びマイクロホン配置についての詳細な情報は，この規格の一般事項及び測定対象音源につい
ての個別規格があればそれによる。
6.3
音源の設置 多くの場合，放射される音響パワーは，測定対象音源の支持又は設置条件に依存する。
測定対象音源のための典型的な設置条件が存在する場合は，その条件を使うか又はシミュレートする。
典型的な設置条件が存在しない又は試験に利用できない場合は，試験に使用した設置システムに起因す
る音源の音響パワーの変化を回避するように注意する。機器が設置される構造体からの音響放射を少なく
する手段を講ずる。
備考 多くの小形音源は，それ自身で低周波音を放射しなくても，設置方法によっては，その振動エ
ネルギーが有効な放射体として十分に大きな表面に伝達することにより，より低い周波数の音
を放射することがある。こうした場合，実際的であれば，支持体への振動の伝達と音源側への
反作用を最小にするように，測定対象音源と支持体表面の間に弾性支持体を挿入するのがよい。
この場合，設置基礎は，余分に振動したり音を放射したりしないように，十分に高い機械イン
ピーダンスをもつことが望ましい。測定対象音源が，代表的な設置現場で弾性支持をされない
場合，こうした弾性支持を使わないものとする。
6.3.1
手持ち形機器 手持ち形機器は，手で支持する。測定対象音源の作動のために支持構造物を必要と
する場合には，測定対象音源の一部とみなせる程度に小さくし，その機器に対する個別規格で規定する。
6.3.2
床置き形及び壁掛け形機器 このような機器は，音響的に剛な反射面（壁，床）に設置する。卓上
形機器は，その機器の試験規定による作動のためにテーブル又はスタンドを必要とするものでない限り，
床の上に設置する。テーブルなどが必要な機器は，試験卓の上面中央に設置する。
6.4
補助装置 測定対象音源に接続されたダクト，電気導管及び配管で，音源を構成しないものは，試
験室内に極端に大きな音のエネルギーを放射しないように配慮する。
測定対象音源の一部ではないが，その作動に必要なすべての補助装置は，可能な限り試験室の外側に設
置する。
6.5
測定対象音源の作動 測定対象音源に該当する個別規格があるときには，測定の間，そこに規定さ
れる作動条件を使用する。個別規格がないときには，可能ならば，通常使用の典型となる方法で音源を作
動させる。その場合，次のうちの一つ以上の作動条件を選択する。
−規定の負荷及び作動条件
−（上記と異なる）最大負荷条件
−無負荷（アイドリング）条件
−通常使用で発生音が最大となる作動条件
−擬似負荷で詳細に定義した作動条件
−測定対象音源に特有の作動サイクルでの作動条件
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2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
任意の作動条件の組み合わせ（すなわち負荷，作動速度，温度など）に対して音源の音響パワーレベル
を求めてよい。これらの試験条件はあらかじめ選定しておき，試験中一定に保つ。騒音測定を行う前に，
音源を所定の作動条件にしておく。
騒音放射が加工する材料の種類や使用する工具の種類のような二次的な作動パラメータに依存すれば，
これらのパラメータは最小の変化を与え，典型的な作動になるように選定する。特定の機械についての個
別規格は試験に使用する工具や材料を規定する。
特別な目的に対しては，同じ種類の機械からの騒音放射の再現性が高く，その種の機械について最も一
般的で代表的な作動条件を網羅する方法で一つ以上の作動条件を定義することが適当である。こうした作
動条件は，個別規格で定義する。
擬似負荷による作動条件を使うときには，測定対象音源の正規の使用状態に対する音響パワーレベルを
与える作動条件を選定する。
適切であるならば，それぞれ所定の時間をもった幾つかの作動条件についての結果から，全体の作動状
態に対する結果を得るためにエネルギー平均を求める。
音響測定中の音源の作動条件を，試験報告書に詳細に記述する。
7. 音響パワーレベル算出のための音圧レベルの測定
7.1
一般事項 無響室は，最小の不確かさでの測定に適した環境を与える。しかし，この規格に規定す
る条件が満たされれば，半無響室でも適度な精度を確保できる。
7.2
測定面
7.2.1
測定球面（無響室における測定用） 無響室における測定では，表面音圧レベルの測定に使う球面
は，音源の音響中心に中心を置くのが望ましい。音響中心の位置は，多くの場合不明であるので，音響中
心と仮定した位置（例えば，音源の幾何中心）を試験報告書に明確に記述する。測定球面の半径は，音源
の最大寸法の2倍以上で，最小1mとする。附属書A又は附属書Bによって測定に適合することが確認さ
れた領域の外側にはマイクロホンは配置しない。
7.2.2
測定半球面（半無響室における測定用） 半無響室における測定では，7.2.1による音響中心の床
への投影点に半球の中心を置く。測定半球面の半径は，最大音源寸法の2倍以上又は反射面から音源の音
響中心までの距離の3倍以上のいずれか大きい方で，最小1mとする。附属書A又は附属書Bによって測
定に適合することが確認された領域の外側にはマイクロホンは配置しない。
7.3
マイクロホン位置
7.3.1
一般事項 測定球（又は半球）面上の表面音圧を得るために，以下の4つの方法の一つを使用する；
1) 試験球（又は半球）の表面上に分布した固定マイクロホン配列。
備考 単一のマイクロホンを一つの位置から次へと順次移動するか，又は多数の固定マイクロホンを
使って，その出力を順次か又は同時にサンプリングする。
2) 単一マイクロホンを試験球（又は半球）上に規則的に配置した多数の円周経路に沿って動かす。
3) 単一マイクロホンを試験球（又は半球）上に規則的に配置した多数の子午線経路に沿って動かす。
4) 単一マイクロホンを試験球（又は半球）の垂直軸のまわりのらせん経路に沿って動かす。
7.3.2
固定マイクロホン位置
8
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7.3.2.1
測定球面（無響室における測定用） 附属書Cに示す20点のマイクロホン位置の配列を使用す
る。一般に，それぞれの測定周波数帯域ごとに測定した音圧レベルの最大値と最小値との差（デシベルの
数値）が，マイクロホン位置の数の半分以下であれば，マイクロホン位置の数は十分である。附属書Cの
20点の配列を使って，この要求事項を満足しないときには，附属書Cの基本の配列をz軸の周りに180゜
回転して追加の20点の配列を規定する（新しい配列のz軸上の2点は，基本配列の2点と一致する）。二
つの配列の40点は附属書Cの測定球面上で等面積に割り当てられている。
備考1. 二つの配列上の40点によっても測定点数についての要求事項を満足しないときには，指向性
が鋭い音源からの“ビーミング”が観測される球面の限定された範囲についての詳細な検討
が必要である。この詳細な検討は，対象周波数範囲における音圧レベルの最大値及び最小値
を求めるために必要である。この方法によれば，マイクロホン位置は普通には測定球面上で
等面積には割り当てられず，適切な調整が必要になる（7.7.1.2参照）。
2. 全指向性の音源については，（例えば，8点又は12点の）より少ないマイクロホン位置を使
っても表1の不確かさを超えることはない。
7.3.2.2
測定半球面（半無響室における測定用） 附属書Dに示す10点のマイクロホン位置の配列を使
用する。一般に，それぞれの対象周波数帯域ごとの音圧レベルのマイクロホン位置による最大値と最小値
との差（デシベルの数値）が，マイクロホン位置の数の半分以下であれば，マイクロホン位置の数は十分
である。附属書Dの10点の配列を使って，この要求事項を満足しないときには，附属書Dの基本の配列
をz軸の周りに180°回転して追加の10点の配列を規定する。二つの配列の20点は，附属書Dの測定半
球面上の等面積に割り当てられている。
備考 20点のマイクロホン高さの配列は，8 000Hzまでの音響パワー算出に対して最小の干渉効果を
保証し，10点の配列は4 000Hzまでを保証している。二つの配列上の20点によってマイクロ
ホン位置の数の十分さが満足しないときには，指向性が鋭い音源からの“ビーミング”が観測
される半球面の限定された範囲についての詳細な検討が必要である。この詳細な検討は，対象
周波数範囲における音圧レベルの最大及び最小値を求めるために必要である。この方法によれ
ば，マイクロホン位置は普通には測定半球面上で等面積には割り当てられず，適当な調整が必
要になる（7.7.1.2参照）。
反射面からの反射によっておこる干渉効果による誤差を減らすためには，床から均等な間隔の高さで試
験半球面上に分布し，一つのマイクロホン位置が一つの高さに対応する20点の固定マイクロホン位置が使
われる。20点の高さは，rを測定半球の半径として0.025r, 0.075r,．．．．．．．0.975rとする。各高さについて，
方位角はその前の位置から60゜だけ移動し，らせんのサンプリングパターンを構成する。水平面内におけ
る音源の指向性が不均一であれば，第一の組から180゜回転した第二の組を作って測定し，第一の組との
平均を取る。
7.3.3
同軸平行円筒経路（半無響室における測定用） 附属書Eに示す少なくとも五つの円周経路に沿
って単一マイクロホンを動かして，空間及び時間平均した音圧レベルを測定する。各円周経路についての
半球面の部分面積は等しい。この配置は，2 000 Hzまでの反射面の干渉効果を避ける。4 000 (8 000) Hzま
での干渉効果による誤差を避けるためには，測定半球面の表面で等面積を表すように，7.3.2.2に与えられ
る10(20)点のマイクロホン高さで円周経路を設置する。
円周経路は，マイクロホン又は試験対象音源のいずれかを360゜ゆっくりと回転させることによって達
成してもよい。試験対象音源を回転させるために回転盤を使うときには，表面は反射面と同一平面とする。
9
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7.3.4
子午線経路 球又は半球の表面音圧レベルを得るための第3の方法は，球の中心を通る水平軸につ
いての半円形の円弧に沿って動かす単一マイクロホンを使う方法である（図F.1参照）。鉛直速度 (dz/dt) は
一定に保つ。すなわち，マイクロホン支持の角速度は，secθに比例するように加速する。ここでθは水平か
らの角度である。マイクロホン出力は，球の表面積に適当な重み付けを与えるように電子的手法によって
二乗平均する。あるいは，cosθによる電子的な重み付けをした一定の角速度を使ってもよい（図F.2参照），
半無響室における測定においては，円弧は1/4円の長さで，マイクロホンが回転する軸は附属書Fに示さ
れるように，反射面の中に置く。少なくとも，音源のまわりに等しい間隔の方位角で，八つのマイクロホ
ンの移動経路を使用する。これは音源を回転してもよい。
7.3.5
らせん経路 球面又は半球面の表面音圧レベルを得るための第4の方法は，7.3.4のように一つの
子午線経路に沿ってマイクロホンを動かすと同時に，円周経路に沿ってゆっくりと移動させることによっ
て，測定表面の垂直軸のまわりのらせん経路を形成する。マイクロホンを子午線経路に沿ってゆっくり移
動させる間に，音源を一定回転速度で複数回回転させることでも実現できる。らせん経路の例は附属書G
に示す。角度重み付けは，7.3.4に記述される。
7.4
測定条件 環境条件は測定に使用するマイクロホンに不利な影響を与えることがある。こうした条
件の影響（例えば，強い電磁場，測定対象音源からの空気放出による風）は，マイクロホンの適切な選択
又は配置によって避ける。マイクロホンの向きは，振動膜の面が音源中心からの半径ベクトルに平行とす
る（カプセルの軸は接線方向を向く）。このマイクロホンの向き（擦過入射），及び2 000 Hz以上の測定周
波数について特別に含まれているウインドスクリーンに対する校正された応答を求める。
7.5
求められるデータ 音圧レベルは音源の代表的な作動時間について測定する。各マイクロホン位置
においてA特性及び/又は対象周波数範囲内の各周波数帯域について音圧レベルデータをとる。使用する測
定器は，5.の要求事項に適合するものとする。
次のデータを少なくとも1回又は数回の完全な音源作動の周期にわたって平均する。
1) 測定対象音源の作動中のA特性音圧レベル及び/又はバンド音圧レベル
2) 暗騒音のA特性音圧レベル及び/又はバンド音圧レベル
160 Hz以下の周波数帯域については，測定時間は少なくとも30秒とする。A特性音圧レベル及び200 Hz
以上の周波数帯域については，測定時間は少なくとも10秒とする。
7.6
暗騒音音圧レベルの補正 暗騒音の音圧レベルは，音源が作動しない状態で7.3に規定する方法の一
つを使って測定する。各マイクロホン位置及び各周波数帯域における暗騒音のレベルL″piが，測定対象音
源が作動しているときの測定音圧レベルL'piよりも15 dBから10 dBの範囲で低い場合には，暗騒音の影
響についてL'piの値を補正する。暗騒音補正値K1は，次の式で与えられる。
(
)
L
K
△
−
＝−
-0.1
10
1
10
1
log
10
···························································· (8)
ここに
△L＝L'pi−L″pi
暗騒音レベルが，音源が作動しているときの音圧レベルよりも15dB以上低い場合には，補正は行わな
い。
暗騒音と音源が作動しているときの各測定点及び各周波数帯域における音圧レベルとの差が10dB以内
の場合には，この測定から求められた音響パワーの値の精度は低下する。これらのデータは暗騒音の要求
事項に適合しないが，音源の音響パワーレベルの上限を表すことを報告する。
10
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7.7
表面音圧レベルの算出 音源の音響パワーレベルLWは，試験球（又は半球）の表面上で平均した表
面音圧レベルLpfから算出する。この表面音圧レベルLpfは，試験球（又は半球）についての二乗平均音圧
の空間平均から算出する。音圧の読みから表面音圧レベルLpfを得るためには，次の方法が適切である。
7.7.1 固定マイクロホン位置 固定マイクロホン位置を使うときには，次の二つの方法のいずれかによる。
7.7.1.1
等面積 マイクロホン位置が試験球（又は半球）の等部分面積に対応しているときには，表面音
圧レベルLpfを得るために次の式を用いる。
∑
N
i
pf
N
L
1
0.1L
10
pi
10
1
log
10
＝
＝
······················································ (9)
ここに，
Lpf： 表面音圧レベル (dB)，基準値：20μPa
Lpi： i番目のマイクロホン位置について暗騒音の補正をした音圧
レベル (dB) （基準値：20μPa）
N： マイクロホン位置の数
7.7.1.2
不等面積 マイクロホン位置が測定面の不等部分面積に対応しているときには，表面音圧レベル
Lpfを得るために次の式を用いる。
∑
N
i
L
i
pf
pi
S
S
L
1
1.0
10
10
1
log
10
＝
＝
·················································· (10)
ここに，
Lpf： 表面音圧レベル (dB)，基準値：20μPa。
Lpi： i番目のマイクロホン位置について暗騒音の補正をした音圧
レベル (dB) （基準値：20μPa）。
Si： i番目のマイクロホン位置に関する球（又は半球）の部分面
積
S： 測定球（又は半球）面の全面積
N： マイクロホン位置の数
7.7.2
円周マイクロホン経路 マイクロホンを円周経路（7.3.3参照）に沿って移動するときには，表面
音圧レベルLpfは，式(9)から得られる。ここで，Lpiはi番目の経路についての平均音圧レベルである。
7.7.3
子午線及びらせん経路に沿っての移動 7.3.4及び7.3.5に規定される方法を使うときには，表面音
圧レベルLpfはマイクロホン出力を二乗平均し，球の表面積に適当な重みをつけて求められる。適当な面積
の重み付けを行う方法は，附属書E, F及びGに示される。
8. 音響エネルギーレベル算出のための単発音圧レベルの測定
8.1
一般事項 音響エネルギーの単発音又は過渡音の単発音圧レベルの測定のためには，その方法は音
圧レベル測定のために7.に規定される方法と同じである。
8.2
マイクロホン配置 単発音の場合には，測定表面（測定球面又は測定半球面）上のすべてのマイク
ロホン位置で単発音圧レベルを測定する。7.3.2に規定するマイクロホン位置を使用する。放射単発音が十
分な繰り返し性をもっているときには，同時測定の要求事項を緩和してもよい。音源の音響放射が多くの
方向に均一であれば，少数のマイクロホン位置を使ってもよい。音源の放射の繰り返し性が非常によいと
きには，少数のマイクロホンをそれぞれ新しい位置に動かして数回使ってもよい。
11
Z 8732 : 2000 (ISO/DIS 3745 : 2000)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
9. 音響パワーレベル及び音響エネルギーレベルの算出
9.1
音響パワーレベル
9.1.1
自由音場 自由音場では，音源の音響パワーレベルLWは次の式によって算出する。
C
S
S
L
L
pf
W
＋
＋
＝
0
1
10
log
10
·························································(11)
ここに，
Lpf： 試験球上の表面音圧レベル (dB)。基準値：20μPa
S1＝4πr2： （半径rの）試験球の面積
S0＝1m2
C： 温度 (℃) 及び大気圧 (Pa) の影響についての補正項
(dB)
0
10
273
273
400
427
log
25
B
B
C
θ
＋
＝−
········································ (12)
ここに， θ＝温度 (℃)
B0＝1.013×105Pa
備考 補正項Cは，測定場所における実際の気象条件B及びθについて算出する。この項は，測定し
た音響パワーレベルを特性インピーダンスρc＝400Ns/m3に対応する気象条件で測定した値に
調整するために使用する。
9.1.2
反射面上の自由音場 反射面上の自由音場については，音源の音響パワーレベルLWは次の式によ
って算出する。
C
S
S
L
L
pf
W
＋
＋
＝
0
2
log
10
·························································· (13)
ここに，
S2＝2πr2： （半径rの）試験半球の
面積
S0＝1m2
備考 その他の記号は，式(9)と同じである。
9.1.3
重み付け音響パワーレベル及びバンド音響パワーレベル 式(11)及び(13)に使った表面音圧レベル
Lpfの値は，測定システムの重み付け回路（例えば，A特性）を使うか，又は1/3オクターブバンドフィル
タを用いて測定する。重み付け音響パワーレベルの算出には，式(11)［又は式(13)］を1回だけ用いる。バ
ンドパワーレベルを得るためには，対象周波数範囲内の各周波数帯域ごとに算出方法を繰り返す。重み付
け音響パワーレベルはバンドパワーレベルからも求められる。算出方法は附属書Hによる。
9.2
音響エネルギーレベル
9.2.1
自由音場 自由音場（無響室）においては，音源の音響エネルギーレベルLJは次の式によって算
出する。
C
S
S
L
L
pEf
J
＋
＋
＝
0
1
10
log
10
······················································· (14)
ここに， LpEf： 測定球上で平均した表面単発音圧レベル
9.2.2
反射面上の自由音場 反射面上の自由音場（半無響室）においては，音響エネルギーレベルLJは
次の式によって算出する。
C
S
S
L
L
pEf
J
＋
＋
＝
0
2
10
log
10
······················································· (15)
12
Z 8732 : 2000 (ISO/DIS 3745 : 2000)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
10. 記録事項 この規格の要求事項に従って行ったすべての測定について，適用できる次の情報を収集，
記録する。
10.1 測定対象音源
a) 測定対象音源の記述（寸法を含む）
b) 作動条件
c) 設置条件
d) 試験室内の音源の位置
e) 測定対象に幾つかの騒音源があるときには，測定中に作動する音源の記述
10.2 音響環境
a) 試験室の寸法；壁，天井及び床の仕上の記述；音源及びその他の室内容物の位置を示すスケッチ
b) 附属書A又は附属書Bによる試験室の音響特性の適応性
c) 温度 (℃)，相対湿度 (%) 及び大気圧 (Pa)
10.3 測定器
a) 測定に使用した装置（名称，型式，製造番号及び製造業者名）
b) 測定システムの周波数特性
c) マイクロホンの校正方法及び校正の年月日，場所
10.4 音響データ
a) マイクロホン経路又は配列の位置及び向き（必要ならばスケッチ）
b) 適用した場合には，マイクロホンの周波数特性，通過帯域でのフィルタの周波数特性，暗騒音などに
対する各周波数帯域ごとの補正値 (dB)
c) A特性音圧レベル（その他の重み付けはオプション）及び各対象周波数帯域の音圧レベルについて算
出した表面音圧レベルLpf（dB,基準値20μPa）
d) 使用したすべての周波数帯域について算出した音響パワーレベル［dB，基準値1pW (＝10−12W) ］及
びA特性音響パワーレベル
e) 使用したすべての周波数帯域について算出した音響エネルギーレベル［dB,基準値1pJ (＝10−12J) ］及
びA特性音響エネルギーレベル
f)
測定を行った年月日及び時刻
g) 騒音の主観的印象の記述（可聴離散周波数音，スペクトル成分，時間特性など）
h) 必要な場合，指向指数及び指向係数（附属書I参照）
11. 報告事項 報告書には，報告した音響パワーレベル又は音響エネルギーレベルはこの規格の方法に完
全に適合しているかどうかを記述する。報告書には，音響パワーレベルは1pWを基準にしたデシベル値で
あり，音響エネルギーレベルは1pJを基準にしたデシベル値であることを記述する。
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Z 8732 : 2000 (ISO/DIS 3745 : 2000)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
附属書A（規定） 無響室及び半無響室の一般的適性試験方法
A.1 一般事項 一般に，自由音場又は半自由音場についての要求事項は，点音源から放射される音につい
ての逆二乗則からの音圧の許容偏差によって与えられる。
A.2 測定器
A.2.1 一般事項 マイクロホン及びケーブルを含む測定システムはJIS C 1505に規定するクラス1の要求
事項に適合するものとする。使用するフィルタは，IEC 61260に規定するクラス1の要求事項に適合する
ものとする。
A.2.2 試験用音源の種類と位置 室中央（半無響室の場合は反射面上）に設置したスピーカを含む電気音
響システムには，十分な出力レベル，高安定性及び本質的に全指向性をもつものを使用する。
周波数範囲ごとに，次のように異なったスピーカを使うことを推奨する。スピーカの最大寸法は次によ
る。
<400 Hz
直径25cmの導電形スピーカ（半無響室の場合には反射面上8cm以内に設置する）
400〜2000 Hz 直径10cmの2つの導電形スピーカを向き合うように組み合わせてボルト止めにし，呼吸
球として作動するように電気的に接続する。その他の方法としては，前項のスピーカの寸
法を小さくしたものを使用する（半無響室の場合には反射面上2cm以内に置く）
>2000 Hz
細い円管（直径1cm以下）を音の出口とした密閉形スピーカシステム（半無響室の場合に
は反射面から0.5cm以内に置く）
A.3 試験用音源及びマイクロホンの設置
A.3.1 無響室 試験用音源は，その音響中心が測定球面の中心に一致し，さらに望ましくはそれが室の中
心に一致するように設置する。
備考 試験用音源の音響中心が明確に同定できないときには，スピーカの開口中心を音響中心とみな
す。
A.3.2 半無響室 試験用音源の音響中心が反射床面から0.1波長以内になるように，音源を反射床面上に置
く。このためには，試験音源を反射床面に作ったピット内に置くか，又は反射床面のすぐ上に置くことを
推奨する。
A.3.3 マイクロホンの移動 マイクロホンの移動は，試験用音源の音響中心から少なくとも5つの異なっ
た方向の直線経路について行う。基本的なマイクロホン経路は，音源から室の隅に向かう直線である。半
無響室の場合には，反射床面に非常に近く，平行な経路を避ける。
A.4 試験方法
A.4.1 試験音の発生 A.2及びA.3に示す電気音響システムを，測定対象音源の対象周波数範囲にわたる離
散周波数で作動させる。125Hz未満及び4 000Hzを超える中心周波数としては，1/3オクターブ間隔の周波
数を使用する。125〜4 000Hzについてはオクターブ間隔の周波数を使用する。
備考 測定対象音源が広帯域音だけを放射するときには，離散周波数の代わりに1/3オクターブの帯
域雑音を用いてもよい。
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2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
A.4.2 音圧レベルの測定 マイクロホンは，各周波数についてA.3.3に示す経路に沿って移動させる。音圧
レベルの測定は，スピーカの音響中心から0.5mの位置と測定球面又は半球面の間で行う。測定点の間隔
は試験周波数の音の1/4波長以下とする。しかし，1 000Hz以上の周波数では，0.1m程度の間隔とする。
測定点の数は，マイクロホン経路の各方向について10点以上とする。
そのほかには，マイクロホンを連続移動して音圧レベルを記録する。この場合，マイクロホン移動シス
テムからの反射を注意深く避ける。
A.4.3 逆二乗則からの偏差の算出
A.4.3.1 逆二乗則による音圧レベル推定式 A.4.2に示す測定点で測定した音圧レベルから，測定の各方向
ごとに，逆二乗則に基づく音圧レベルの推定値を次の式(A.1)によって算出する。
()
0
10
20
r
r
a
r
Lp
−
＝
································································ (A･1)
ここに，
∑∑
∑
∑
∑
N
i
N
i
N
i
i
i
i
i
N
i
i
N
i
i
q
r
N
q
r
r
N
r
a
1
1
1
1
2
2
1
＝
＝
＝
＝
＝
−
−
＝
∑
∑
∑
∑
∑∑
∑
N
i
i
i
N
i
i
N
i
i
N
i
N
i
N
i
i
i
i
i
N
i
i
q
r
N
q
r
q
r
q
r
r
r
1
1
1
1
1
1
2
1
0
＝
＝
＝
＝
＝
＝
＝
−
−
＝−
qi＝100.05Lpi
ri： 測定球面又は測定半球面の中心からi番目の測定点までの距離
(m)
Lpi： i番目の測定点における音圧レベル (dB)
N： 各測定方向における測定点の数
備考 式(A.1)の適用に対しては，次の事項が重要な前提になる。
音源の強さ“a”は，正の値のみをもつ。
音響中心は音源の近傍にあることを保証することが要求される。これは，r0が音源寸法の2
倍以下である
ことを意味する。
A.4.3.2 逆二乗則からの偏差 逆二乗則に基づく音圧レベルの推定値を使って，すべての測定点における音
圧レベルの逆二乗則からの偏差を次の式によって算出する。
△Lpi＝Lpi−Lp (ri) ···································································· (A.2)
ここに，
△Lpi： 逆二乗則からの偏差 (dB)
Lpi： i番目の測定点における音圧レベル (dB)
Lp (ri)： 逆二乗則から推定した距離riにおける音圧レベル (dB)
A.5 評価方法 A.4.3.2によって算出した偏差は，附属書表A.1に示す値を超えないものとする。
附属書表A.1の偏差は，測定球面又は半球面の許容半径及び測定表面を選定できる音源の周りの最大空
間を決定する。こうして求めた測定面が実際の測定対象音源の近距離音場の外側にあれば，この測定面は
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2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
この規格による音響パワーレベルの算出に適している。
附属書表A.1 理論的逆二乗則からの測定音圧レベルの最大許容偏差
試験室の種類
1/3オクターブバンド周波数 許容偏差
Hz
dB
無響室
≦630
±1.5
800〜5 000
±1.0
≧6 300
±1.5
半無響室
≦630
±2.5
800〜5 000
±2.0
≧6 300
±3.0
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2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
附属書B（規定） 特定騒音源の音響パワーレベル算出
を目的とした他の適正試験方法
B.1 一般事項 自由音場又は反射面上の自由音場を与える環境は，この規格に従って行う測定に使用され
る。
試験室は十分大きく，半無響室の反射面を除いて反射物の影響のない室とする。
試験室は，次のような測定面を与える必要がある。
a) 室の境界面からの望ましくない音の反射がない音場にあること。
b) 試験対象音源の近距離音場の外側にあること。
望ましくない環境の影響を求め，自由音場又は半自由音場の条件をチェックするための方法をこの
附属書に記述する。半無響室における測定のためには，反射面はB.2の要求事項を満足するものとす
る。
B.2 反射面の特性 半無響室の場合，測定は一つの表面が反射性である試験室の反射面上で行う。
備考 特に反射面が地面又は試験室表面の一部分でないときには，その面が振動によって無視できな
い音を放射しないように注意する。
B.2.1 寸法 反射面は，それに対する反射面の投影よりも外側に対象周波数範囲の最低周波数の半波長以
上大きいものとする。
B.2.2 吸音率 反射面の吸音率は，対象周波数範囲において0.06以下とする。
備考 要求事項は，気密コンクリート構造又は20kg/m2以上の軽量構造によって適合する。
B.3 異なった半径の二つの測定球面又は半球面を使う方法（2表面法）
B.3.1 試験音源 一般に，測定対象機械を適正試験の音源として使用する。
ある場合には，附属書A.2.1に規定するスピーカによる電気音響システムをこの方法に使用してもよい。
B.3.2 試験方法 音源を囲む二つの球面（無響室）又は半球面（半無響室）を選定する。第一の面は，音
響パワーレベル算出のための7.2による測定面とする。第一の面の面積をS1とする。面積S2の第二の面は，
第一の面と幾何学的に相似で，さらに離れて位置し，音源に関して対称とする。両表面において，4.3に規
定する暗騒音の規定を満足するものとする。
第二の面におけるマイクロホン位置は，第一の面上のマイクロホン位置に対応させる。面積比S2/S1は2
以上とし，4以上であることが望ましい。
両表面S1及びS2についての平均音圧レベルの測定から，各周波数ごとに次の値を算出する。
1
2
10
2
1
log
10
S
S
L
L
p
p
−
−
＝
δ
························································· (B.1)
ここに，
Lp1： S1上の平均音圧レベル (dB)
Lp2： S2上の平均音圧レベル (dB)
δの値が0.5dB以下であれば，試験室及び測定面S1は，この規格の目的に対して
適当であると判断される。
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2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
附属書C（規定） 自由音場における固定マイクロホンの配列
半径rの球面上の等面積に対応する20点の配置を附属書図C.1に示す。附属書表C.1は，音源の中心に
原点を置くマイクロホン位置を示す。z軸は，水平面 (z＝0) から鉛直上方とする。
附属書表C.1 マイクロホン位置
番号
r
x
r
y
r
z
1
−0.99
0.00
0.15
2
0.50
−0.86
0.15
3
0.50
0.86
0.15
4
−0.45
0.77
0.45
5
−0.45
−0.77
0.45
6
0.89
0.00
0.45
7
0.33
0.57
0.75
8
−0.66
0.00
0.75
9
0.33
−0.57
0.75
10
0.00
0.00
1.00
11
0.99
0.00
−0.15
12
−0.50
0.86
−0.15
13
−0.50
−0.86
−0.15
14
0.45
−0.77
−0.45
15
0.45
0.77
−0.45
16
−0.89
0.00
−0.45
17
−0.33
−0.57
−0.75
18
0.66
0.00
−0.75
19
−0.33
0.57
−0.75
20
0.00
0.00
−1.00
18
Z 8732 : 2000 (ISO/DIS 3745 : 2000)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
附属書図C.1 球面上のマイクロホン配置
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Z 8732 : 2000 (ISO/DIS 3745 : 2000)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
附属書D（規定） 反射面上の自由音場における
固定マイクロホンの基本配列
半径rの半球面上の等面積に対応する10点の配置を附属書図D.1に示す。音源の音響中心の反射面への
投影に原点を置く直角座標 (x, y, z) は，附属書表C.1の1〜10の位置に類似しているが，附属書表D.1に
示すように異なった位置である。高指向性をもった音源については，附属書表D.1の位置を150゜回転し
た追加の10点でも測定する。
音源が卓越した純音成分を放射する場合には，干渉の影響が強く現れる。このような場合には，附属書
表D.2の座標の20点のマイクロホン配置の使用を推奨する。
附属書表D.1 広帯域音源についての推奨マイクロホン位置
No.
x/r
y/r
z/r
1
−1.00
0
0.05
2
0.49
−0.86
0.15
3
0.48
0.84
0.25
4
−0.47
0.81
0.35
5
−0.45
−0.77
0.45
6
0.84
0
0.55
7
0.38
0.66
0.65
8
−0.66
0
0.75
9
0.26
−0.46
0.85
10
0.31
0
0.95
附属書表D.2 音源が顕著な純音を放射するときの推奨マイクロホン位置
No.
x/r
y/r
z/r
1
−1.00
0
0.025
2
0.50
−0.86
0.075
3
0.50
0.86
0.125
4
−0.49
0.85
0.175
5
−0.49
−0.84
0.225
6
0.96
0
0.275
7
0.47
0.62
0.325
8
−0.93
0
0.375
9
−0.45
−0.78
0.425
10
0.88
0
0.475
11
0.85
0
0.525
12
−0.41
0.71
0.575
13
−0.39
−0.68
0.625
14
0.37
−0.64
0.675
15
0.34
0.60
0.725
16
−0.63
0
0.775
17
−0.28
−0.49
0.825
18
0.48
0
0.875
19
0.31
0.33
0.925
20
−0.22
0
0.975
20
Z 8732 : 2000 (ISO/DIS 3745 : 2000)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
附属書図D.1 半無響室における固定マイクロホン10点配置
21
Z 8732 : 2000 (ISO/DIS 3745 : 2000)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
附属書E（規定） 反射面上の自由音場における
移動マイクロホンのための同軸平行円周経路
経路（附属書図E.1参照）は，各経路に対応する半球面の円筒面積が等しくなるように選定されている。
附属書図E.1 マイクロホン移動のための同軸円周経路
22
Z 8732 : 2000 (ISO/DIS 3745 : 2000)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
附属書F（規定） 反射面上の自由音場における
移動マイクロホンのための子午線経路
附属書図F.1 反射面上の自由音場における子午線経路
23
Z 8732 : 2000 (ISO/DIS 3745 : 2000)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
附属書図F.2 子午線経路を実現する移動機構の例
附属書図F.3 回路構成の例
24
Z 8732 : 2000 (ISO/DIS 3745 : 2000)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
附属書G（規定） 反射面上の自由音場における
移動マイクロホンのためのらせん経路
附属書図G.1 反射面上の自由音場におけるらせん経路
25
Z 8732 : 2000 (ISO/DIS 3745 : 2000)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
附属書H（規定） 1/3オクターブバンド音響パワーレベルから
A特性音響パワーレベルを求める方法
A特性音響パワーレベルの算出 A特性音響パワーレベルLWAは，式(H.1)によって算出する。
(
)
∑
max
min
10
/
10
10
log
10
j
j
j
C
L
WA
j
j
W
L
＝
＋
＝
···················································· (H.1)
ここに，
LWj： j番目の1/3オクターブバンド音響パワーレベル (dB)
j, Cj： 附属書表Hに示す値
jmin, jmax： 附属書表Hにおける最低及び最高測定周波数帯域に対応
するjの値
附属書表H 1/3オクターブバンドに対するj及びCの値
j
1/3オクターブバンド中心周波数 (Hz)
Cj (dB)
1
100
−19.1
2
125
−16.0
3
160
−13.4
4
200
−10.9
5
250
−8.6
6
315
−6.6
7
400
−4.8
8
500
−3.2
9
630
−1.9
10
800
−0.8
11
1 000
−0.0
12
1 250
0.6
13
1 600
1.0
14
2 000
1.2
15
2 500
1.3
16
3 150
1.2
17
4 000
1.0
18
5 000
0.5
19
6 300
−0.1
20
8 000
−1.1
21
10 000
−2.5
26
Z 8732 : 2000 (ISO/DIS 3745 : 2000)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
附属書I（参考） 指向指数及び指向係数の算出方法
I.1 自由音場 指向指数DI (dB) は，自由音場での測定から次の式によって算出する。
DI＝Lpi−Lpf
ここに，
Lpi： 音源からの距離rにおいて，DIを求める特定の方向で測定し
た音圧レベル (dB)
Lpf： 半径rの試験球上の表面音圧レベル (dB)
ある方向についての音源の指向係数Qは，次の式から求められる。
Q＝10 log10100.1DI
I.2 反射面上の自由音場 音源の指向指数DI (dB) は，反射面上の自由音場における測定から次の式を
使って算出する。
DI＝Lpi−Lpf
ここに，
Lpi： 音源からの距離rにおいて，DIを求める特定の方向で測定し
た音圧レベル (dB)
Lpf： 半径rの試験半球上の表面音圧レベル (dB)
27
Z 8732 : 2000 (ISO/DIS 3745 : 2000)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
文献
[1] ISO 3744, Acoustics−Determination of sound power levels of noise sources using sound pressure−
Engineering method employing an enveloping measurement surface in an essentially free field over a reflecting
plane
[2] ISO 3746, Acoustics−Determination of sound power levels of noise sources using sound pressure−Survey
method employing an enveloping measurement surface over a reflecting plane
[3] ISO 4871, Acoustics−Declaration and verification of noise emission values of machinery and equipment
[4] ISO 9614-1, Acoustics−Determination of sound power levels of noise sources using sound intensity−Part 1 :
Measurement at discrete points
ISO 9614-2, Acoustics−Determination of sound power levels of noise sources using sound intensity−Part
2 : Scanning method
[5] G. C. Maling, Jr. , R. E. Wise and M. A. Nobile, “Qualification of Hemi−Anechoic Rooms for Noise Emission
Measurements”, Inter-noise 90, 685-690 (Gothenburg−Sweden, August 1990)
原案作成委員会 構成表
氏名
所属
（委員長）
子 安 勝
千葉工業大学
今 井 章 久
武蔵工業大学工学部
今 泉 八 郎
株式会社小野測器
大 西 博 文
建設省土木研究所
押 野 康 夫
財団法人日本自動車研究所
君 塚 郁 夫
日本アイ・ビー・エム株式会社
桑 野 園 子
大阪大学大学院人間科学研究科
佐 藤 宗 純
工業技術院電子技術総合研究所
鈴 木 英 男
株式会社小野測器
鈴 木 陽 一
東北大学電気通信研究所
瀧 浪 弘 章
リオン株式会社
竹 内 恒 夫
環境庁大気保全局
田 近 輝 俊
株式会社環境技術研究所
（主査）
橘 秀 樹
東京大学生産技術研究所
田 中 俊 光
株式会社神戸製鋼所
東 山 三樹夫
工学院大学工学部
平 松 友 孝
大成建設株式会社技術研究所
福 島 寛 和
建設省建築研究所
松 本 晃 一
日本道路公団試験研究所
三 浦 甫
静岡理工科大学理工学部
矢 野 博 夫
千葉工業大学工学部
山 田 一 郎
財団法人小林理学研究所
山 田 英 美
松下インターテクノ株式会社
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Z 8732 : 2000 (ISO/DIS 3745 : 2000)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
山 本 貢 平
財団法人小林理学研究所
米 川 善 晴
労働省労働医学総合研究所
田 仲 信 夫
工業技術院標準部材料機械規格課
橋 本 繁 晴
財団法人日本規格協会
（事務局）
後 藤 健 次
社団法人日本音響学会