JIST62667:2020 医用電気機器－粒子線治療装置

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

（1）

ページ

序文 ··································································································································· 1

1 適用範囲························································································································· 1

2 引用規格························································································································· 2

3 用語及び定義 ··················································································································· 2

4 環境条件························································································································· 9

5 使用者に対する情報の提示 ································································································ 10

6 ビームの供給 ·················································································································· 10

7 線量モニタシステム ········································································································· 18

8 深部線量特性 ·················································································································· 23

9 粒子線ポータルの横方向線量分布 ······················································································· 27

10 エネルギー及びフルエンスの変調を伴う粒子線ポータル（EFM） ··········································· 29

11 指定の体積の照射の所要時間 ··························································································· 30

12 放射線照射野の表示 ······································································································· 30

13 患者支持器 ··················································································································· 33

附属書A（参考）性能値を提示するための様式 ········································································· 41

参考文献 ···························································································································· 76

定義した用語の索引 ············································································································· 77

日本産業規格 JIS

T 62667：2020

(IEC 62667：2017)

医用電気機器−粒子線治療装置−性能特性

Medical electrical equipment-Medical light ion beam equipment-

Performance characteristics

序文

この規格は，2017年に第1版として発行されたIEC 62667を基に，技術的内容及び構成を変更すること

なく作成した日本産業規格である。

なお，この規格で点線の下線を施してある参考事項は，対応国際規格にはない事項である。

適用範囲

この規格は，治療を目的として人間の医療に用いる粒子線医用電気機器（以下，粒子線ME機器という。）

について規定する。

この規格は，核子当たりエネルギーが10 MeV/n〜500 MeV/nの範囲の粒子線を投与する粒子線ME機器

について規定する。

この規格は，粒子線ME機器の製造業者が実施する測定及び試験の手順について規定している。ただし，

受入試験については規定していない。

この規格は，性能特性の決定及び開示のための試験手順を規定する。性能特性の知識は，粒子線ME機

器の適切な選択，適用及び使用のために必要である。性能特性は，正常な使用における特定の条件の下で

予想する最大偏差又は変動とともに，附属文書において宣言しなければならない。性能値を提示するため

の様式を，附属書Aに示す。

性能の評価に際して，試験方法に起因する誤差が現れることを認識している。しかし，この誤差を全体

的な性能許容値に繰り込まずに，より正確な試験方法が進展することを期待して，誤差を分離しておくこ

とが望ましいと考えられる。

新しい設計の機器が患者の治療について同等の，又はより高い水準の性能を達成するのであれば，この

規格で規定しているものとは異なる作動モードパラメータをもつ新しい設計の機器の将来的発展を，この

規格がどのような形であれ禁止するという意図はない。

この規格は，アイソセントリック及び非アイソセントリックの両者の架台に適用する。しかし，多くの

試験は，粒子線ME機器がアイソセントリック架台をもつと仮定している。機器が非アイソセントリック

である場合は，性能及び試験方法の規定は，適切に修正することも可能である。

注記この規格の対応国際規格及びその対応の程度を表す記号を，次に示す。

IEC 62667:2017，Medical electrical equipment−Medical light ion beam equipment−Performance

characteristics（IDT）

なお，対応の程度を表す記号“IDT”は，ISO/IEC Guide 21-1に基づき，“一致している”こ

とを示す。

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

引用規格

次に掲げる規格は，この規格に引用されることによって，この規格の規定の一部を構成する。これらの

引用規格は，記載の年の版を適用し，その後の改正版（追補を含む。）は適用しない。

JIS T 0601-1:2017 医用電気機器−第1部：基礎安全及び基本性能に関する一般要求事項

注記対応国際規格：IEC 60601-1:2005，Medical electrical equipment−Part 1: General requirements for

basic safety and essential performance及びAmendment 1:2012

JIS T 0601-2-64:2016 医用電気機器−第2-64部：粒子線治療装置の基礎安全及び基本性能に関する個

別要求事項

注記対応国際規格：IEC 60601-2-64:2014，Medical electrical equipment−Part 2-64: Particular

requirements for the basic safety and essential performance of light ion beam medical electrical

equipment

JIS Z 4005:2012 医用放射線機器−定義した用語

注記対応国際規格：IEC/TR 60788:2004，Medical electrical equipment−Glossary of defined terms

JIS Z 4705:2015 医用電気機器−第2-1部：1 MeV〜50 MeVの電子加速装置の基礎安全及び基本性能

に関する個別要求事項

注記対応国際規格：IEC 60601-2-1:2009，Medical electrical equipment−Part 2-1: Particular

requirements for the basic safety and essential performance of electron accelerators in the range 1

MeV to 50 MeV及びAmendment 1:2014

IEC 60580:2000，Medical electrical equipment−Dose area product meters

IEC 61217:2011，Radiotherapy equipment−Coordinates, movements and scales

用語及び定義

この規格で用いる主な用語及び定義は，JIS T 0601-1:2017，JIS T 0601-2-64:2016，JIS Z 4005:2012，JIS

Z 4705:2015及びIEC 60580:2000によるほか，次による。

3.1

受入試験（ACCEPTANCE TEST）

新しい機器を設置するか，又は既存の機器を大幅に改造した後に，契約仕様を満たしているかどうかを

確認するために，使用者の施設において実施する試験。

注記受入試験の最中又は直後に，将来の日常的試験との比較のための基準として使用する参照デー

タの収集が行われる。

［JIS Z 4005:2012の定義10008修正（“使用者の施設において”を追加）］

3.2

附属文書（ACCOMPANYING DOCUMENTATION）

ME機器とともに提出する資料。使用者又はME機器の据付，使用及び保守に当たる作業者のための情

報，特に安全な使用に関する情報を含む。

注記1 附属文書は，取扱説明書，技術解説，据付マニュアル，クイックリファレンスガイドなどか

ら成ることがある。

注記2 附属文書は，聴覚的，視覚的又は触覚的資料を含むことがあり，マルチメディアタイプであ

ることもある。

注記3 この規格で提供する性能特性は，潜在的な需要者が購入前に意味のある製品間の比較をする

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

ことができるようにすることを意図して開示されている。

［IEC 62366-1:2015の定義3.2修正（注記2及び注記3の置換）］

3.3

患者コリメータ（APERTURE）

放射線が患者に到達するのを可能とする，放射線が減衰しない開口部をもつ，患者及び放射線照射野に

固有の照射野限定器。

3.4

アプリケータ架台（APPLICATOR CARRIAGE）

工具を使用しなければ分離することが不可能な照射ヘッドの最遠部。粒子線アプリケータを装着する。

アイソセンタ又は機器参照点に対して繰出し及び引込みが可能なことがある。

注記通称としてアプリケータ架台をスノートと呼ぶことがある。

（JIS T 0601-2-64:2016の定義201.3.201）

3.5

線量モニタユニット（DOSE MONITOR UNIT）

線量モニタシステムから得るパラメータ。校正手順を経て，付加的な情報と併せることによって，吸収

線量の計算が可能となる。

（JIS T 0601-2-64:2016の定義201.3.207）

3.6

線量モニタユニット率（DOSE MONITOR UNIT RATE）

単位時間当たりの線量モニタユニット。

（JIS T 0601-2-64:2016の定義201.3.208）

3.7

電子イメージング装置，EID（ELECTRONIC IMAGING DEVICE，EID）

単体又は複数の放射線検出器及び付随する電子回路によって構成し，患者の解剖学的組織を画面上にて

デジタル放射線画像として見ることを可能とする装置。

（IEC 60976:2007の定義3.5）

3.8

核子当たりエネルギー（ENERGY PER NUCLEON）

照射ヘッド内のビーム整形器通過前の地点におけるイオンの全運動エネルギーを，イオンの核子数で除

したもの。

（JIS T 0601-2-64:2016の定義201.3.211）

3.9

エントランス−ピーク線量比（ENTRANCE-TO-PEAK DOSE RATIO）

飛程非変調ポータルについて，アイソセンタ又は機器参照点から指定した距離に表面位置を設定した水

等価ファントムの中，粒子線参照軸上で測った，10 mm水等価深さの点とピークの点との吸収線量の比。

注記1 10 mm深の点で吸収線量を測る例として，平行平板電離箱，撮影用フィルム，ダイオードな

どをプラスチックのファントム中に置く方法がある。

注記2 測定点の記載として，図1を参照。

3.10

機器参照点，ERP（EQUIPMENT REFERENCE POINT, ERP）

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

寸法の参照及び線量計測の実施のために定めた空間内の参照点。

注記典型的には，機器参照点はアイソセンタと一致する。もしビーム照射機器がアイソセントリッ

クでない場合は，患者位置決めシステムの中心を用いることがある。

（JIS T 0601-2-64:2016の定義201.3.212）

3.11

フルエンス（FLUENCE）

dNをdaで除した商。

Φ=

ここに，dNは断面積daの球殻に入射した粒子数である。

注記 ICRU 85aからの定義。

［JIS T 0601-2-64:2016の定義201.3.213修正（新しい定義）］

3.12

フラックス（FLUX）

dNをdtで除した商。

・

ここに，dNは時間間隔dtでの粒子数の増加である。

注記 ICRU 85aからの定義。

［JIS T 0601-2-64:2016の定義201.3.214修正（新しい定義）］

3.13

架台（GANTRY）

照射ヘッドを支持している，ME機器の部分。

注記1 架台のタイプとしては，回転アイソセントリック，回転エキセントリック，固定，又は複数

離散角（1台の照射ヘッドが2点以上の離散角を動く）がある。

注記2 架台は，動きの制限にかかわらず，照射ヘッドを支持する機械的装置である。

［JIS Z 4705:2015の定義201.3.206修正（注記1及び注記2の追加）］

3.14

照射開始（INITIATION OF IRRADIATION）

照射中断からではなく，操作条件を選択及び確認して準備完了状態にあるとき，この準備完了状態から

照射を開始すること。

（JIS Z 4005:2012の定義10510）

3.15

照射中断，照射を中断する（INTERRUPTION OF IRRADIATION, TO INTERRUPT IRRADIATION）

運転条件を再選択せずに照射継続の可能性がある照射及び動きの停止，又は同様のような条件で照射及

び動きを停止すること。

（JIS Z 4705:2015の定義201.3.210）

3.16

照射（IRRADIATION）

生物又は物体に放射線を当てること。放射線学においては，生物又は物体に電離放射線を当てること。

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

注記電離放射線の例として，X線，ガンマ線，電子線，中性子線，粒子線がある。

［JIS Z 4005:2012の定義10549修正（電離放射線の例を注記へ移動）］

3.17

照射時間（IRRADIATION TIME）

規定の方法によって決定した照射期間。通常は，放射線量率がある指定の基準を超えている時間。

（JIS Z 4005:2012の定義10553）

3.18

アイソセントリック（ISOCENTRIC）

放射線学の技法又は装置と組み合わせて用いるとき，アイソセンタを用いていること又はそれが存在し

ていること。

（JIS Z 4005:2012の定義10559）

3.19

アイソセントリック装置（ISOCENTRIC EQUIPMENT）

アイソセンタをもつように設計し，組み立てた放射線治療用の機器。

（JIS Z 4005:2012の定義10560）

3.20

アイソセントリック治療（ISOCENTRIC TREATMENT）

放射線治療において，標的体積の位置がアイソセンタと一致する患者の治療。

（IEC 60976:2007の定義3.12）

3.21

横方向拡大器，LSD（LATERAL SPREADING DEVICE, LSD）

加速器で生成した小さな径をもった粒子線の横方向寸法（Xg，Yg）を拡大するために用いる機器。

例拡大器の例には，イオンを散乱する薄い金属はく（箔），ビームを非集束化するための磁石又は意

図した標的体積を横切ってビームを横方向に走査するための磁石がある。

注記定義は，JIS T 0601-2-64:2016から採用したが，当該規格の発行後の検討の結果では，架台座標

系の方がより適切であるとしている。

［JIS T 0601-2-64:2016の定義201.3.217修正：“（Xb，Yb）”を“（Xg，Yg）”へ置換し，注記の文言を変更］

3.22

リーフ架台（LEAF CARRIAGE）

多分割照射野限定器の一方の側の全リーフを同時に並進移動するための機器。

注記リーフ架台の主要な目的は，効果的に拡大した照射野寸法による治療を可能にすることである。

3.23

軽イオン（LIGHT ION）

原子番号がネオン以下（Z≦10）で，陽子数，核子数及び電離状態で指定のイオン種。

（JIS T 0601-2-64:2016の定義201.3.218）

3.24

粒子線（LIGHT ION BEAM）

全体として同方向に運動している軽イオンの集団。

注記我が国で使用されている一般的な名称。英文直訳である“軽イオン線”は用いない。

（JIS T 0601-2-64:2016の定義201.3.219）

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

3.25

粒子線アプリケータ（LIGHT ION BEAM APPLICATOR）

粒子線投与の間，照射野限定器又は附属品を患者の皮膚近くに保持するための機器。

注記1 技師が持ち上げる患者コリメータの質量を減らすため，患者コリメータ（又は附属品）と皮

膚との距離を縮めるため，及び漏れ放射線を減らすために，複数の粒子線アプリケータを利

用可能とすることがある。

注記2 粒子線アプリケータによって保持する附属品には，レンジシフタ，アラインメント用十字線，

リッジフィルタ，患者監視用の鏡又はカメラ，ビームモニタなどがある。

［JIS T 0601-2-64:2016の定義201.3.220修正（注記1の文言を変更，注記2を追加）］

3.26

粒子線アプリケータ長（LIGHT ION BEAM APPLICATOR LENGTH）

粒子線アプリケータを取り付けたときの，アプリケータ架台の最下流端面と粒子線アプリケータの最下

流端面との間の距離。

3.27

粒子線飛程（LIGHT ION BEAM RANGE）

飛程非変調ポータルの吸収線量が，ピーク吸収線量深における吸収線量の80 %となるような，水等価フ

ァントム中の表面からの最大深さ。指定の放射線照射野について，ファントムの表面を機器参照点から指

定の距離にセットし，照射ヘッド中には，核子当たりエネルギー又は飛程のモニタシステムと測定点との

間にレンジシフタ又は附属品を装着せずに，粒子線参照軸上で測定する。

3.28

粒子線参照軸（LIGHT ION REFERENCE AXIS）

粒子線について，粒子線仮想線源の中心を通る基準方向の線。

3.29

変調スキャニング（MODULATED SCANNING）

異なる横方向位置では患者に投与するフルエンスが異なるように，小さな径の粒子線を標的の横方向に

走査し，標的をカバーするのに十分な大きさの照射野を作るスキャニングモード。

注記変調したフルエンス分布を生成するために，種々の空間的及び時間的な走査パターンが用いら

れることがある。

（JIS T 0601-2-64:2016の定義201.3.223）

3.30

公称飛程変調幅，NRMW（NOMINAL RANGE MODULATION WIDTH, NRMW）

飛程変調ポータルにおいて，核子当たりエネルギーの最大及び最小の成分の間の粒子線飛程の差。

注記追加的な情報に関しては，図2を参照。

3.31

飛程非変調ポータル，NRMP（NON-RANGE MODULATED PORTAL, NRMP）

飛程変調器又は粒子線の到達深度を変化させるプログラムを使わない粒子線ポータル。

3.32

ポータル（PORTAL）

一度の患者設定で自動的に治療が行われる事前にプログラムした治療の部分の，一つ以上の集まり。

注記部分は，照射，装置の動き又は撮像から成ることがある。

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

［JIS T 0601-2-64:2016の定義201.3.228修正（注記で“治療ビーム照射”を“照射”へ変更）］

3.33

プログラマブル飛程変調ポータル，PRMP（PROGRAMMABLE RANGE MODULATED PORTAL, PRMP）

複数の構成部分の飛程及び重み付け因子を変えることによって，プログラムが深部線量分布を調整する

ために用いるような粒子線ポータル。飛程変調器は，併用することもしないこともある。

注記1 典型的には，標的体積（腫瘍）が存在する深さの範囲にわたって均一な線量分布を与えるよ

うに深部線量分布が調整される。

注記2 ここではエネルギー積層照射法を取り扱っており，飛程変調器とはレンジシフタを指してい

る。

［JIS T 0601-2-64:2016の定義201.3.231修正（注記1で“標的”を“標的体積”へ変更）］

3.34

照射ヘッド（RADIATION HEAD）

放射線ビームを照射する機構。

［JIS Z 4005:2012の定義10904修正（用語を変更）］

注記 JIS Z 4005:2012（10904）での用語は，放射線ヘッドであるが，より慣用度が高い照射ヘッドに

変更した。

3.35

飛程変調ポータル，RMP（RANGE MODULATED PORTAL, RMP）

飛程変調器又はプログラムが深部線量分布を調整するために用いるような粒子線ポータル。

［JIS T 0601-2-64:2016の定義201.3.231修正（定義の変更，及び注記1の削除）］

3.36

飛程変調器，RMD（RANGE MODULATION DEVICE, RMD）

ポータルの投与中に深部線量分布を調整する際に患者体内への放射線ビームの侵入深さを変調するた

めに用いる装置。

注記装置は，ビーム中で回転するプロペラ状の物質，金属製の尾根（リッジ）の繰返しパターン形

状をもったフィルタ（例リッジフィルタ，ミニリッジフィルタ，リップルフィルタ），円すい

体若しくは円すい体の組，又は2進法的にプログラマブルな均一厚ブロックの組から成ること

がある。サブタイプとしては，離散型及びプログラマブル型がある。

［JIS T 0601-2-64:2016の定義201.3.233修正（“ビーム”を“放射線ビーム”へ変更）］

3.37

スキャニングモード（SCANNING MODE）

横方向に広い照射野を生成する，走査した放射線ビームの投与法。

注記スキャニングモードのタイプには，スキャニングなし，一様スキャニング及び変調スキャニン

グがある。

［JIS T 0601-2-64:2016の定義201.3.236修正（“ビーム”を“放射線ビーム”へ変更，及び注記で“スキ

ャニングなし”を追記）］

3.38

スキャニングパターン同期タイプ（SCANNING PATTERN SYNCHRONIZATION TYPE）

スキャニングパターンに沿ったスポットの走査を開始するために使う方法。

注記スキャニングパターン同期タイプには，同期なし，エネルギー層に同期，スピルに同期，呼吸

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

に同期，ビームゲーティング信号に同期，又は使用者定義がある。

3.39

スポット（SPOT）

径の小さな粒子線と粒子線参照軸に垂直な平面との交差領域。

3.40

天板（TABLE TOP）

患者支持器に装着し，位置照合及び患者固定のための装置を装着し，患者を載せるための装置。

注記天板は，患者又は機器を異なる向きに保持するために，交換可能であることがしばしばある。

例として，平板又は椅子がある。

［JIS T 0601-2-64:2016の定義201.3.238修正（“交換可能な装置”を“装置”へ変更，及び注記を追記）］

3.41

テール−ピーク線量比（TAIL-TO-PEAK DOSE RATIO）

飛程非変調ポータルについて，アイソセンタ又は機器参照点から指定の距離に表面位置を設定した水等

価ファントムの中，粒子線参照軸上で測った，粒子線飛程より30 mm深い点とピークの点との間の吸収線

量の比。

注記測定点の記載として，図1を参照。

3.42

標的体積（TARGET VOLUME）

放射線治療において，吸収線量を与えようとする患者の部位。

［JIS Z 4005:2012の定義11146修正（用語を変更）］

注記 JIS Z 4005:2012（11146）での用語は標的容積であるが，より慣用度が高い標的体積に変更した。

3.43

照射終了，照射を終了する（TERMINATION OF IRRADIATION/ TERMINATE IRRADIATION）

準備状態へ戻らなければ再開が不可能である照射及び動作の停止，又は照射及び動きを停止すること。

注記照射を終了させ動きを停止させる事象には，次のようなものがある。

− 事前選択した値に線量モニタユニットの値が到達した場合

− 事前選択した値に線量モニタシステムとは独立した終了システムの値が到達した場合

− 意図的な手動操作

− インタロックの作動

− 変調スキャニングにおいて，事前にプログラムしたスキャニングパターンが完了した場合

［JIS Z 4705:2015の定義201.3.225修正（本文及び注記の文言を変更）］

3.44

形式試験（TYPE TEST）

設計及び製造した機器がこの規格の要求事項に適合することができるかどうかを判定するための，機器

の代表的なサンプルでの試験。

（JIS T 0601-1:2017の定義3.135）

3.45

一様スキャニング（UNIFORM SCANNING）

標的を治療するのに十分な大きさの照射野を作り出すために放射線ビームが事前に決めたパターンで

横方向に走査するスキャニングモード。この横方向走査の間，照射野内の線量分布が一様となるように，

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

放射線ビームのフラックスは意図的には変更しない。

注記ビームが通過する電磁石の電流を変更することによって，又は機械的に回転・並進移動した永

久磁石によって，スキャニングすることがある。

［JIS T 0601-2-64:2016の定義201.3.243修正（“ビーム”を“放射線ビーム”に変更）］

3.46

一様スキャニングパターン（UNIFORM SCANNING PATTERN）

一様スキャニングモードにおいて，スポットが従う事前に決めた横方向のパターン。

注記一様スキャニングパターンには，リサージュ，直線繰返し，三角形繰返し，円繰返し，らせん

繰返し，又は使用者定義がある。

3.47

仮想線源回転軸間距離，VSAD（VIRTUAL SOURCE-TO-AXIS DISTANCE, VSAD）

仮想線源からアイソセンタ（すなわち，架台の回転軸）又は機器参照点までの距離。

注記1 この距離は，患者固有の装置の製作のために，又は走査する放射線ビームの位置を患者に投

影するために使用することができる。

注記2 複数のスキャニング磁石をアイソセンタから異なる距離に設置した場合，放射線ビームは複

数の仮想線源回転軸間距離をもつこともある。

3.48

水等価厚，WET（WATER EQUIVALENT THICKNESS, WET）

減弱量（光子又は中性子のビームの場合）又は電子阻止能起因のエネルギー損失の積分値（荷電粒子の

ビームの場合）が測定対象の物質と等しくなる水の厚さ。

注記放射線治療計画システムにおいて，水等価厚は，サンプルした線上にある全てのボクセルに対

する，相対的線電子阻止能（荷電粒子ビームの場合）又は相対的線減弱係数（X線又は中性子

線ビームの場合）の積分値である。水等価厚は，サンプリング時にアクティブなビームのタイ

プ及びエネルギーに対して計算する。

環境条件

4.1

一般

製造業者は，附属文書に列挙した性能を達成する環境条件の範囲を，附属文書に含めなければならない。

これらの条件には，少なくとも周囲温度（℃で記載），相対湿度及び気圧［パスカル（Pa）で記載］を含め

なければならない。

4.2

輸送及び保管

輸送及び保管に関する許容可能な環境条件を附属文書に記載しなければならない。

4.3

建屋の安定性

保守作業なしで機器の性能特性を保持する上で許容可能な最大建屋変形量を附属文書に記載しなければ

ならない。

注記沈下，地震，振動などによる，許容可能な最大建屋変形量は，計算によって求めることもでき

る。

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

使用者に対する情報の提示

5.1

一般

この規格が要求する使用者への情報は，附属書Aに示す様式によって提供しなければならない。

附属書Aの項目と同等の情報を含んでいれば，書式は多少異なっていてもよい。

5.2

意図したパラメータ

製造業者が意図したビームパラメータの組合せを附属文書に明記しなければならない。

注記例えば，計画した位置におけるスポット当たりの最大線量モニタユニット，散乱体及び粒子線

アプリケータの互換性などである。

ビームの供給

6.1

軽イオン種

粒子線加速器によって加速し各架台に供給する可能性がある各軽イオン種に関する次の情報を附属文

書に記載しなければならない。

a) 一般名称

b) 核内の陽子数

c) 核内の核子数

注記照射ヘッドに入ってくる粒子線ビームは，全ての電子を剝ぎ取った軽イオンから成ると想定さ

れる。

6.2

エネルギー

6.2.1

核子当たりエネルギー又は粒子線飛程の選択法

各架台の照射ヘッドに選択した核子当たりエネルギー又は粒子線飛程を与えるために使う方法を附属

文書に記載しなければならない。

注記選択法の例として，加速器からの引出し，連続的な飛程シフト又は離散的な飛程シフトがある。

6.2.2

利用可能な核子当たりエネルギー又は粒子線飛程の範囲

各軽イオン種について，利用可能な核子当たりエネルギー又は粒子線飛程の最大値及び最小値，並びに

附属品を装着しなくても実現できる中間の段数を，附属文書に記載しなければならない。

6.2.3

核子当たりエネルギー又は粒子線飛程を確認する方法

供給中に核子当たりエネルギー又は粒子線飛程が正しいことを確認するために使う，主要な方法及びバ

ックアップの方法を，附属文書に記載しなければならない。

6.2.4

核子当たりエネルギー又は粒子線飛程の精度（accuracy）

供給中の粒子線ビームの核子当たりエネルギー又は粒子線飛程の精度（accuracy）を，MeV/n又はミリ

メートル（mm，水等価値）の単位で附属文書に記載しなければならない。

6.3

ビームゲーティング

6.3.1

ビームゲーティングの方法

ビームゲーティングが利用可能な場合，治療中のビームの供給を許可及び不許可にする方法を附属文書

に記載しなければならない。

6.3.2

ビームゲーティングが要求する入力トリガ

互換性のある入力装置に関する記載，又は入力装置のインタフェースに関する記載を附属文書に記載し

なければならない。

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

6.4

架台

6.4.1

架台のタイプ

粒子線加速器によって加速し，各架台に供給する可能性がある各軽イオン種に関して，次の情報を附属

文書に記載しなければならない。

a) 利用可能な架台のタイプ

注記回転架台の例を図3に示す。

b) 各軽イオン種を取り扱う単一システムで利用可能な各架台タイプ

6.4.2

架台の設定

各回転架台に関して，取扱い可能な軽イオンの一覧を附属文書に記載しなければならない。取扱い可能

な各軽イオンに関して，次の情報を附属文書に記載しなければならない。

a) IEC 61217:2011の座標系に基づいた，実現可能な最大及び最小の架台角度

b) 架台の回転範囲にオーバーラップが存在する場合，オーバーラップしている範囲の最小及び最大角度

注記オーバーラップが存在する場合，典型的には最小角度の方が最大角度より大きい。

c) 架台で利用可能な最小及び最大核子当たりエネルギー又は粒子線飛程

d) 角度毎秒（°･s-1）で表した最大回転速度

e) 最大角加速度及び減速度

緊急停止開始後の停止までの最大回転角度

各固定タイプ架台に関して，IEC 61217:2011の固定参照座標系で与える架台角度を附属文書に記載しな

ければならない。

各複数離散角タイプ架台に関して，IEC 61217:2011の固定参照座標系で与えるビーム照射角度を附属文

書に記載しなければならない。

6.4.3

架台角度の読出し

回転及び複数離散角タイプ架台の角度読出し精度（accuracy）を附属文書に記載しなければならない。

精度（accuracy）は，度の単位で10進法で記載する。ただし，固定タイプ架台には適用しない。

6.5

アプリケータ架台

アプリケータ架台に関して，次の情報を附属文書に記載しなければならない。

a) アプリケータ架台を完全に引き込んだとき及び繰り出したときの，粒子線アプリケータ搭載インタフ

ェースと，アイソセンタ又は機器参照点との間の距離

b) アプリケータ架台の繰出し及び引込みの読出し精度（accuracy）

c) 最小及び最大並進速度

d) 緊急停止開始後の停止までの最大距離

6.6

粒子線アプリケータ

各架台タイプに対して利用可能な各粒子線アプリケータに関して，次の情報を附属文書に記載しなけれ

ばならない。

a) 一般名称

b) 識別子

c) 形状（円形，正方形，長方形）

d) 粒子線アプリケータ長

e) アプリケータ架台を完全に繰り出したときの，粒子線アプリケータの先端部からアイソセンタ又は機

器参照点までの距離

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

利用可能な患者コリメータの外形寸法

g) 粒子線参照軸に垂直な粒子線アプリケータの外形寸法について，先端部及び先端部から300 mmの位

置での寸法，もし粒子線アプリケータ長が300 mm以下の場合は最大寸法

h) 粒子線アプリケータが使用者による交換を意図している場合，取扱説明書に記載した方法で粒子線ア

プリケータの交換にかかる見込み時間（分）

質量（kg）

粒子線アプリケータで実現可能な最大粒子線照射野寸法（Xb及びYb軸から成る座標系上でのミリメー

トル表記での値）

注記 Xb及びYb軸から成る座標系は，IEC 61217:2011を参照。

6.7

調整可能な照射野限定器

6.7.1

使用者に対する情報

調整可能な照射野限定器に関して，次の情報を附属文書に記載しなければならない。

a) 粒子線照射野を規定する全ての調整可能な照射野限定器に関して，調整可能な照射野限定器位置での

動作可能な最大範囲（Xb及びYb軸座標系の座標値を含む，ミリメートル表記での値）

b) 照射野限定器が動作可能な最大速度［調整可能な照射野限定器位置での，ミリメートル毎秒（mm/s）

表記での値］

c) 加えて，多分割タイプ以外の照射野限定器によって規定する，長方形タイプの軽イオンの照射野に対

して，次の情報を記載しなければならない。

1) 対向する辺縁同士の平行からの最大角度偏差［度（°）表記での値］

注記1 加えて，使用者は形状に関する情報を要求することもできる。

2) 隣接する辺縁同士の直角度の最大角度偏差［度（°）表記での値］

d) 粒子線参照軸周りの照射野限定器の回転の最大及び最小回転角度［照射野限定器座標系（IEC

61217:2011参照）における角度表記での値］

e) 加えて，多分割照射野限定器に関して，次の情報を附属文書に記載しなければならない。

1) 全寸法（ミリメートル表記での値）及び材質の記載を含む機器配置図

2) 照射野限定器の構成［例 1対（対向する組），2対（二つの垂直に対向する組）］

3) リーフ端の形状：曲線，ジグザグ，直線，放射状

注記2 ジグザグ形の照射野限定器は，リーフ端が下端面に垂直でなく，端面に対する角度が交

互に入れ替わる照射野限定器である。

4) 機構装置のリーフの数並びにXb及びYb（IEC 61217:2011参照）に平行な方向の寸法

5) Zb軸に平行な方向のリーフの厚さ

6) リーフ架台の移動なしで，調整可能な照射野限定器位置において，Xb及びYb軸から成る座標系（IEC

61217:2011参照）における，センチメートル表記での利用可能な粒子線照射野寸法

7) 多分割照射野限定器がリーフ架台をもつ場合，リーフ架台の移動範囲

8) 調整可能な照射野限定器位置において，リーフ端の位置の精度（accuracy）（センチメートル表記で

の値）

9) 調整可能な照射野限定器位置でのリーフ端の位置の再現性（センチメートル表記での値）

10) 調整可能な照射野限定器位置において，製造業者指定のリーフの最小及び最大速度［ミリメートル

毎秒（mm/s）表記での値］

11) 調整可能な照射野限定器位置において，リーフ位置の読出し分解能

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

12) 粒子線アプリケータ，患者コリメータ，附属品，又は飛程変調器のような，取外し可能又は固定の

放射線照射野形成機器を組み合わせた使用の可否

13) 調整可能な照射野限定器の予備品使用上の判定基準

14) 調整可能又は交換可能な照射野限定器の後ろにある患者平面内（JIS T 0601-2-64:2016の図201.103

の領域P）における，照射野限定器がないときに照射野の中心軸上，幅60 mmの公称飛程変調幅の

飛程変調の深さ中心にある機器参照点に供給する吸収線量に対する平均吸収線量。利用可能な公称

飛程変調幅が60 mm未満の場合は，最大公称飛程変調幅を用いる。この要求が適用する領域Pは，

ビーム軸から，ビーム軸に沿って患者平面へ投影した，粒子線アプリケータ又は多分割照射野限定

器によって実現できる最大照射野寸法（50 %等線量レベルで定義する）の辺縁の横方向150 mm外

までである。

注記3 JIS T 0601-2-64の試験手順と同一である。

6.7.2

試験

情報を含むか確認するために附属文書を検査する。

6.8

アイソセンタ

6.8.1

使用者に対する情報

アイソセントリック治療のために設計したアイソセントリック架台については，アイソセンタに対する

粒子線参照軸の最大変位を照射ヘッド及び粒子線アプリケータそれぞれについて附属文書に記載しなけ

ればならない。変位の補正のためにソフトウェアを使用する場合，補正を自動的に適用するのであれば，

記載する変位は補正を適用したときの測定結果を使用し，使用者が補正を適用するかしないかを選べるの

であれば，補正を適用しなかったときの測定結果を使用しなければならない。

最大変位は，ミリメートル（mm）表記で記載しなければならない。

回転架台については，架台角度で45°以下ごとに変位を測定しなければならない。

複数離散角架台については，利用可能な架台角度それぞれで変位を測定しなければならない。ただし，8

角度を超える架台角度で測定する必要はない。

記載する変位は，規定した測定角度での架台の変位，照射野限定システムの変位，最大核子当たりエネ

ルギー及び最小核子当たりエネルギーそれぞれにおける粒子線の変位のいずれか最大変位でなければな

らない。

アプリケータ架台を備える装置については，アイソセンタに最も接近した位置にアプリケータ架台を設

置し，利用可能な粒子線アプリケータそれぞれについて最大変位を記載しなければならない。

連続回転可能な照射野限定システムについては，照射野限定システムの角度で45°以下ごとに変位を測

定しなければならない。

連続回転しない照射野限定システムについては，利用可能な照射野限定システムの角度それぞれで変位

を測定しなければならない。

最大変位は，軽イオン種ごとに個別に記載しなければならない。

最大変位は，スキャニングモードごとに個別に記載しなければならない。

想定したアイソセンタに対する粒子線参照軸の偏差を評価する試験方法を附属文書に記載しなければ

ならない。

注記患者位置決めに使用する画像システムと治療システム座標系との相関関係は，JIS T

60601-2-68:2019の201.101.9.1に記載されている。

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

6.8.2

試験

アイソセントリック治療のために設計した架台について，アイソセンタに対する粒子線参照軸の偏差を

評価する試験方法を記載していることを確認するために，附属文書を検査する。

アイソセンタに対する粒子線参照軸の偏差を記載していることを確認するために，附属文書を検査する。

6.9

横方向拡大器（LSD）

6.9.1

照射ヘッドにおける横方向拡大器のタイプ及び順序

照射のために横方向拡大器が使用者によって選択可能な場合，利用可能な架台タイプごとの横方向拡大

器それぞれについて，次の情報を附属文書に記載しなければならない。

a) 上流から下流への照射ヘッド内での順序

b) 横方向拡大器のタイプ

c) 横方向拡大器のサブタイプ

注記1 横方向拡大器のタイプの例：連続散乱体，離散的散乱体又は磁場を用いたもの。

注記2 連続散乱体タイプ横方向拡大器のサブタイプの例：ダブルウェッジ，スパイラルウェッジ，

又は可変コラム

注記3 離散的散乱体タイプ横方向拡大器のサブタイプの例：離散型，バイナリ型，コンター型，リ

ング型

注記4 磁場を用いた横方向拡大器のサブタイプの例：Xg走査型，Yg走査型，Xg及びYg走査型を組み

合わせたもの，又は収束型

注記5 多くの走査電磁石は，スポットを垂直又は水平の一方向に走査する。走査電磁石を組み合わ

せることで二方向同時に走査することができる。

6.9.2

ビームを横方向に拡大するためのスキャニングモード

附属文書には，利用可能なスキャニングモードの一覧を記載しなければならない。

注記散乱体タイプの横方向拡大器は，あらゆるスキャニングモードと組み合わせて使用することが

可能である。

6.9.3

一様スキャニング

一様スキャニングモードが利用可能な場合，次の情報を附属文書に記載しなければならない。

a) 全ての利用可能な一様スキャニングパターンのタイプ

b) 全ての調整可能な照射野限定器が全開，かつ，全ての取外し可能な照射野限定器を外した状態で，走

査照射野中心での吸収線量の50 %等線量曲線で規定する走査照射野の形状

注記1 形状には，正方形，長方形，円形などがある。

c) 粒子線スポットが照射野限定器又は粒子線アプリケータを越えて走査するXg，Yg両方向（IEC

61217:2011参照）におけるアイソセンタ又は機器参照点に投影した距離

注記2 この距離は，オーバースキャン距離として用いられる。

d) 利用可能な最大照射野寸法及び製造業者指定の条件で，機器参照点を包含する粒子線参照軸に垂直な

平面内で±3 %以下の横方向線量平たん度を得る，最小吸収線量。横方向線量平たん度を±3 %以下に

できない場合，達成した横方向線量平たん度，及び平たん度を得るための最小吸収線量。

e) 製造業者がビームゲーティングと組み合わせた使用を推奨しない一様スキャニングパターンがある

場合，その旨の記載

6.9.4

ビームを走査するための同期のタイプ

全ての利用可能なスキャニングパターン同期タイプの一覧を附属文書に記載しなければならない。

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

6.9.5

仮想線源回転軸間距離（VSAD）

6.9.5.1

使用者のための情報

スキャニングモード及び横方向拡大器の各組合せについて，各架台のアイソセンタ又は機器参照点に対

する最小の仮想線源回転軸間距離の一覧を附属文書に含めなければならない。仮想線源回転軸間距離は，

走査方式の場合はXg及びYgの両方向（IEC 61217:2011参照）を記載しければならない。加えて，散乱体

によって横方向に拡大した粒子線の場合，各粒子線アプリケータ（散乱体によって形成する照射野の直径）

に対し，仮想線源回転軸間距離を含める。ここでは，取り得る全ての横方向拡大器の組合せについての情

報の開示ではなくむしろ，各照射ヘッドの設定についての情報を要求している。

注記一部の製造業者は，主要な照射ヘッドの設定を“オプション”としている。

6.9.5.2

試験

試験は，次による。

a) 散乱体又は一様スキャニングによって拡大した粒子線について，適切に飛程変調した場合の飛程変調

幅の中心の水等価深さに相当するように，ファントム内に2次元線量計を設置する。

粒子線アプリケータの最大寸法の80 %程度の患者コリメータを装着する。

アプリケータ架台を繰り出し，ファントムを最上流に設置した場合に，患者コリメータがファント

ムの上流50 mmになるように設置する。

ファントムに設置した2次元線量計を，アイソセンタから上流側150 mm以上の位置，アイソセン

タ，及びアイソセンタから下流側150 mm以上の位置に設置し照射する。

横方向の線量プロファイルから50 %の照射野の幅を決定する。アイソセンタからの距離に対する照

射野の幅をプロットする。アイソセンタからの距離に対する患者コリメータの幅をプロットする。

プロットした点を線形近似し，アイソセンタからの距離を外挿によって求め，仮想線源回転軸間距

離を決定する。

さらに，散乱体によって横方向に拡大した粒子線について，この試験は各粒子線アプリケータ（散

乱体によって形成する照射野の直径）ごとに繰り返す。

b) 一様な照射野を形成しない変調スキャニングによる粒子線について，照射範囲の異なる領域に分離し

た複数のスポットによる分布を設定する。

アイソセンタ又は機器参照点の気中に設置した2次元線量計に照射する。

アイソセンタ又は機器参照点から上流側150 mm以上の位置，アイソセンタ又は機器参照点，及び

アイソセンタ又は機器参照点から下流側150 mm以上の位置に，2次元線量計を設置し，照射を繰り

返す。

それぞれの測定位置における測定結果からスポット間の横方向の距離を決定する。

アイソセンタ又は機器参照点からの距離に対するスポット間の距離をプロットし，a)と同様の解析

を行う。

注記並べて配置した走査磁石によるスキャニングの粒子線は，直交する2方向の仮想線源回転軸間

距離が異なる可能性がある。

6.10 時間的制約

6.10.1 一般

試験条件は，システムの正常な使用にだけ適用する。“タイマ”は，事象間の時間を計る装置のことであ

る。

注記タイマの例は，オシロスコープ，カウンタ，ストップウォッチなどがある。

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

6.10.2 最大照射時間

粒子線ME機器が連続的な照射をできない場合，各軽イオン種の通常治療に使用するフラックスで，照

射中断することなく照射可能な最大照射時間の推定値を分表記で附属文書に記載しなければならない。

利用可能な核子当たりエネルギーの最大値，及び利用可能な核子当たりエネルギーの最小値を記載しな

ければならない。

利用可能な各軽イオン種について記載しなければならない。

注記1 この情報は，主として試験の手順に役立つ。この情報は装置の性能に基づくもので，所定の

施設における照射の安全上の問題によるものではない。

注記2 照射時間は，パルス方式の加速器，ビームの走査，エネルギー積層又は飛程変調による間欠

的な照射によるビームの供給，停止の繰返しを無視し，単に照射開始から照射終了までの時

間とみなす。照射時間にはビームゲーティング信号によってビームの供給が停止する時間，

又は照射中断してから，計画していた照射を完了するために再度照射開始するまでの時間は

含めない。

6.10.3 異なった照射室における照射の間の切替え時間

6.10.3.1 使用者のための情報

複数の照射室で構成する場合，ある照射室で照射終了してから別の照射室で照射するまでの平均時間を

秒表記で附属文書に記載しなければならない。

6.10.3.2 試験

二つの照射室に模擬患者治療をセットアップし，両方の照射室で照射の準備をする。

所定の核子当たりエネルギーで一方の照射室で，照射開始する。

一つ目の照射室での照射終了後，直ちに時間の測定を開始し，異なる照射室において照射を開始し，一

つ目の照射室に対して100 MeV/n以上の差の，又は100 MeV/nの差を利用可能でない場合は，利用可能な

最大差の核子当たりエネルギーで照射開始する。

二つ目の部屋で照射を開始したときのタイマの時間を記録する。

5回試験を繰り返し，平均切替え時間を算出する。

6.10.4 共通の機器参照点をもつ照射ヘッドの間の切替え時間

6.10.4.1 使用者のための情報

共通の機器参照点をもつ照射ヘッドが複数ある場合，ある照射室にある共通の機器参照点を備えた照射

ヘッドで照射終了してから，同じ照射室にある別の照射ヘッドで照射開始するまでの遅れ時間を秒表記で

附属文書に記載しなければならない。

6.10.4.2 試験

所定の核子当たりエネルギーで照射室の照射ヘッドで照射開始する。

照射終了後，直ちに時間の測定を開始し，100 MeV/n以上核子当たりエネルギーを変更，もし装置が核

子当たりエネルギーを100 MeV/n以上に変更できない場合は，可能な限り大きく変更し，同一照射室内の

もう一つの照射ヘッドで照射を開始する。

もう一つの照射ヘッドで照射を開始したときのタイマの時間を記録する。

5回試験を繰り返し，平均切替え時間を算出する。

6.10.5 二つの核子当たりエネルギー値の間の切替え時間

6.10.5.1 使用者のための情報

製造業者指定の条件で，ある核子当たりエネルギーでの照射と，核子当たりエネルギーを10 MeV/n以

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

上変更し照射するまでとの時間を秒表記で附属文書に記載しなければならない。

6.10.5.2 試験

10 MeV/n以上異なる，二つ以上の核子当たりエネルギーレベルのポータルを設定する。

一つ目の核子当たりエネルギーの照射終了後直ちに時間の測定を開始する。二つ目の核子当たりエネル

ギーの照射開始時に時間の測定を停止する。

試験は装置で利用可能な最大及び最小付近の両方の核子当たりエネルギーで，また，各軽イオン種で行

う。

6.10.6 二つの軽イオン種の間の切替え時間

6.10.6.1 使用者のための情報

二つ以上の軽イオン種を照射できる粒子線ME機器の場合，ある軽イオン種の照射を終了してから，製

造業者の指定した機器設定を変更し，別の軽イオン種の照射開始までの時間を秒表記で附属文書に記載し

なければならない。

6.10.6.2 試験

一つ目の軽イオン種による照射終了後直ちに時間の測定を開始する。

二つ目の軽イオン種による照射開始時に時間の測定を停止する。

6.10.7 照射終了及び照射中断の所要時間

6.10.7.1 使用者のための情報

照射終了に至る事象の発生から照射ヘッドへのビームの供給の終了までの時間，及び照射中断に至る事

象の発生から照射ヘッドへのビームの供給の終了までの時間を秒表記で附属文書に記載しなければなら

ない。

6.10.7.2 試験

照射終了に至る事象が，発生したときに直ちに時間の測定を開始する。

照射ヘッドへのビームの供給が，終了したときに時間の測定を停止する。

照射中断に至る事象が，発生したときに直ちに時間の測定を開始する。

照射ヘッドへのビームの供給が，終了したときに時間の測定を停止する。

6.10.8 照射再開の所要時間

6.10.8.1 使用者のための情報

使用者が照射中断後照射を再開するまでの平均時間を，秒表記で附属文書に記載しなければならない。

6.10.8.2 試験

継続していた照射を中断する。

治療制御盤で使用者が，照射を再開したときに時間の測定を開始する。

軽イオンが照射ヘッドに到達したときに，時間の測定を停止する。

5回試験を繰り返し，平均時間を算出する。

注記1 バーコードの再スキャン，照射室の安全確保，照射の再開前に行われるボタン押下のような

使用者による操作は，照射再開の時間の一部とはみなさない。

注記2 例えば，照射装置を再確認するときのように，再開コマンド後に行うソフトウェアの一連の

操作は，照射再開の時間の一部とみなす。

6.10.9 起動時間

6.10.9.1 使用者のための情報

製造業者によって附属文書に定義した待機状態から準備完了状態に達するまでの所要時間を分表記で

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

附属文書に記載しなければならない。

待機状態への移行，及び解除の手順を取扱説明書に記載しなければならない。

6.10.9.2 試験

製造業者によって附属文書に定義した準備完了状態へ移行する手順を開始したときに時間の測定を開

始する。どの照射室へも照射可能になったときに時間の測定を停止する。

6.10.10

停止の所要時間

6.10.10.1

使用者のための情報

製造業者によって附属文書に定義した待機状態から粒子線ME機器を停止するまでの所要時間を分表記

で附属文書に記載しなければならない。

6.10.10.2

試験

操作者が，装置を停止しはじめたときに時間の測定を開始する。

製造業者によって附属文書に定義した待機状態に粒子線ME機器が移行したときに，時間の測定を停止

する。

6.11 保守

予防点検のスケジュール，保守，及び校正手順を附属文書に記載しなければならない。

線量モニタシステム

7.1

一般

次に関して，使用者への情報を附属文書に記載しなければならない。

a) 主副線量モニタシステムの場合：主線量モニタシステムについて

b) 冗長線量モニタシステムの場合：両方のシステムについて

意図した全ての運転モードについて，附属文書に記載のデータに基づいて線量モニタシステムが，動作

する領域全体における線量モニタユニット及び線量モニタユニット率の範囲を附属文書に記載しなけれ

ばならない。

7.2

線量モニタシステムを試験するための標準条件

測定は，次の放射線検出器によって行わなければならない。

a) 読取り値から相対吸収線量が定まる。

b) 線量の傾斜が，急しゅん（峻）な領域において十分な空間分解能を備える。

c) 試験対象の粒子線に対し，吸収線量値に対する直線性，吸収線量率への依存性及び安定性についての

性能特性が確立している。

7.3

線量モニタユニット照射の再現性

7.3.1

使用者への情報

同一の照射条件の下で，同じ値の線量モニタユニット値を設定した場合において，最大変動係数，及び

測定した線量検出器の出力と設定した線量モニタユニットとの比の平均値からの最大偏差として表した，

線量モニタユニット照射の再現性を附属文書に記載しなければならない。

変動係数及び平均値からの最大偏差は，百分率（%）で示さなければならない。

測定時に使用した基準照射野寸法を，製造業者は附属文書に記載しなければならない。

7.3.2

試験

線量モニタユニット照射の再現性測定は，次に対して行わなければならない。

a) 各軽イオン種（システムが2種類以上の軽イオン種を照射できる場合）

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

b) 利用可能な各ビームの供給モード

c) 最大及び最小の利用可能な線量モニタユニット率（システムが，2種類以上の線量率で照射できる場

合）

再現性sは，次の式に示す変動係数で計算する。

(

)

100

−

∑

ここに，

Ri： i番目の測定における放射線検出器の出力Dと，照射した線量

モニタユニットUとの比

R：比Riの平均値。

∑

によって計算する。

n：測定の回数

表1に規定する試験条件それぞれについて，同一の条件で10回連続して照射する。

線量モニタユニットの要求値は，試験用検出器を設置する位置に設定した小体積に2 Gyの吸収線量を供

給することに相当する値とする。

試験に用いる検出器は，粒子線参照軸に垂直，かつ，アイソセンタ又は機器参照点を通る平面内に配置

しなければならない。

これらの計測条件は，全てのRの計測に対し適用しなければならない。

表1−再現性試験のための標準試験条件

角度位置

スキャニング
モード及び横
方向拡大器の

組合せ

放射線
照射野

mm×mm

線量モニタ
ユニット率

放射線の種類

核子当たりエネル
ギー又は粒子線飛

程

架台

軸①a),c)

照射野限定

システムd)

軸④a)

0°

選択可能な場
合は各々につ
いて

基準寸法b)

最大値

（選択可能な
場合はそれに
加えて最小値）

各軽イオン種核子当たりエネル

ギー又は粒子線飛
程の1種類e)

注a) 図3参照。

b) 附属文書に記載した製造業者の基準照射野寸法。

c) 固定タイプ架台の場合は，利用可能な固定角度で試験する。

d) 回転可能な照射野限定システムの場合。

e) 飛程非変調ポータル又は飛程変調ポータルのいずれでもよい。飛程変調ポータルの場合は，ポータルの核子

当たりエネルギー又は粒子線飛程の最大値だけを記載する。

7.4

線量モニタユニット照射の直線性

7.4.1

要求事項

他のビームの供給の条件が等しく線量モニタユニット値が異なる場合，測定に用いた放射線検出器の測

定値と，供給した線量モニタユニット値との間の関係は線形で，次の式が成り立つ。

D＝S×U

ここに，

D：放射線検出器の測定値

S：比例係数

U：線量モニタユニット値

7.4.2

使用者への情報

放射線検出器の測定値Dと，線量モニタユニット値Uと比例係数Sとの積，との最大偏差を，附属文書

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

に記載しなければならない。

最大偏差は，百分率（%）で示さなければならない。また，変動量の絶対値は7.4.1の式によって算出し

なければならない。

利用可能な核子当たりエネルギーの最大値，最小値及び(最大値＋最小値)/2において最大偏差を示さな

ければならない。

最大偏差は，機器参照点において，スキャニングモード及び横方向拡大器の各組合せについて，利用可

能な線量モニタユニット及び線量モニタユニット率の範囲において提供しなければならない。

7.4.3

試験

線量モニタユニット照射の直線性は，次のように試験しなければならない。

a) スキャニングモードと，散乱体又は一様スキャニングを用いた横方向拡大器との各組合せについて7.2

及び表2に従った標準試験条件にて行う。

b) システムがスキャニングモード及び横方向拡大器の複数の組合せをもつ場合，スキャニングモード及

び横方向拡大器の各組合せにて行う。

c) 使用者が選択可能な複数の線量モニタユニット率をシステムがもっている場合，利用可能な最大及び

最小の線量モニタユニット率にて行う。

表2に規定する試験条件の各セットについて，異なる5種類の線量モニタユニットで照射する。それぞ

れの照射は，機器参照点で線量モニタユニットを，規定した範囲内で，ほぼ等しい間隔の異なる値に設定

する。

放射線検出器は，アイソセンタ又は機器参照点を含み，粒子線参照軸に直交する平面内に配置しなけれ

ばならない。これらの測定条件はRiの全測定に適用しなければならない。

表2−線量モニタシステムの直線性試験条件

角度位置

スキャニング
モード及び横
方向拡大器の

組合せ

放射線照射野

mm×mm b)

線量モニタ
ユニット率

放射線の種類

核子当たりエ
ネルギー又は

粒子線飛程

架台

軸①a),c)

照射野限定

システムd)

軸④a)

0°

選択できる場
合，各組合せ

散乱体又は一様スキャ
ニングの標準試験条
件，又は変調スキャニ
ングの際の単一核子当
たりエネルギー及びス
ポットマップ

選択できる
場合，最大
値及び最小
値

各軽イオン種最大値，最小値

及び(最大値＋
最小値)/2の核
子当たりエネ
ルギー又は粒
子線飛程e)

注a) 図3参照。

b) 附属文書に記載した製造業者の基準照射野寸法。

c) 固定架台タイプについては，利用可能な固定角度について試験しなければならない。

d) 回転式照射野限定システムをもつシステムの場合。

e) 飛程非変調ポータル又は飛程変調ポータルのいずれも使用可能である。

7.5

変調スキャニングのためのビームフラックスモニタの軸外応答

7.5.1

使用者への情報

変調スキャニングに用いる照射ヘッドについて，附属文書にてビームフラックスモニタの異なる軸外位

置を通ってスキャンスポットが照射する場合の粒子線照射の比率Rの最大値及び最小値の最大差を記載

しなければならない。

最大差は，粒子線照射のRの平均値に対する百分率（%）として表さなければならない。

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

7.5.2

試験

7.2及び表3に規定する標準試験条件の各セットについて，それぞれ5回の測定を行い，Rを決定する。

試験は，軽イオン種それぞれについて行わなければならない。この比率は，ビームフラックスモニタの

有感領域全体から選択した様々な軸外位置にて測定しなければならない。試験条件の各セットに対する一

連の測定中，装置は静止状態に保つ。選択した軸外位置に対し試験用検出器の応答とビームフラックスモ

ニタとの応答の比率を決定する。

表3−変調スキャニングのためのビームフラックスモニタの軸外応答試験条件

角度位置

スキャニングモー
ド及び横方向拡大

器の組合せ

線量モニタ
ユニット率

放射線の種類

核子当たりエネルギー

又は粒子線飛程

架台

軸①a),b)

照射野限定

システムc)

軸④a)

0°，180°

0°

選択できる場合，各
組合せ

選択できる場合，最
大値及び最小値

各軽イオン種

1種類の核子当たりエネ
ルギー又は粒子線飛程

注a) 図3参照。

b) 固定架台タイプについては，利用可能な固定角度について試験しなければならない。

c) 回転式照射野限定システムをもつシステムの場合。

7.6

線量モニタユニット照射の角度位置依存性

7.6.1

使用者への情報

回転架台及び複数離散角架台において，附属文書には，照射ヘッドが全回転範囲にわたって異なる角度

を設定した場合の，粒子線照射の比率Rの最大値及び最小値の最大差を記載しなければならない。

最大差は，7.3.2で定義しているように粒子線照射のRの平均値に対する百分率（%）として表さなけれ

ばならない。

これらの値は，利用可能な照射ヘッドごとに記載しなければならない。

7.6.2

試験

7.2及び表4に規定する標準試験条件の各セットについて，それぞれ5回の測定を行い，Rを決定する。

試験は，原子番号の最も大きい軽イオン種について行わなければならない。全ての架台角度にて同じ核

子当たりエネルギー又は粒子線飛程を用いなければならない。試験条件の各セットに対する測定中，装置

は静止状態に保つ。

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

表4−線量モニタシステムの角度位置依存性試験条件

架台角度位置

軸①a),c),d)

放射線照射野

mm×mm b)

線量モニタ
ユニット率

放射線の種類

核子当たりエネルギー又は粒子

線飛程

0°

基準寸法b)

固定1条件

利用可能な最大原子番号の
軽イオン種

1種類の核子当たりエネルギー
又は粒子線飛程e)

90°

基準寸法b)

固定1条件

利用可能な最大原子番号の
軽イオン種

1種類の核子当たりエネルギー
又は粒子線飛程e)

180°

基準寸法b)

固定1条件

利用可能な最大原子番号の
軽イオン種

1種類の核子当たりエネルギー
又は粒子線飛程e)

270°

基準寸法b)

固定1条件

利用可能な最大原子番号の
軽イオン種

1種類の核子当たりエネルギー
又は粒子線飛程e)

注a) 図3参照。

b) 附属文書に記載した製造業者の基準照射野寸法。

c) 複数離散角架台タイプの場合，利用可能な角度で試験しなければならない。

d) 角度範囲を限定した回転架台タイプの場合，全ての利用可能な90°ごとの角度にて試験を行わなければなら

ない。

e) 飛程非変調ポータル又は飛程変調ポータルのいずれも使用可能である。

7.7

線量モニタユニット照射の安定性

7.7.1

1日内の線量モニタユニット照射の安定性

7.7.1.1

使用者への情報

附属文書には，粒子線照射について次の測定を行い，放射線検出器の応答と線量モニタユニットとの比

率Rの最大値と最小値との最大差を明記しなければならない。

a) 製造業者によって定義する待機状態にあった粒子線ME機器が準備完了状態に達した直後。

b) 次の照射サイクルで8時間の模擬患者治療を行う間。各サイクルは，代表的な吸収線量率での照射か

ら成り，代表的な核子当たりエネルギー又は粒子線飛程によって約3 Gyの吸収線量を照射した後に，

約15分間休止の期間を置く。

最大差は，試験の初めに決定したRに対する百分率（%）で表す。

7.7.1.2

試験

線量モニタユニット当たりの線量測定は，8時間の模擬患者治療の前，中間，及び終了後に行わなけれ

ばならない。

7.2及び表5に規定する試験条件の各セットについて，それぞれ5回の測定を行い，Rを決定する。それ

ぞれの照射は，アイソセンタ又は機器参照点で約3 Gyの吸収線量を得るようにする。

附属文書の記載に従って，試験期間中の温度，気圧及び湿度の変化に対して補正する。

注記試験期間中の模擬患者治療における約3 Gyの吸収線量照射は，その他の試験のための照射を兼

ねることができる。

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

表5−1日内の線量モニタシステムの安定性試験の条件

角度位置

放射線照射野

mm×mm b)

線量モニタ
ユニット率

放射線の種類

核子当たりエネルギー

又は粒子線飛程

架台

軸①a),c)

照射野限定

システムd)

軸④a)

0°

基準寸法b)

固定1条件

利用可能な最大原子番号
の軽イオン種

1種類の核子当たりエネ
ルギー又は粒子線飛程e)

注a) 図3参照。

b) 附属文書に記載した製造業者の基準照射野寸法。

c) 固定架台タイプについては，利用可能な固定角度について試験しなければならない。

d) 回転式照射野限定システムをもつシステムの場合。

e) 飛程非変調ポータル又は飛程変調ポータルのいずれも使用可能である。

7.7.2

1週間内の線量モニタユニット照射の安定性

7.7.2.1

使用者への情報

附属文書には，粒子線照射について5日間にわたって次の測定を行い，放射線検出器の応答と線量モニ

タユニットとの比率Rの最大値と最小値との最大差を明記しなければならない。最大差は，測定した全て

のRの平均値に対する百分率（%）で表す。

7.7.2.2

試験

7.2及び表6に規定する試験条件の各セットについて，5回以上の測定を行い，Rを決定する。それぞれ

の照射は，アイソセンタ又は機器参照点で約2 Gyの吸収線量を得るようにする。

附属文書の記載に従って，試験期間中の温度，気圧及び湿度の変化に対して，粒子線ME機器の線量モ

ニタシステムを補正する。

表6−1週間内の線量モニタシステムの安定性試験の条件

角度位置

放射線照射野

mm×mm b)

線量モニタ
ユニット率

放射線の種類

核子当たりエネルギー

又は粒子線飛程

架台

軸①a),c)

照射野限定

システムd)

軸④a)

0°

基準寸法b)

任意e)

利用可能な最大原子番号
の軽イオン種

1種類の核子当たりエネ
ルギー又は粒子線飛程

注a) 図3参照。

b) 附属文書に記載した製造業者の基準照射野寸法。

c) 固定架台タイプについては，利用可能な固定角度について試験しなければならない。

d) 回転式照射野限定システムをもつシステムの場合。

e) 線量モニタユニット率は，1週間の試験の間に変更してはならない。

深部線量特性

8.1

飛程非変調ポータルにおける深部線量分布

8.1.1

使用者への情報

附属文書には，飛程非変調ポータル（すなわち，単一の核子当たりエネルギー照射野）について，それ

ぞれの軽イオン種に対して，利用可能な最大値，最小値及び(最大値＋最小値)/2の核子当たりエネルギー

で，粒子線参照軸上の複数の深さにおいて測定した深部線量のデータセットを次のいずれかの条件で提示

しなければならない。

a) 散乱体又は一様スキャニングを用いる照射方法について，それぞれの架台タイプに対する，それぞれ

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

の粒子線アプリケータでサポートする最大照射野寸法に対して。

b) 変調スキャニングについて，単一のスポットに対して。

それぞれの分布データには，次の情報を添付しなければならない。

c) 粒子線飛程

d) アイソセンタ又は機器参照点の深さ

8.1.2

試験

深部線量分布は，飛程非変調ポータルについて測定する。エントランス領域において，測定点の深さ間

隔は，10 mmを超えないようにする。ピーク領域において，測定点の深さ間隔は，0.3 mm（水等価値）以

下とする。測定には平行平板電離箱を用いる。

製造業者の仕様を満たすためにリップルフィルタが必要な場合は，試験で用いなければならない。さら

に，その場合にはリップルフィルタの存在及びビーム特性を附属文書に記載しなければならない。

注記1 リップルフィルタが患者治療に必要な機器である場合，この試験でリップルフィルタは使用

者が選択可能な飛程変調器とはみなされない。また，リップルフィルタを用いたポータルは

飛程非変調ポータルとみなされる。

患者コリメータを放射線照射野を形成するために用いる場合，患者コリメータの存在及び測定時の患者

コリメータ−ファントム間距離を附属文書に記載しなければならない。

測定に用いた電離箱の有感領域直径，窓厚，及び気体ギャップを附属文書に記載しなければならない。

注記2 エントランス線量測定について，薄窓平行平板電離箱を固体ファントムの中で用いることが

できる。

注記3 電離箱の特性を提供する代わりに，製造業者は，電離箱の製造業者名及び形式を提供するこ

とができる。

a) エントランス−ピーク線量比は，8.1.1で定義するそれぞれの飛程非変調ポータルの深部線量分布から

抽出し，附属文書に記載しなければならない（図1参照）。

b) テール−ピーク線量比は，8.1.1で定義するそれぞれの飛程非変調ポータルの深部線量分布から抽出し，

附属文書に記載しなければならない（図1参照）。

c) 8.3.1で指定の放射線照射野の粒子線参照軸上で測定した，ピークの位置から下流側で吸収線量がピー

クの値の80 %になる水中深さと，吸収線量がピークの値の20 %になる水中深さとの差

d) 8.3.1で指定の放射線照射野の粒子線参照軸上で測定した，ピークの位置から下流側で吸収線量がピー

クの値の90 %になる水中深さと，吸収線量がピークの値の50 %になる水中深さとの差

8.2

飛程変調方法

8.2.1

照射ヘッド中の飛程変調器のタイプ及び構成

照射の際に使用者が飛程変調器を選択できる場合は，附属文書には，利用可能な各架台タイプの各飛程

変調器に関する次の情報を提供しなければならない。

a) 飛程変調器からアイソセンタ又は機器参照点までの距離

b) タイプ

c) サブタイプ

d) 挿入方法

注記1 飛程変調器タイプの例：プロペラ，リッジフィルタ，ミニリッジフィルタ，リップルフィル

タ，コーン。

注記2 飛程変調器にはサブタイプとして，離散型，プログラマブル型がある。

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

注記3 離散型飛程変調器の挿入方法としては，手動の場合又は自動の場合がある。

8.2.2

離散型飛程変調器

利用可能な離散型飛程変調器について，附属文書には，次の情報を提供しなければならない。

a) 名称

b) 公称飛程変調幅

c) 離散型飛程変調器が，適用可能な核子当たりエネルギーレベル及び最大照射野寸法

8.2.3

プログラマブル飛程変調器

利用可能な各プログラマブル飛程変調器について，附属文書には，次の情報を提供しなければならない。

a) プログラマブル飛程変調器を用いて，プログラマブル飛程変調ポータルを供給する手順の記載

b) プログラマブル飛程変調器の名称

c) 利用可能な公称飛程変調幅の範囲

d) プログラマブル飛程変調器が，適用可能な核子当たりエネルギーレベル及び最大照射野寸法

8.3

飛程変調ポータルの深部線量分布

8.3.1

使用者への情報

この項は，変調スキャニング照射方法には適用しない。

附属文書には，飛程変調ポータルに関する粒子線参照軸上の相対深部線量分布を示すプロット図を示さ

なければならない。相対深部線量分布図は，公称飛程変調幅の中心深さで規格化した形で記載しなければ

ならない。

注記深部線量分布測定時のノイズ，リップルなどを含む場合は，公称飛程変調幅の中心付近の前後

の幾つかの深さで測定した吸収線量の平均に対して規格化が行われる。

深部線量分布は，製造業者が指定した各照射方法に対して，製造業者が意図したパラメータ：飛程変調

器，プログラマブル飛程変調ポータル，横方向拡大器の組合せごとに提示しなければならない。

データは，各粒子線アプリケータ，軽イオン種，照射方法について，意図した組合せごとに利用可能な

最大照射野寸法にて取得しなければならない。

約200 mmの粒子線飛程における利用可能な最大公称飛程変調幅及び60 mmの公称飛程変調幅に対して，

データを取得しなければならない。最大粒子線飛程が200 mmよりも小さい場合には，装置の最大粒子線

飛程を選択しなければならない。利用可能な最大粒子線飛程が200 mmよりも小さい場合，最大公称飛程

変調幅及び最大公称飛程変調幅の約半分の公称飛程変調幅に対してデータを取得しなければならない。最

大公称飛程変調幅が60 mmよりも小さい場合には，装置の最大公称飛程変調幅を使用しなければならない。

全ての深部線量分布データは，飛程変調の中心がアイソセンタ又は機器参照点に位置する状態で取得し

なければならない。

使用者が利用可能でない機器の組合せに対する深部線量分布データは必要ない。

それぞれの分布データには，次の情報を添付しなければならない。

a) 最大核子当たりエネルギーに対する粒子線飛程

b) アイソセンタ又は機器参照点の深さ

c) 公称飛程変調幅

8.3.2

試験

深部線量分布は，各飛程変調ポータルに対して測定する。このとき，測定点の深さピッチは10 mmを超

えてはならない。粒子線飛程の−3 mmから下流側の10 %線量深さの＋3 mmの範囲においては，測定点の

深さピッチは，1.0 mm（水等価値）を超えない。測定に際しては，平行平板電離箱を用いる。それぞれの

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

深部線量分布プロットデータには，“データはあくまで代表的な参照値であり，個別の粒子線ME機器に

対して測定によって確認していない場合には，患者治療の計画用データとして用いてはならない”という

警告を記載しなければならない。分布データは，全ての利用可能な照射ヘッドに対して測定しなければな

らない。

注記エントランス線量測定に関しては，固体ファントム内に薄窓平行平板電離箱を用いることがで

きる。

8.4

粒子線飛程の安定性

8.4.1

照射中の粒子線飛程の安定性

8.4.1.1

使用者への情報

附属文書には2分間の照射中の粒子線飛程の最大偏差（水等価値）を記載しなければならない。

粒子線飛程は照射中，製造業者が指定した間隔でサンプリングしなければならない。サンプリング間隔

は，3秒を超えてはならない。

最大偏差は，ミリメートル（mm，水等価値）で示さなければならない。

試験はそれぞれの軽イオン種に対し，最大値，最小値及び(最大値＋最小値)/2の核子当たりエネルギー

において行わなければならない（表7参照）。

8.4.1.2

試験

測定は，ファントム中で行わなければならない。ファントムは，ピーク線量の50 %の深さの吸収線量と，

同時に測定するエントランス吸収線量との比を測定するのに適したものでなければならない。

この比の変動は，8.1で要求している深部線量分布から得る深部線量勾配を用いて粒子線飛程の変動に

変換する。

表7−照射中の粒子線飛程安定性試験の条件

放射線の種類

核子当たりエネルギー又は粒子線飛程

それぞれの軽イオン種

核子当たりエネルギー又は粒子線飛程
の低，中間及び高レベル

8.4.1.3

情報の検査

附属文書に最大偏差を記載していることを検査しなければならない。

8.4.2

粒子線飛程の架台回転依存性

8.4.2.1

使用者への情報

回転タイプの架台に対し，附属文書には90°離れた二つの架台角度における粒子線飛程の最大偏差を記

載しなければならない。

最大偏差は，ミリメートル（mm，水等価値）で示さなければならない。

試験はそれぞれの軽イオン種に対し，最大値，最小値及び(最大値＋最小値)/2の核子当たりエネルギー

において行わなければならない（表8参照）。

データは全ての粒子線アプリケータ，軽イオン種及び照射方法に対し，それぞれの粒子線アプリケータ

に対して利用可能な最大照射野寸法を用いて取得しなければならない。

8.4.2.2

試験

測定は，ファントム中で行わなければならない。ファントムは，ピーク線量の50 %の深さの吸収線量と，

同時に測定するエントランス吸収線量との比を測定するのに適したものでなければならない。

この比の変動は，8.1で要求する深部線量分布から得る深部線量勾配を用いて粒子線飛程の変動に変換

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

する。

表8−粒子線飛程の架台回転依存性試験の条件

架台の角度位置

放射線照射野

mm×mmb)

線量モニタ
ユニット率

放射線の種類

核子当たりエネルギー

又は粒子線飛程

軸①a),b),c)

角度 1

それぞれの粒子線アプ
リケータに対する最大
照射野寸法

固定1条件

それぞれの軽
イオン種

最大値，最小値及び(最大値＋最
小値)/2の核子当たりエネルギー
又は粒子線飛程d)

角度 2

それぞれの粒子線アプ
リケータに対する最大
照射野寸法

固定1条件

それぞれの軽
イオン種

最大値，最小値及び(最大値＋最
小値)/2の核子当たりエネルギー
又は粒子線飛程d)

注a) 図3参照。

b) 複数離散角架台の場合，試験は利用可能な最大及び最小角度で実施しなければならない。

c) 角度範囲の制限がある回転架台の場合，試験は90°だけ離れた二つの利用可能な角度で実施しなければなら

ない。

d) 飛程非変調ポータル又は飛程変調ポータルのいずれも使用可能である。

粒子線ポータルの横方向線量分布

9.1

散乱体又は一様スキャニングを用いるシステムの粒子線ポータルの横方向線量分布

9.1.1

一般

横方向線量分布を試験するためには，照射野全体にわたり粒子線飛程を一定として，各粒子線アプリケ

ータに対し提供する最大照射野寸法を用いなければならない。横方向線量分布は，表面に相当する深さ，

上流側の90 %線量深さに公称飛程変調幅の10 %を加えた深さ，飛程変調領域の中心，及び下流側の90 %

線量深さから公称飛程変調幅の10 %を減じた深さにおいて測定しなければならない（図4参照）。粒子線

ポータルに対する吸収線量の線量分布の一例を図5に示す。架台が2種類以上の照射方法をもつ場合は，

各照射方法に対して測定し記載しなければならない。

各軽イオン種の核子当たりエネルギーが最大値，最小値及び(最大値＋最小値)/2となるレベルに対して，

利用可能な最大公称飛程変調幅及び公称飛程変調幅60 mmのデータを標準試験条件（箇条7参照）で取得

しなければならない。粒子線飛程が100 mm未満の核子当たりエネルギーレベルに対しては，利用可能な

最大公称飛程変調幅及び最大公称飛程変調幅の約半分の公称飛程変調幅のデータを取得しなければなら

ない。

最大公称飛程変調幅が60 mm未満の場合は，利用可能な最大公称飛程変調幅のデータだけでよい。照射

野限定器の下流側表面からファントムの上流側表面までの距離は，50 mm以上とし製造業者が指定した距

離でなければならない。ばく射は，製造業者の示した線量モニタユニット又は一様な線量分布を作るのに

必要な時間で行わなければならない（11.1参照）。

9.1.2

粒子線ポータルの平たん度

9.1.2.1

使用者への情報

9.1に規定した全ての横方向線量分布のうち，表面線量分布以外について，平たん度を評価しなければな

らない。附属文書には平たん度を記載しなければならない。平たん度は，粒子線参照軸における吸収線量

に対する，平たん化領域内の任意の全ての場所での吸収線量の比の最大値及び最小値として表す。横方向

線量分布に沿った線量は1 cm2以下の範囲で平均し，最大及び最小線量を決定しなければならない。

平たん化領域は，図6 a)に示す正方形の照射野の主軸及び対角軸上の点を結ぶ直線，又は図6 b)に示す

円形の照射野のビーム軸を通る直線によって定義する。平たん化領域は粒子線参照軸から，主軸に沿って

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

照射野辺縁からdm内側まで，長方形の照射野ではそれに加えて，対角軸に沿って照射野辺縁からdd内側

までの範囲である。代表的な線量分布を図5に示す。dm及びddは，横方向の半影幅（9.1.4で測定）を各

軸に沿って2倍して算出する。

平たん度の最大値及び最小値は，粒子線参照軸上の吸収線量に対する百分率（%）で表さなければなら

ない。

各軽イオン種の核子当たりエネルギーが最大値，最小値及び(最大値＋最小値)/2となるレベルに対して，

各粒子線アプリケータで利用可能な最大照射野寸法に対する平たん度の最大値及び最小値を示さなけれ

ばならない。測定は，架台角度0°，90°，180°及び270°で行う。回転角度が360°未満の回転架台に対

しては，架台角度が最小及び最大の場合に加え，0°，90°，180°及び270°の中で利用可能な架台角度で

示さなければならない。

9.1に規定した全ての線量分布のうち，表面線量分布以外について，平たん度の最大値及び最小値を示さ

なければならない。

9.1.2.2

試験

9.1に規定する試験条件のセットで得た各横方向線量分布に対して，各深さでの吸収線量分布を測定し，

粒子線ポータルの主軸及び対角軸に沿った線量分布を図6 a)及び図6 b)のパラメータを用いて導出し，解

析する。

9.1.3

粒子線ポータルの対称性

9.1.3.1

使用者への情報

9.1に規定した全ての横方向線量分布のうち，表面線量分布以外について，対称性を評価しなければなら

ない。粒子線ポータルに対して，平たん化領域内で，粒子線参照軸について対称な任意の2点における吸

収線量（1 cm2以下の範囲で平均した値）の最高値と最低値との比の最大値を附属文書に記載しなければな

らない。

この比は，百分率（%）で表す。

比の最大値は，9.1で測定した全ての線量分布に対して示さなければならない。

9.1.3.2

試験

比の最大は，9.1に規定した全ての線量分布のうち，表面線量分布を除くものから得てもよい。

9.1.4

横方向半影

9.1.4.1

使用者への情報

横方向半影は，9.1に規定した全ての横方向線量分布のうち，表面線量分布を除くものに対し評価しなけ

ればならない。附属文書には，横方向半影の幅を記載しなければならない。横方向半影は，9.1で測定し

た各吸収線量分布について，主軸に沿った線量の80 %及び20 %の点の間の最大距離とする。

線量の80 %及び20 %となる点は，粒子線参照軸上の吸収線量に基づく。

横方向半影の幅は，ミリメートル（mm）で表す。

9.1.4.2

試験

横方向半影の幅は，9.1に規定した全ての線量分布のうち，表面線量分布を除くものから得てもよい。

9.2

変調スキャニングを用いるシステムの粒子線ポータルの横方向分布

9.2.1

使用者への情報

変調スキャニングを用いるシステムに対しては，スキャニングスポットについて，最大値，最小値及び

(最大値＋最小値)/2の核子当たりエネルギーに対して，各架台，各軽イオン種及び各スポットサイズに関

する次の情報を附属文書に記載しなければならない。

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

a) 測定を行った架台角度位置

b) (Xg,Yg)座標系におけるX及びYのスポット位置に対する，設定値と測定値との最大差

c) (Xg,Yg)座標系におけるX及びYのスポット位置に対する，設定値と測定値との差（符号なし）の平均

及び標準偏差

d) アイソセンタ又は機器参照点における，長軸及び短軸それぞれについて，製造業者指定の半値全幅

（FWHM）と測定値との最大差

e) 粒子線スポットに対する，空気中の横方向フルエンス分布の2次元プロット

全ての測定結果は，ミリメートル（mm）で記載しなければならない。

9.2.2

試験

全ての測定は，空気中にて，アイソセンタ又は機器参照点における平面に対して行わなければならない。

照射するスポットのパターンは，走査する全範囲に対して分離した17以上のスポットから成り，一つ

のスポットは粒子線参照軸上に設定する。

架台角度位置0°，90°，180°，270°，及び利用可能なオーバーラップ角度位置に対して，固定架台又

は複数離散角架台では設定可能な角度位置に対して，スポットパターンを照射する。回転範囲が360°よ

り小さな回転架台に対しては，最小及び最大の角度位置に加え，0°，90°，180°及び270°の中で利用可

能な角度位置に対して照射しなければならない。

各軽イオン種及び各公称スポットサイズ，並びに最大値，最小値及び(最大値＋最小値)/2の核子当たり

エネルギーに対して，スポットパターンを照射する。

10 エネルギー及びフルエンスの変調を伴う粒子線ポータル（EFM）

10.1 使用者への情報

エネルギー及びフルエンスの変調（EFM）が可能な場合，多分割エレメント照射野限定器，又はEFM

粒子線ポータルを形成する変調スキャニングビームの，性能を確認するために計画した一連の品質保証試

験の詳細を，附属文書に記載しなければならない。

注記エネルギー及びフルエンスの変調は，幾つかのビーム照射方法に対して提供される場合がある。

一つの例として，レンジシフタ及び多分割エレメント照射野限定器を組み合わせて用いるエネ

ルギー積層原体照射がある。その他の例として，加速器の出射エネルギー変調及び横方向変調

スキャニングを組み合わせて用いるエネルギー積層原体照射がある。

製造業者が指定した品質保証試験手順に加えて，10.2に示す形式試験もまた実施しなければならない。

さらに，代表的な結果は使用者が利用可能でなければならない。

10.2 小さな投与線量に対するビーム特性及び線量計測システムの性能

a) 散乱体照射方法及び一様スキャニング照射方法については，適用できる場合には，7.3〜7.7及び9.1

に規定する試験には，製造業者が附属文書の中で指定した最小の線量モニタユニットについての測定

を含めなければならない。

b) 変調スキャニング照射方法に関して，附属文書には，最小及び最大線量モニタユニットを明記しなけ

ればならない。線量モニタユニットについては，箇条7及び9.2.1に記載している。

注記製造業者はa)で指定した線量モニタユニットの範囲外について，追加の性能に関する情報を提

供することができる。

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

11 指定の体積の照射の所要時間

11.1 使用者への情報

附属文書には，次に規定する製造業者指定の体積に対して，2 Gyの吸収線量を供給するために必要な最

小時間を秒単位で記載しなければならない。この最小時間では，体積中心の線量の±5 %以下の一様な吸

収線量で照射しなければならない。

a) 幅100 mm，長さ100 mm，深さ100 mm，及び深さ中心は，ファントム内で水等価深さ205 mmとする。

b) 幅200 mm，長さ200 mm，深さ50 mm，及び深さ中心は，ファントム内で水等価深さ100 mmとする。

製造業者指定の体積における吸収線量の一様性を測定し，記載しなければならない。2次元プロットは，

上流側の90 %線量深さに公称飛程変調幅の10 %を加えた深さ，飛程変調領域の中心，及び下流側の90 %

線量深さから公称飛程変調幅の10 %を減じた深さについて，粒子線参照軸に対する垂直平面において得な

ければならない。

粒子線飛程の最大値が300 mmより短い場合，利用可能な最大粒子線飛程を使用しなければならない。

最大公称飛程変調幅を用いて製造業者指定の体積を一様な線量で覆うことができない場合，利用可能な

最大公称飛程変調幅を使用しなければならない。

最大照射野寸法を用いて指定した体積を一様な線量で覆うことができない場合，利用可能な最大照射野

寸法を使用しなければならない。

製造業者指定の体積に対して一様な深部線量分布を照射しない粒子線ME機器については，製造業者は

指定の試験条件を設定し，かつ，附属文書に記載しなければならない。

注記例えば，リッジフィルタのような治療用の飛程調整装置を使用する水素より重い軽イオンが照

射可能なビーム照射装置では，深部線量分布は一様ではない。

試験は，5.2に記載した治療に対して許容したビームパラメータの組合せだけを用いて行わなければなら

ない。

利用可能な所要時間は，次の条件について記載しなければならない。

a) 2種類以上の軽イオン種の照射が可能なシステムでは，各軽イオン種

b) 複数の組合せをもつシステムでは，スキャニングモード及び横方向拡大器の各組合せ

11.2 試験

製造業者指定のポータルについて照射を開始するときに時間の測定を開始し，完全に照射を終了したと

きに時間の測定を終了する。各ポータルについて時間及び線量の一様性を記録する。

注記測定では，水又は固体ファントムのいずれかを使用することができる。

12 放射線照射野の表示

12.1 アプリケータ架台の繰出し量の表示器

12.1.1 使用者への情報

架台が繰出し及び引込みが可能なアプリケータ架台をもつ場合，繰出し量数値表示器を備えなければな

らない。数値表示と測定した距離との間の最大差を，附属文書に記載しなければならない。

最大差は，ミリメートル（mm）で表す。

12.1.2 試験

アプリケータ架台を最大位置まで繰り出す。アプリケータ架台参照点と数値表示参照点との間の距離を

測定する。アプリケータ架台を複数回繰り出し，測定を繰り返す。

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

12.2 多分割照射野限定器の構成要素の位置の表示

12.2.1 使用者への情報

多分割照射野限定器（開又は閉しかないバイナリ型の照射野限定器は除く。）については，製造業者が

附属文書にて指定した，各エレメントの機械的な辺縁位置の座標値を表示しなければならない。

附属文書には，数値エレメント表示の値とエレメントの辺縁位置の実際の値との間の最大差を記載しな

ければならない。

最大差は，ミリメートル（mm）で表す。

12.2.2 試験

各エレメントの辺縁位置は，附属文書に定義した座標系に対して機械的に測定し，数値表示との差を求

める。最大差は，100 mm×100 mm及び最大開口について測定する。附属文書に定義した繰返し数だけ試

験を繰り返す。

12.3 粒子線参照軸の表示

12.3.1 一般

粒子線ME機器は，患者に対する粒子線参照軸を表示する器具，例えば，レーザ，フロントポインタ，

クロスヘア，直交X線を備えている場合がある。

注記 X線画像誘導放射線治療（IGRT）装置の安全性については，JIS T 60601-2-68:2019に記載され

ている。

12.3.2 患者への入射点の表示

12.3.2.1 使用者への情報

粒子線参照軸を表示する器具を備えている場合，附属文書に，粒子線参照軸から表示した点までの最大

偏差を記載しなければならない。各照射ヘッドに対して表9に規定する試験条件の各セットについて実施

する。

表9−患者への入射点の表示に関する試験条件

架台の角度

位置

照射野限定システム

の角度位置c)

放射線照射野

放射線検出器の

位置

放射線の種類

核子当たり
エネルギー

軸①a),b)

軸④a)

0°

各々のアプリケータに
対する最大照射野寸法

アイソセンタ又
は機器参照点

各軽イオン種

1種類

0°

45°

各々のアプリケータに
対する最大照射野寸法

アイソセンタ又
は機器参照点

各軽イオン種

1種類

180°

各々のアプリケータに
対する最大照射野寸法

アイソセンタ又
は機器参照点

各軽イオン種

1種類

90°

各々のアプリケータに
対する最大照射野寸法

アイソセンタ又
は機器参照点

各軽イオン種

1種類

0°

90°

各々のアプリケータに
対する最大照射野寸法

アイソセンタ又
は機器参照点

各軽イオン種

1種類

270°

90°

各々のアプリケータに
対する最大照射野寸法

アイソセンタ又
は機器参照点

各軽イオン種

1種類

オーバーラ

ップ角度

0°

各々のアプリケータに
対する最大照射野寸法

アイソセンタ又
は機器参照点

各軽イオン種

1種類

注a) 図3参照。

b) 固定架台又は複数離散角架台については，利用可能な固定角度について試験しなければならない。

c) 回転式照射野限定システムをもつシステムの場合。

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

12.3.2.2 試験

最大偏差は，粒子線参照軸に対して垂直方向に十分な空間分解能をもつ放射線検出器にばく射すること

によって決定する。放射線検出器は，機器参照点から上流側250 mm，機器参照点，及び下流側250 mmの

位置に設定する。

注記放射線検出器として撮影用フィルムを使用する場合，表示した粒子線参照軸は複数のピン穴で

マークすることができる。電子イメージング装置を用いる場合，ピン穴の代わりにX線不透過

性マーカを用いて粒子線参照軸を表示することができる。

最大偏差は，製造業者指定の軽イオン種について提示しなければならない。

最大偏差は，架台角度位置0°，90°，180°，270°，及び利用可能なオーバーラップ角度位置に対して，

固定架台又は複数離散角架台では，利用可能な全ての角度位置に対して記載しなければならない。回転範

囲が360°より小さな回転架台に対しては，最小及び最大の角度位置に加え，0°，90°，180°及び 270°

の中で利用可能な角度位置に対して記載しなければならない。

表示器具の設置可能な範囲が機器参照点から上流側又は下流側において250 mm未満の場合，表示器具

は設置可能な範囲の両端に設置する。

12.3.3 患者の下流側における粒子線参照軸の表示

12.3.3.1 使用者への情報

患者の下流側に表示器を備える場合，附属文書には，機器参照点の下流側の0 mm〜500 mmの範囲，又

は製造業者が指定した表示器の動作範囲のいずれか小さい方の範囲に対して，粒子線参照軸に対する表示

の最大偏差を記載しなければならない。

12.3.3.2 試験

試験条件の各セットについて，放射線検出器にばく射する。放射線検出器は，機器参照点，及び機器参

照点の下流側500 mmにおいて粒子線参照軸に対して垂直に配置し，最大偏差を決定する。

注記放射線検出器として撮影用フィルムを用いる場合，粒子線参照軸は複数のピン穴でマークする

ことができる。電子イメージング装置を用いる場合，ピン穴の代わりにX線不透過性マーカを

角又は辺縁に用いて粒子線参照軸を表示することができる。

最大偏差は，製造業者指定の軽イオン種について提示しなければならない。

最大偏差は，架台角度位置0°，90°，180°，270°，及び利用可能なオーバーラップ角度に対して，固

定架台又は複数離散角架台では，利用可能な角度位置に対して記載しなければならない。回転範囲が360°

より小さな回転架台に対しては，最小及び最大の角度位置に加え，0°，90°，180°及び270°の中で利用

可能な角度位置に対して記載しなければならない。

表示器具の設置可能な範囲が，機器参照点から下流側500 mmより小さい場合，放射線検出器は表示器

具の設置可能な範囲の両端に設置する。

12.4 光照射野表示器

12.4.1 使用者への情報

幾つかのシステムでは，粒子線照射野によって治療する領域を示すための光源を備えている。これらの

システムに関して，附属文書には，投影した光照射野の辺縁と粒子線照射野の辺縁との位置の最大差を記

載しなければならない。

12.4.2 試験

試験条件の各セットについて，放射線検出器にばく射しなければならない。光照射野と粒子線照射野と

の最大偏差は，放射線検出器を，機器参照点及び粒子線参照軸に沿った光照射野の可動範囲の上流側と下

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

流側との両端に，粒子線参照軸に対して垂直に配置してばく射し決定する。

注記放射線検出器として撮影用フィルムを使用する場合，光照射野は複数のピン穴でマークするこ

とができる。電子イメージング装置を用いる場合，ピン穴の代わりにX線不透過性マーカを用

いて光照射野の辺縁又は角を表示することができる。

最大偏差は，製造業者指定の軽イオン種について提示しなければならない。

機器参照点に対する光照射野表示器の可動範囲の上流側と下流側との両端の位置は，附属文書に記載し

なければならない。

最大偏差は，架台角度位置0°，90°，180°，270°，及び利用可能なオーバーラップ角度に対して，固

定架台又は複数離散角架台では，利用可能な角度位置に対して記載しなければならない。回転範囲が360°

より小さな回転架台に対しては，最小及び最大の角度位置に加え，0°，90°，180°及び270°の中で利用

可能な角度位置に対して記載しなければならない。

13 患者支持器

13.1 一般

患者支持器は，取外しができない天板，交換が可能な天板，又は専用の椅子型に設計したものを含む。

附属文書には，各患者支持器について定義した参照点を記載しなければならない。

13.2 天板

13.2.1 一般

専用の椅子型の患者支持器には適用しない。

13.2.2 利用可能な天板

a) 患者支持器に複数の天板を使用することが可能な場合，附属文書には，患者支持器に適用でき，製造

業者が利用可能な天板の一覧を記載しなければならない。

注記天板の例として，平板型，フォーク型（片端での単支柱，他方での二重支柱），単支柱，二重

Cアーム型，水ファントムホルダ，ホールボディセミサーキュラーポッド，ヘッド及び首の

ポッド，椅子，ハローアダプタがある。

b) 附属文書には，取扱説明書に記載した方法によって，利用可能な各天板を交換するために要するおお

よその時間（分単位）を記載しなければならない。

c) 正常な使用の条件で，天板を透過して粒子線を照射できる架台に関して，附属文書には，利用可能な

各天板について，粒子線を妨げずに透過することができ（例えば，金属支持物，センサ，又は厚さの

大きな勾配がないことである。），機器参照点を設定することが可能な領域を記載しなければならない。

二重Cアーム型又はフォーク型天板の場合，アームを外向きに最も広げた位置にあるときの透過領域

の長さ及び幅を記載しなければならない。

d) 附属文書には，利用可能な各天板が支持可能な最大質量をキログラム単位で記載しなければならない。

e) Cアーム型天板については，附属文書には，Cアームの最大回転角度を度（°）単位で記載しなけれ

ばならない。

13.2.3 患者支持器に対する天板の動きの範囲

患者支持器に対して天板が動く場合，附属文書には，患者支持器に対する利用可能な各動き（並進及び

回転）について，動きの最大範囲を一覧に記載しなければならない。

13.2.4 前後動の際の天板表面の位置的偏差

13.2.4.1 使用者への情報

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

利用可能な各天板が患者支持器ベース台に対して前後方向に動く場合，附属文書には次を記載しなけれ

ばならない。

a) 水平からの天板表面の縦振り（ピッチング）の最大ピッチ角度

b) アイソセンタ又は機器参照点（の近傍）での天板表面の高さにおける，次の場合の最大差

・天板の長さ1 mにわたって，又は天板の長さが1 mより短い場合は天板全長にわたって，分布させ

た30 kgの質量をアイソセンタ又は機器参照点を通るようにかけたとき。

・天板の長さ2 mにわたって，又は天板の長さが2 mより短い場合は天板全長にわたって，分布させ

た製造業者が指定した最大荷重をアイソセンタ又は機器参照点を通るようにかけたとき。

最大差は，ミリメートル（mm）で表す。

13.2.4.2 試験

表10も参照する。

天板の表面をアイソセンタ又は機器参照点の高さ付近に設定する。

軸⑤及び軸⑥（図3）の角度位置をゼロに設定する。

天板の前後の変位［方向⑪（図3）］を，最小引出し位置で，かつ，機器参照点を含む位置に設定する。

天板には1 mにわたって分布させた30 kgの荷重をかける。ただし，天板の左右位置はゼロに設定する。

天板表面の高さをアイソセンタ又は機器参照点近傍において測定し，表面の縦振りのピッチ角度を測定す

る。

次に，アイソセンタ又は機器参照点において，天板には2 mにわたって分布させた製造業者が指定した

最大荷重をかける。前後方向の変位を最大引出し位置に設定し，天板表面の高さをアイソセンタ又は機器

参照点近傍において測定し，表面の縦振りのピッチ角度を測定する。

天板高さの最大差及び縦振りのピッチ角度を算出し，記載する。

粒子線ME機器が天板の搭載荷重に対する補正を備えている場合，各試験荷重に対して補正を使った試

験を行ってもよい。

表10−患者支持器ベース台に対する前後動の際の天板表面の位置偏差及び

ピッチ角度の偏差に関する試験条件

角度位置

天板の高さ

質量

天板の前後方向の変位

患者支持器のアイソ

セントリック回転

天板の回転

軸⑤a)

軸⑥a)

方向⑨a)

方向⑪a)

0°

アイソセンタ又は機器参
照点に一致

30 kg

アイソセンタ又は機器参
照点を含む最小引出し

0°

アイソセンタ又は機器参
照点に一致

製造業者が指定した
最大荷重

最大引出し

注a) 図3参照。

13.2.5 左右動の際の天板表面の位置的偏差

13.2.5.1 使用者への情報

利用可能な各天板が患者支持器ベースに対して左右方向に動く場合，附属文書には次を記載しなければ

ならない。

・水平からの天板表面の横振りの最大角度

・アイソセンタ又は機器参照点での天板表面の高さまでの最大差。ただし，天板を横方向（左右方向）

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

［方向⑩（図3）］に動かした場合について。

値は，患者支持器の高さ［方向⑨（図3）］の全範囲について適用しなければならない。天板の長さ2 m

にわたって，もし天板の長さが2 mより短い場合は天板全長にわたって，分布するように，製造業者が指

定した最大荷重をかけなければならない。

13.2.5.2 試験

天板の前後方向の変位［方向⑪（図3）］を最大引出し位置に設定し，天板には2 mにわたって分布する

ように製造業者が指定した最大荷重をかける。ただし，天板の左右位置はゼロに，アイソセンタ又は機器

参照点を基準に設定する。

天板は，表11の試験条件の各セットに従って位置設定を行う。

これら各位置で，次を行う。

・アイソセンタ又は機器参照点での天板の横振りの角度を傾斜計（クリノメータ）で測定し記載する。

・天板の前後方向の中心線の高さの偏差を測定し記載する。

粒子線ME機器が天板の搭載荷重に対する補正を備えている場合，各試験荷重に対して補正を使った試

験を行ってもよい。

表11−患者支持器ベースに対する左右動の際の天板表面の位置偏差に関する試験条件

角度位置

天板の高さ

天板の左右方向

の変位

患者支持器のアイソ

セントリック回転

天板の回転

軸⑤a)

軸⑥a)

方向⑨a)

方向⑩a)

0°

最大

右最大

中心

左最大

0°

アイソセンタ又は機器
参照点から100 mm下

右最大

中心

左最大

注a) 図3参照。

13.3 座標系

座標系及びスケール（目盛）は，IEC 61217:2011に従わなければならない。IEC 61217:2011が適用でき

ない場合には，附属文書にIEC 61217:2011座標系からの変換方法を記載しなければならない。

13.4 患者支持器の動きの範囲

13.4.1 使用者への情報

附属文書には，患者支持器の利用可能な各並進運動及び回転運動について，動きの最大範囲を一覧にて

記載しなければならない。

注記これらの動きには，前後，左右，上下，回転，縦振り，横振り，アイソセントリック，エキセ

ントリックなどを含めることができる。

天板を備えた患者支持器に関して記載する動きは天板のアダプタ（取付器具）の上に参照点を設定し，

IEC固定座標系について示さなければならない。患者支持器に対して1種類の天板だけ利用可能であり，

動かすことができない（取外しができない）場合，参照点は天板表面に前後方向の中心線に沿って与えな

ければならない。

専用の椅子形状の患者支持器の場合，記載する動きは椅子の上に参照点を設定し，IEC固定座標系につ

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

いて示さなければならない。附属文書には参照点の定義を記載しなければならない。

13.4.2 患者支持器のアイソセントリック回転

13.4.2.1 使用者への情報

附属文書には，患者支持器のアイソセントリック回転軸の架台アイソセンタからの最大変位を記載しな

ければならない。最大変位は，天板に1 mにわたって分布するように30 kgの荷重をかけた場合，及び2 m

にわたって，もし天板が2 mより短い場合は天板の全長にわたって，分布するように，製造業者が指定し

た最大荷重をかけた場合について記載する。

最大変位は，ミリメートル（mm）で表す。

注記一連の動きの前に架台アイソセンタに設定した天板の上の点が，動きの後（間）も架台アイソ

センタに維持するように設定している場合は，患者支持器はアイソセントリック患者支持器と

考えられる。

13.4.2.2 試験

ポインタは患者支持器の上の，あらかじめ決定したアイソセンタの場所（6.8参照）に設定する。ポイ

ンタは，2軸垂直配向光学式セオドライト，X線管及び撮像装置，又は同等な器具によって観察する。患

者支持器は，アイソセントリック軸を中心に角度全範囲について回転する，又はアイソセントリック回転

を模擬する。二つの表示の間の三角測量は，各中間角度位置についてポインタの変位を決定するために使

用する。最大偏差は，時計回り及び反時計回りの両方について測定し，記載する。

13.4.3 患者支持器の並進運動の精度（accuracy）

13.4.3.1 使用者への情報

附属文書には，2点間の移動に対して並進運動の精度（accuracy）を記載しなければならない。2点は，

IEC固定座標系の各Xf，Yf，及びZf 方向について200 mm以上離れた点を設定する。動きの最大距離が200

mmより小さい場合は動きの可能な最大距離を設定する。

各方向における設定位置と測定位置との偏差は，ミリメートル（mm）で表す。

13.4.3.2 試験

動きはアイソセンタ又は機器参照点を中心として設定しなければならない。

天板を備えた患者支持器の場合，患者支持器に1 mにわたって，もし天板が1 mより短い場合は天板の

全長にわたって，分布するように30 kgの荷重を患者支持器にかけた条件にて測定する。さらに，2 mに

わたって，もし天板が2 mより短い場合は天板の全長にわたって，分布するように，製造業者が指定した

最大荷重をかけた場合について測定する。

専用の椅子形状の患者支持器の場合，アイソセンタ又は機器参照点を参照点として2点の間の動きの中

心として試験し，記載しなければならない。

椅子には30 kgの質量を載せた場合と，製造業者が指定した最大荷重を載せた場合との，二つの荷重条

件について試験し，記載しなければならない。

13.4.4 患者支持器の回転運動の精度（accuracy）

13.4.4.1 使用者への情報

附属文書には，利用可能な全ての回転運動に対して，設定角度と測定角度との偏差を記載しなければな

らない。回転開始時と停止時との角度は6°以上離れていること，回転動作が可能な最大角度が6°より小

さい場合は動作可能な最大角度について記載しなければならない。

各方向における設定角度と測定角度との偏差は，度（°）単位で表す。

13.4.4.2 試験

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

試験は，時計回り及び反時計回りの両方について実施しなければならない。

天板を備えた患者支持器の場合，患者支持器に1 mにわたって，もし天板が1 mより短い場合は天板の

全長にわたって，分布するように30 kgの荷重を患者支持器にかけた条件にて測定する。さらに，2 mに

わたって，もし天板が2 mより短い場合は天板の全長にわたって，分布するように，製造業者が指定した

最大荷重をかけた場合について測定する。

専用の椅子形状の患者支持器の場合，アイソセンタ又は機器参照点を中心とした参照点の回転運動とし

て試験し，記載しなければならない。

図1−飛程変調しない粒子線の場合に関連したパラメータの説明図

a) 陽子

b) 炭素イオン

それぞれのグラフ上での上のカーブは物理線量を与える。それぞれのグラフ上での二つの小さなカーブは，飛程変

調方法における要素の中の最小又は最大の核子当たりエネルギーの深部線量分布を表す。それぞれのグラフ上で両端
が矢印の線で示した，最大の核子当たりエネルギー要素と最小の核子当たりエネルギー要素との水等価厚の差は，公
称飛程変調幅である。

図2−粒子線飛程変調ポータルによる深部分布に関連したパラメータの説明図

水深（cm）

相

対

線

量

0.1

0.2

0.3

0.4

0.5

0.6

0.7

0.8

0.9

1.1

炭素イオン

最大の核子当たりエネルギー要素と

最小の核子当たりエネルギー要素の水等価厚の差

0 0

相

対

線

量

0.1

0.2

0.3

0.4

0.5

0.6

0.7

0.8

0.9

1.1

陽子

最大の核子当たりエネルギー要素と

最小の核子当たりエネルギー要素の水等価厚の差

水深（cm）

100

150

200

250

0 0

0.1

0.2

0.3

0.4

0.5

0.6

0.7

0.8

0.9

1.1

飛程変調しない粒子線の

深部線量分布

ピーク線量

粒子線飛程

エントランス線量

テール線量

30 mm

水深（mm）

相

対

線

量

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

図4−横方向分布測定の深さ

図5−主軸における吸収線量の分布形状の例

1.2

1.1

Dmax

0.9

0.8

0.7

0.6

Dmin

ビーム軸

放射線照射野
の辺縁

0.5

0.4

0.3
0.2

平たん化領域

0.1

0‒15

‒10

‒5

軸からの距離（cm）

相

対

線

量

水ファントム

90 %

50 %

90 %

97 %

走査 5

走査 1

走査 2

走査 4

走査 3

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

a) 角形の場合

b) 円形の場合

図6−放射線照射野内の平たん化領域

平たん化領域

（網掛け部）

放射線照射

ビーム軸

放射線照射ビー
ム軸上の50 %吸

収線量曲線

放射線照射野の寸法 F

主軸

対角軸

照射ビーム軸上
の50 %吸収線量
曲線

放射線照射

主軸

平たん化領域

（斜線部）

放射線照射野の公称

の辺縁

対角軸

放射線照射野の寸法 F

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

附属書A

（参考）

性能値を提示するための様式

一般情報

製造業者 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

粒子線ME機器の型番 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

資料作成年月日 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲ 設置場所 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

4.1

一般環境条件

温度（℃） ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

相対湿度 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

気圧（Pa） ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

注記 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

4.2

輸送及び保管の環境条件

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

4.3

建屋の安定性

建屋の最大許容変形量 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

5.2

意図したパラメータ

意図したビームパラメータの組合せ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

6.1

軽イオン種

一般名称

陽子数

核子数

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

6.2.1

核子当たりエネルギー又は粒子線飛程の選択法

方法 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

6.2.2

利用可能な核子当たりエネルギー又は粒子線飛程の範囲

軽イオン種

最小核子当たりエネルギー（MeV/n）

又は

最小粒子線飛程（mm，水等価値）

最大核子当たりエネルギー（MeV/n）

又は

最大粒子線飛程（mm，水等価値）

段数

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

6.2.3

核子当たりエネルギー又は粒子線飛程を確認する方法

主要な方法 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

バックアップの方法 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

6.2.4

核子当たりエネルギー又は粒子線飛程の精度（accuracy）

̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲ MeV/n 又は ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲ mm，水等価値 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

6.3.1

ビームゲーティングの方法

6.3.2

ビームゲーティングが要求する入力トリガ

信号 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

6.4.1

架台のタイプ

軽イオン種

利用可能な架台のタイプ

単一システムで利用可能な各架台タイプの最大数

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

6.4.2

架台の設定

タイプ

最大及び最小

の角度

（°）

オーバーラップしている
範囲の最小及び最大角度

（°）

最小及び最大核子当たり

エネルギー（MeV/n）又は

粒子線飛程

（mm，水等価値）

最大回転速度

（°･s-1）

最大角加速度

（°･s-2）

最大角減速度

（°･s-2）

緊急停止後の

回転角度

（°）

6.4.3

架台角度の読出し

精度（accuracy）［度（°）の単位で10進法で記載］ ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

6.5

アプリケータ架台

アプリケータ架台の参照点とアイソセンタ又は機器参照点との最小距離（mm）

アプリケータ架台の参照点とアイソセンタ又は機器参照点との最大距離（mm）

読出し精度（accuracy）（mm） ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲ 最小並進速度（mm･s-1） ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

最大並進速度（mm･s-1） ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲ 緊急停止後の距離（mm） ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

6.6

粒子線アプリケータ

架台タイプ ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

情報

アプリケータ1 アプリケータ2 アプリケータ3 アプリケータ4 アプリケータ5 アプリケータ6 アプリケータ7

一般名称

識別子

形状

粒子線アプリケータ長
（mm）

完全に繰り出したときの，粒子線アプリ
ケータの先端部からアイソセンタ又は機
器参照点までの距離
（mm）

利用可能な患者コリメータの外形寸法
（mm×mm長方形の場合，mm丸形の場
合）

先端部から300 mmの位置の，粒子線アプ
リケータの外形寸法
（mm×mm長方形の場合，mm丸形の場
合）

先端の，粒子線アプリケータの外形寸法
（mm×mm長方形の場合，mm丸形の場
合）

交換にかかる見込み時間（分）

質量
（kg）

最大粒子線照射野寸法（Xb及びYb軸から
成る座標系上の値）
（mm×mm）

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

6.7

調整可能な照射野限定器

情報

アプリケータ1

アプリケータ2

アプリケータ3

アプリケータ4

タイプ

動作可能な最大範囲（Xb, Yb）
（mm×mm）

装置位置での最大速度
（mm/s）

粒子線参照軸周りの最大回転角度
（°）

粒子線参照軸周りの最小回転角度
（°）

長方形タイプの調整可能な照射野限定器の場合は，次を加える。

情報

アプリケータ1

アプリケータ2

アプリケータ3

アプリケータ4

タイプ

平行からの最大角度偏差
（°）

隣接する縁同士の直角度の最大角度偏差
（°）

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

多分割タイプの調整可能な照射野限定器の場合は，次を加える。

情報

照射野限定器 1

照射野限定器 2

照射野限定器 3

照射野限定器 4

照射野限定器の構成

リーフ端の形状

リーフの数（Xb, Yb）

Xb及びYbに平行な方向のリーフの寸法

（mm，mm）

照射ヘッド軸に平行なリーフの厚さ
（mm）

リーフ架台の移動なしで，機械位置での最大粒子線照
射野寸法（Xb, Yb）
（mm，mm）

リーフ架台の移動範囲
（mm）

装置位置でのリーフ端の位置の精度（accuracy）
（cm）

装置位置でのリーフ端の位置の再現性
（cm）

製造業者指定のリーフの最小及び最大速度
（mm/s，mm/s）

装置位置でのリーフ位置読出し分解能
（mm）

装置を組み合わせた使用の可否

予備品使用上の判定基準

調整可能又は交換可能な照射野限定器の後ろでの平均
相対吸収線量

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

6.8

アイソセンタ

軽イオン種

スキャニングモード

粒子線アプリケータ

最大変位

（mm）

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

6.9.1

照射ヘッドにおける横方向拡大器のタイプ及び順序

順序

横方向拡大器のタイプ

横方向拡大器のサブタイプ

横方向拡大器 1

横方向拡大器 2

横方向拡大器 3

横方向拡大器 4

横方向拡大器 5

横方向拡大器 6

6.9.2

ビームを横方向に拡大するための利用可能なスキャニングモード

スキャニングモード 1

スキャニングモード 2

スキャニングモード 3

スキャニングモード 4

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

6.9.3

一様スキャニング

パターン識別子

パターン

形状

オーバースキャン距離

（Xg，Yg）

（mm×mm）

±3 %以下の平たん度を得る，

最小吸収線量

（Gy）

ビームゲーティングとの互換

6.9.4

ビームを走査するための同期のタイプ

架台のタイプ ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

同期モード 1

同期モード 2

同期モード 3

同期モード 4

同期モード 5

同期モード 6

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

6.9.5

仮想線源回転軸間距離（VSAD）

横方向拡大器

散乱体によって形成する

照射野の直径

（適用できる場合）

（mm）

粒子線アプリケータ

スキャニングモード

Xg方向の最小の

仮想線源回転軸間距離

（mm）

Yg方向の最小の

仮想線源回転軸間距離

（mm）

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

6.10.2 最大照射時間

軽イオン種

核子当たりエネルギーの最大値

（MeV/n）

核子当たりエネルギーが

最大の場合の最大照射時間

（min）

核子当たりエネルギーの最小値

（MeV/n）

核子当たりエネルギーが

最小の場合の最大照射時間

（min）

6.10.3 異なった照射室における照射の間の切替え時間

切替え時間 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲（s）

6.10.4 共通の機器参照点をもつ照射ヘッドの間の切替え時間

切替え時間 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲（s）

6.10.5 二つの核子当たりエネルギー値の間の切替え時間

任意の核子当たりエネルギーへの切替え時間 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲（s）

6.10.6 二つの軽イオン種の間の切替え時間

切替え時間 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲（s）

6.10.7 照射終了及び照射中断の所要時間

照射終了までの時間 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲（s）

照射中断までの時間 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲（s）

6.10.8 照射再開の所要時間

再開時間 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲（s）

6.10.9 起動時間

起動時間 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲（min）

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

6.10.10

停止の所要時間

停止時間 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲（min）

6.11 保守

粒子線ME機器の機能を効果的に使うために必要な，予防点検のスケジュール，保守，及び校正手順は，次の名称の添付文書に記載する。

7.1

一般

ビーム照射モード

線量モニタユニットの範囲

線量モニタユニット率の範囲

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

7.3

線量モニタユニット照射の再現性

粒子線照射による吸収線量と線量モニタユニットとの比Rの変動係数sの最大値

軽イオン種

核子当たり
エネルギー

（MeV/n）

ビーム照射

モード

横方向拡大器

の組合せ

最小線量モニタユニ

ット率でのs

（%）

最小線量モニタユニッ

ト率での最大偏差

（%）

最大線量モニタユニ

ット率でのs

（%）

最大線量モニタユニ
ット率での最大偏差

（%）

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

7.4

線量モニタユニット照射の直線性

次に示す線量モニタユニット及び線量モニタユニット率の範囲における，放射線検出器の測定値と，線量モニタユニット値Uと比例係数Sとの積，と

の最大偏差

軽イオン種

核子当たりエネルギー

スキャニングモード

横方向拡大器の組合せ

最小線量モニタユニット

率での最大偏差

（%）

最大線量モニタユニット

率での最大偏差

（%）

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

7.5

変調スキャニングのためのビームフラックスモニタの軸外応答

ビームフラックスモニタの全軸外位置におけるRの最大値と最小値との最大差

軽イオン種

公称最大差

（%）

7.6

線量モニタユニット照射の角度位置依存性

架台の全角度域におけるRの最大値と最小値との最大差

軽イオン種

公称最大差

（%）

7.7.1

1日内の安定性

8時間の模擬患者治療の間のRの最大差

̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲ %

7.7.2

1週間内の安定性

1週間内のRの最大値と最小値との最大差

̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲ %

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

8.1

飛程非変調ポータルにおける深部線量分布

深部線量分布データは，次の添付文書に記載する。 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

軽イオン種

粒子線

アプリケータ

核子当たりエネルギー

又は粒子線飛程

（MeV/n）

又は（mm，水等価値）

エントランス−ピーク

線量比

テール−ピーク線量比

下流側80 %線量深さと

下流側20 %線量深さとの差

（mm，水等価値）

下流側90 %線量深さと

下流側50 %線量深さとの差

（mm，水等価値）

最小値

(最小値＋最大値)/2

最大値

8.2.1

照射ヘッド中の飛程変調器のタイプ及び構成

構成

飛程変調器からアイソセンタ

又は機器参照点までの距離

（mm）

飛程変調器タイプ

飛程変調器サブタイプ

飛程変調器挿入方法

飛程変調器 1

飛程変調器 2

飛程変調器 3

8.2.2

離散型飛程変調器

名称

公称飛程変調幅（NRMW）

（mm）

核子当たりエネルギーの最大値

（MeV/n）

核子当たりエネルギーの最小値

（MeV/n）

提供する照射野寸法の最大値

（mm×mm）

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

8.2.3

プログラマブル飛程変調器

プログラマブル飛程変調器を用いてプログラマブル飛程変調ポータルを供給する手順の記載

名称

公称飛程変調幅の最大値

（mm，水等価値）

公称飛程変調幅の最小値

（mm，水等価値）

核子当たりエネルギーの

最大値

（MeV/n）

核子当たりエネルギーの

最小値

（MeV/n）

照射野寸法の最大値

（mm×mm）

8.3

飛程変調ポータルの深部線量分布

飛程調整器

軽イオン種

核子当たりエネルギー

（MeV/n）

粒子線アプリケータ

粒子線飛程

（水等価値）

下流側10 % 線量深さ−

下流側90 % 線量深さ

（mm，水等価値）

アイソセンタ又は
機器参照点の深さ

（mm，水等価値）

公称飛程変調幅

（mm，水等価値）

8.4.1

治療中の核子当たりエネルギー又は粒子線飛程の安定性

軽イオン種

核子当たりエネルギー

（MeV/n）

偏差

（mm，水等価値）

最大値

(最大値＋最小値)/2

最小値

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

8.4.2

粒子線飛程の架台回転依存性

軽イオン種

粒子線アプリケータ

核子当たりエネルギー

（MeV/n）

架台角度

（°）

偏差

（mm，水等価値）

最大値

角度1

最大値

角度 2

(最大値＋最小値)/2

角度1

(最大値＋最小値)/2

角度 2

最小値

角度1

9.1.2

粒子線ポータルの平たん度

架台タイプ ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲ スキャニングモード ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲ 横方向拡大器の組合せ ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

軽イオン種

粒子線アプリケータ

核子当たりエネルギー

（MeV/n）

架台角度

（°）

深さ

横方向の最大及び最小偏差

（%）

縦方向の最大及び最小偏差

（%）

最大値

上流側90 %

(最大値＋最小値)/2

変調の中心

最小値

下流側90 %

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

9.1.3

粒子線ポータルの対称性

架台タイプ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲ スキャニングモード̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲ 横方向拡大器組合せ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

軽イオン種

粒子線アプリケータ

核子当たりエネルギー

（MeV/n）

架台角度

（°）

深さ

水平方向の対称性

（%）

垂直方向の対称性

（%）

最大値

上流側90 %

最大値

変調の中心

最大値

下流側90 %

最大値

上流側90 %

最大値

変調の中心

最大値

下流側90 %

最大値

270

上流側90 %

最大値

270

変調の中心

最大値

270

下流側90 %

最大値

上流側90 %

最大値

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

上流側90 %

(最大値＋最小値)/2

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

下流側90 %

(最大値＋最小値)/2

上流側90 %

(最大値＋最小値)/2

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

下流側90 %

(最大値＋最小値)/2

270

上流側90 %

(最大値＋最小値)/2

270

変調の中心

最小値

下流側90 %

最小値

変調の中心

最小値

上流側90 %

最小値

上流側90 %

最小値

変調の中心

最小値

下流側90 %

最小値

270

上流側90 %

最小値

270

変調の中心

最小値

270

下流側90 %

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

軽イオン種

粒子線アプリケータ

核子当たりエネルギー

（MeV/n）

架台角度

（°）

深さ

水平方向の対称性

（%）

垂直方向の対称性

（%）

最大値

上流側90 %

最大値

変調の中心

最大値

下流側90 %

最大値

上流側90 %

最大値

変調の中心

最大値

下流側90 %

最大値

270

上流側90 %

最大値

270

変調の中心

最大値

270

下流側90 %

最大値

上流側90 %

最大値

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

上流側90 %

(最大値＋最小値)/2

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

下流側90 %

(最大値＋最小値)/2

上流側90 %

(最大値＋最小値)/2

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

下流側90 %

(最大値＋最小値)/2

270

上流側90 %

(最大値＋最小値)/2

270

変調の中心

最小値

下流側90 %

最小値

変調の中心

最小値

下流側90 %

最小値

上流側90 %

最小値

変調の中心

最小値

下流側90 %

最小値

270

上流側90 %

最小値

270

変調の中心

最小値

270

下流側90 %

最大値

上流側90 %

最大値

変調の中心

最大値

下流側90 %

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

軽イオン種

粒子線アプリケータ

核子当たりエネルギー

（MeV/n）

架台角度

（°）

深さ

水平方向の対称性

（%）

垂直方向の対称性

（%）

最大値

上流側90 %

最大値

変調の中心

最大値

下流側90 %

最大値

270

上流側90 %

最大値

270

変調の中心

最大値

270

下流側90 %

最大値

上流側90 %

最大値

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

上流側90 %

(最大値＋最小値)/2

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

下流側90 %

(最大値＋最小値)/2

上流側90 %

(最大値＋最小値)/2

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

下流側90 %

(最大値＋最小値)/2

270

上流側90 %

(最大値＋最小値)/2

270

変調の中心

最小値

下流側90 %

最小値

変調の中心

最小値

下流側90 %

最小値

上流側90 %

最小値

変調の中心

最小値

下流側90 %

最小値

270

上流側90 %

最小値

270

変調の中心

最小値

270

下流側90 %

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

9.1.4

一様スキャニング照射法，又は散乱体法における横方向半影

架台タイプ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲ スキャニングモード̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲ 横方向拡大器組合せ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

軽イオン種

粒子線アプリケータ

核子当たりエネルギー

（MeV/n）

架台角度

（°）

深さ

水平方向

（mm）

垂直方向

（mm）

最大値

上流側90 %

最大値

変調の中心

最大値

下流側90 %

最大値

上流側90 %

最大値

変調の中心

最大値

下流側90 %

最大値

270

上流側90 %

最大値

270

変調の中心

最大値

270

下流側90 %

最大値

上流側90 %

最大値

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

上流側90 %

(最大値＋最小値)/2

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

下流側90 %

(最大値＋最小値)/2

上流側90 %

(最大値＋最小値)/2

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

下流側90 %

(最大値＋最小値)/2

270

上流側90 %

(最大値＋最小値)/2

270

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

360

下流側90 %

最小値

下流側90 %

最小値

変調の中心

最小値

下流側90 %

最小値

上流側90 %

最小値

変調の中心

最小値

下流側90 %

最小値

270

上流側90 %

最小値

270

変調の中心

最小値

270

下流側90 %

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

軽イオン種

粒子線アプリケータ

核子当たりエネルギー

（MeV/n）

架台角度

（°）

深さ

水平方向

（mm）

垂直方向

（mm）

最大値

上流側90 %

最大値

変調の中心

最大値

下流側90 %

最大値

上流側90 %

最大値

変調の中心

最大値

下流側90 %

最大値

270

上流側90 %

最大値

270

変調の中心

最大値

270

下流側90 %

最大値

上流側90 %

最大値

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

上流側90 %

(最大値＋最小値)/2

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

下流側90 %

(最大値＋最小値)/2

上流側90 %

(最大値＋最小値)/2

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

下流側90 %

(最大値＋最小値)/2

270

上流側90 %

(最大値＋最小値)/2

270

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

360

下流側90 %

最小値

下流側90 %

最小値

変調の中心

最小値

下流側90 %

最小値

上流側90 %

最小値

変調の中心

最小値

下流側90 %

最小値

270

上流側90 %

最小値

270

変調の中心

最小値

270

下流側90 %

最大値

上流側90 %

最大値

変調の中心

最大値

下流側90 %

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

軽イオン種

粒子線アプリケータ

核子当たりエネルギー

（MeV/n）

架台角度

（°）

深さ

水平方向

（mm）

垂直方向

（mm）

最大値

上流側90 %

最大値

変調の中心

最大値

下流側90 %

最大値

270

上流側90 %

最大値

270

変調の中心

最大値

270

下流側90 %

最大値

上流側90 %

最大値

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

上流側90 %

(最大値＋最小値)/2

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

下流側90 %

(最大値＋最小値)/2

上流側90 %

(最大値＋最小値)/2

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

下流側90 %

(最大値＋最小値)/2

270

上流側90 %

(最大値＋最小値)/2

270

変調の中心

(最大値＋最小値)/2

360

下流側90 %

最小値

下流側90 %

最小値

変調の中心

最小値

下流側90 %

最小値

上流側90 %

最小値

変調の中心

最小値

下流側90 %

最小値

270

上流側90 %

最小値

270

変調の中心

最小値

270

下流側90 %

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

9.2.1

スキャニングスポットの位置，サイズ，及び形状

横方向フルエンス分布の2次元プロットは，次の添付文書に記載する。 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

軽イオン種

核子当たり
エネルギー

（MeV/n）

架台角度

（°）

X方向最大

位置偏差

（mm）

Y方向最大

位置偏差

（mm）

X方向位置
偏差の平均

（mm）

X方向位置
偏差の標準

偏差（mm）

Y方向位置
偏差の平均

（mm）

Y方向位置
偏差の標準

偏差（mm）

X方向半値
全幅の最大

偏差（mm）

Y方向半値
全幅の最大

偏差（mm）

最大値

180

最大値

270

最大値

オーバーラ

ップ

(最大値＋最

小値)/2

(最大値＋最

小値)/2

(最大値＋最

小値)/2

180

(最大値＋最

小値)/2

270

(最大値＋最

小値)/2

オーバーラ

ップ

最小値

180

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

軽イオン種

核子当たり
エネルギー

（MeV/n）

架台角度

（°）

X方向最大

位置偏差

（mm）

Y方向最大

位置偏差

（mm）

X方向位置
偏差の平均

（mm）

X方向位置
偏差の標準

偏差（mm）

Y方向位置
偏差の平均

（mm）

Y方向位置
偏差の標準

偏差（mm）

X方向半値
全幅の最大

偏差（mm）

Y方向半値
全幅の最大

偏差（mm）

最小値

270

最小値

オーバーラ

ップ

最大値

180

最大値

270

最大値

オーバーラ

ップ

(最大値＋最

小値)/2

(最大値＋最

小値)/2

(最大値＋最

小値)/2

180

(最大値＋最

小値)/2

270

(最大値＋最

小値)/2

オーバーラ

ップ

最小値

180

最小値

270

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

軽イオン種

核子当たり
エネルギー

（MeV/n）

架台角度

（°）

X方向最大

位置偏差

（mm）

Y方向最大

位置偏差

（mm）

X方向位置
偏差の平均

（mm）

X方向位置
偏差の標準

偏差（mm）

Y方向位置
偏差の平均

（mm）

Y方向位置
偏差の標準

偏差（mm）

X方向半値
全幅の最大

偏差（mm）

Y方向半値
全幅の最大

偏差（mm）

最小値

オーバーラ

ップ

最大値

180

最大値

270

最大値

オーバーラ

ップ

(最大値＋最

小値)/2

(最大値＋最

小値)/2

(最大値＋最

小値)/2

180

(最大値＋最

小値)/2

270

(最大値＋最

小値)/2

オーバーラ

ップ

最小値

180

最小値

270

最小値

オーバーラ

ップ

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

10.1 推奨する一連の品質保証試験

一連の品質保証試験の詳細についての情報は，次の添付文書に記載する。 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

10.2 小さな投与線量に対するビーム特性及び線量計測システムの性能

最小の線量モニタユニット ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

最大線量モニタユニット ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲＋̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

11 指定の体積の照射の所要時間

架台 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲

軽イオン種

核子当たりエネルギー

（MeV/n）

スキャニングモード

横方向拡大器（LSD）

組合せ

粒子線アプリケータ

10×10×10 cm3

体積（s）

20×20×5 cm3

体積（s）

12.1 アプリケータ架台の繰出し位置を示す表示器の精度（accuracy）

最大差 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲ ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲ mm

12.2 多分割照射野限定器の構成要素の位置の表示

最大差 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲ mm

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

12.3.2 患者への入射点における粒子線参照軸の表示

架台角度

照射野限定システムの角度

最大差

（mm）

0°

45°

180°

90°

0°

90°

270°

90°

オーバーラップ角度

0°

12.3.3 患者の下流側における粒子線参照軸の表示

架台角度

最大差

（mm）

0°

90°

180°

270°

オーバーラップ角度

12.4 光照射野表示器の表示

架台角度

最大差

（mm）

0°

90°

180°

270°

オーバーラップ角度

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

13.2.2 交換可能な天板

天板ID

天板タイプ

おおよその交換時間

（分）

妨げのない照射領域

（mm×mm）

最大積載質量

（kg）

Cアーム型天板の回転角度

（°）

13.2.3 患者支持器に対する天板の動きの範囲

前後方向

（mm）

左右方向

（mm）

上下方向

（mm）

回転

（°）

縦振り
（°）

横振り
（°）

アイソセントリック

エキセントリック

13.2.4 前後動の際の天板表面の位置的偏差

天板ID

縦振り角度の最大偏差

（°）

高さ方向の最大差

（mm）

補正適用（あり／なし）

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

13.2.5 左右動の際の天板表面の位置的偏差

天板ID

横振り角度の最大値

（°）

高さの最大差

（mm）

補正適用（あり／なし）

13.4.1 患者支持器の動きの範囲

前後方向

（mm）

左右方向

（mm）

上下方向

（mm）

回転

（°）

縦振り
（°）

横振り
（°）

アイソセントリック

エキセントリック

13.4.2 患者支持器のアイソセントリック回転

患者支持器のアイソセントリック回転軸の架台アイソセンタからの最大変位

質量30 kgの場合 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲ mm

最大荷重の場合 ̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲̲ mm

13.4.3 患者支持器の並進運動の精度（accuracy）

患者支持器の

動き

質量

（kg）

Xf位置

（mm)

Yf位置

（mm）

Zf位置

（mm）

Xf方向の

最大偏差

（mm）

Yf方向の

最大偏差

（mm）

Zf方向の

最大偏差

（mm）

−

最大

−

最大

−

最大

−

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

13.4.4 患者支持器の回転運動の精度（accuracy）

患者支持器の

動き

質量

（kg）

縦振り角度

（°）

横振り角度

（°）

アイソセントリ

ック回転移動

（°）

エキセントリ
ック回転移動

（°）

縦振り角度
の最大偏差

（°）

横振り角度
の最大偏差

（°）

アイソセントリック

回転角の最大偏差

（°）

エキセントリック
回転角の最大偏差

（°）

縦振り回転

最大

横振り回転

縦振り回転

最大

アイソセント
リック回転

最大

エキセントリ
ック回転

最大

：

)

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

参考文献

[1] JIS Z 4752-3-5:2008 医用画像部門における品質維持の評価及び日常試験方法−第3-5部：受入試験−

医用X線CT装置

注記対応国際規格：IEC 61223-3-5:2004，Evaluation and routine testing in medical imaging departments

−Part 3-5: Acceptance tests−Imaging performance of computed tomography X-ray equipment

[2] JIS T 61267:2014 診断用X線装置−特性決定に用いる放射線条件

注記対応国際規格：IEC 61267:2005，Medical diagnostic X-ray equipment−Radiation conditions for use

in the determination of characteristics

[3] JIS T 62083:2017 医用電気機器−放射線治療計画システムの安全要求事項

注記対応国際規格：IEC 62083:2009，Medical electrical equipment−Requirements for the safety of

radiotherapy treatment planning systems

[4] IEC 60601-2-11:2013，Medical electrical equipment−Part 2-11: Particular requirements for the basic safety

and essential performance of gamma beam therapy equipment

[5] IEC 60601-2-17:2013，Medical electrical equipment−Part 2-17: Particular requirements for the basic safety

and essential performance of automatically-controlled brachytherapy afterloading equipment

[6] JIS T 60601-2-68:2019 医用電気機器−第2-68部：電子加速装置，軽イオンビーム治療装置及び放射

性核種治療装置と組み合わせるX線に基づく画像誘導放射線治療装置の基礎安全及び基本性能に関す

る個別要求事項

注記対応国際規格：IEC 60601-2-68:2014，Medical electrical equipment−Part 2-68: Particular

requirements for the basic safety and essential performance of X-ray-based image-guided

radiotherapy equipment for use with electron accelerators, light ion beam therapy equipment and

radionuclide beam therapy equipment

[7] IEC 60731:2011，Medical electrical equipment−Dosimeters with ionization chambers as used in radiotherapy

[8] IEC 60976:2007，Medical electrical equipment−Medical electron accelerators−Functional performance

characteristics

[9] IEC 62220-1-1:2015，Medical electrical equipment−Characteristics of digital X-ray imaging devices−Part

1-1: Determination of the detective quantum efficiency−Detectors used in radiographic imaging

[10] IEC 62366-1:2015，Medical devices−Part 1: Application of usability engineering to medical devices

[11] ICRU 33，Radiation Quantities and Units

[12] ICRU 85a，Fundamental Quantities and Units for Ionizing Radiation

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

定義した用語の索引

注記対応英語に英略語がある場合は，括弧内“( )”に示した。

定義した用語（日本語）

定義した用語（英語）

出典・定義した箇所

アイソセンタ

ISOCENTRE

JIS Z 4005:2012，10558

アイソセントリック

ISOCENTRIC

3.18

アイソセントリック装置

ISOCENTRIC EQUIPMENT

3.19

アイソセントリック治療

ISOCENTRIC TREATMENT

3.20

アプリケータ架台

APPLICATOR CARRIAGE

3.4

一様スキャニング

UNIFORM SCANNING

3.45

一様スキャニングパター

ン

UNIFORM SCANNING PATTERN

3.46

医用電気機器，ME機器

MEDICAL ELECTRICAL EQUIPMENT (ME

EQUIPMENT)

JIS T 0601-1:2017，3.63

インタロック

INTERLOCK

JIS Z 4005:2012，10523

受入試験

ACCEPTANCE TEST

3.1

エントランス−ピーク線

量比

ENTRANCE-TO-PEAK DOSE RATIO

3.9

核子当たりエネルギー

ENERGY PER NUCLEON

3.8

仮想線源

VIRTUAL SOURCE

JIS Z 4005:2012，11260

仮想線源回転軸間距離，

VSAD

VIRTUAL SOURCE-TO-AXIS DISTANCE

(VSAD)

3.47

画像誘導放射線治療，

IGRT

IMAGE-GUIDED RADIOTHERAPY (IGRT)

JIS T 60601-2-68:2019，201.3.209

架台

GANTRY

3.13

患者

PATIENT

JIS T 0601-1:2017，3.76

患者コリメータ

APERTURE

3.3

患者支持器

PATIENT SUPPORT

JIS Z 4705:2015，201.3.215

機器参照点，ERP

EQUIPMENT REFERENCE POINT (ERP)

3.10

基準方向

REFERENCE DIRECTION

JIS Z 4005:2012，10976

規定の，規定した

SPECIFIC

JIS Z 4005:2012，11094

吸収線量

ABSORBED DOSE

JIS Z 4005:2012，10003

吸収線量率

ABSORBED DOSE RATE

JIS Z 4005:2012，10004

軽イオン

LIGHT ION

3.23

形式試験

TYPE TEST

3.44

公称飛程変調幅，NRMW

NOMINAL RANGE MODULATION WIDTH

(NRMW)

3.30

工具

TOOL

JIS T 0601-1:2017，3.127

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

定義した用語（日本語）

定義した用語（英語）

出典・定義した箇所

撮影用フィルム

RADIOGRAPHIC FILM

JIS Z 4005:2012，10929

指定の，指定した

SPECIFIED

JIS Z 4005:2012，11096

主線量モニタシステム

PRIMARY DOSE MONITORING SYSTEM

JIS Z 4005:2012，10834

主副線量モニタシステム

PRIMARY-SECONDARY

DOSE

MONITORING SYSTEM

JIS Z 4005:2012，10839

準備完了状態

READY STATE

JIS Z 4005:2012，10964

準備状態

PREPARATORY STATE

JIS Z 4005:2012，10832

使用者

USER

JIS Z 4005:2012，11247

照射，照射する

IRRADIATION，TO IRRADIATE

3.16

照射開始

INITIATION OF IRRADIATION

3.14

照射時間

IRRADIATION TIME

3.17

照射終了，照射を終了する TERMINATION OF IRRADIATION/

TERMINATE IRRADIATION

3.43

照射中断，照射を中断する INTERRUPTION OF IRRADIATION，TO

INTERRUPT IRRADIATION

3.15

照射ヘッド

RADIATION HEAD

3.34

照射野限定器

BEAM LIMITING DEVICE

JIS Z 4005:2012，10115

照射野限定システム

BEAM LIMITING SYSTEM

JIS Z 4005:2012，10116

照射野寸法

IRRADIATION FIELD SIZE

JIS Z 4005:2012，10551

冗長線量モニタ構成

REDUNDANT

DOSE

MONITORING

COMBINATION

JIS T 0601-2-64:2016，201.3.235

深部線量

DEPTH DOSE

JIS Z 4005:2012，10247

スキャニングパターン同

期タイプ

SCANNING

PATTERN

SYNCHRONIZATION TYPE

3.38

スキャニングモード

SCANNING MODE

3.37

スポット

SPOT

3.39

正常な使用

NORMAL USE

JIS T 0601-2-64:2016，201.3.225

製造業者

MANUFACTURER

JIS T 0601-1:2017，3.55

線量モニタシステム

DOSE MONITORING SYSTEM

JIS T 0601-2-64:2016，201.3.210

線量モニタユニット

DOSE MONITOR UNIT

3.5

線量モニタユニット率

DOSE MONITOR UNIT RATE

3.6

操作者

OPERATOR

JIS T 0601-2-64:2016，201.3.226

待機状態

STAND-BY STATE

JIS Z 4005:2012，11112

治療

TREATMENT

IEC 60601-2-11:2013，201.3.228

治療制御盤

TREATMENT CONTROL PANEL

JIS Z 4005:2012，11205

テール−ピーク線量比

TAIL-TO-PEAK DOSE RATIO

3.41

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

定義した用語（日本語）

定義した用語（英語）

出典・定義した箇所

電子イメージング装置，

EID

ELECTRONIC IMAGING DEVICE (EID)

3.7

天板

TABLE TOP

3.40

電離放射線

IONIZING RADIATION

JIS Z 4005:2012，10547

取扱説明書

INSTRUCTIONS FOR USE

JIS Z 4005:2012，10513

半影

PENUMBRA

JIS Z 4005:2012，10792

ビームゲーティング

BEAM GATING

JIS T 0601-2-64:2016，201.3.204

ビームゲーティング信号

BEAM GATING SIGNAL

JIS T 0601-2-64:2016，201.3.205

ビームフラックスモニタ

BEAM FLUX MONITOR

JIS T 0601-2-64:2016，201.3.203

光照射野

LIGHT FIELD

JIS Z 4005:2012，10583

光照射野表示器

LIGHT FIELD-INDICATOR

JIS Z 4005:2012，10584

飛程非変調ポータル，

NRMP

NON-RANGE

MODULATED

PORTAL

(NRMP)

3.31

飛程変調器，RMD

RANGE MODULATION DEVICE (RMD)

3.36

飛程変調ポータル，RMP

RANGE MODULATED PORTAL (RMP)

3.35

標的体積

TARGET VOLUME

3.42

ファントム

PHANTOM

JIS Z 4005:2012，10804

副線量モニタシステム

SECONDARY

DOSE

MONITORING

SYSTEM

JIS Z 4005:2012，11040

附属品

ACCESSORY

JIS T 0601-1:2017，3.3

附属文書

ACCOMPANYING DOCUMENTATION

3.2

フラックス

FLUX

3.12

フルエンス

FLUENCE

3.11

プログラマブル飛程変調

ポータル，PRMP

PROGRAMMABLE RANGE MODULATED

PORTAL (PRMP)

3.33

変動係数

COEFFICIENT OF VARIATION

JIS Z 4005:2012，10165

変調スキャニング

MODULATED SCANNING

3.29

ポータル

PORTAL

3.32

放射線

RADIATION

JIS Z 4005:2012，10893

放射線検出器

RADIATION DETECTOR

JIS Z 4005:2012，10898

放射線照射野

RADIATION FIELD

JIS Z 4005:2012，10903

放射線治療

RADIOTHERAPY

JIS Z 4005:2012，10946

放射線治療計画システム

RADIOTHERAPY

TREATMENT

PLANNING SYSTEM (RTPS)

JIS Z 4005:2012，10949

放射線の種類

RADIATION TYPE

JIS Z 4005:2012，10918

放射線ビーム

RADIATION BEAM

JIS Z 4005:2012，10895

放射線量

RADIATION QUANTITY

JIS Z 4005:2012，10912

T 62667：2020 (IEC 62667：2017)

定義した用語（日本語）

定義した用語（英語）

出典・定義した箇所

水等価厚，WET

WATER EQUIVALENT THICKNESS (WET)

3.48

横方向拡大器，LSD

LATERAL SPREADING DEVICE (LSD)

3.21

読取り値

SCALE READING

JIS Z 4005:2012，11029

リーフ架台

LEAF CARRIAGE

3.22

粒子線

LIGHT ION BEAM

3.24

粒子線アプリケータ

LIGHT ION BEAM APPLICATOR

3.25

粒子線アプリケータ長

LIGHT ION BEAM APPLICATOR LENGTH

3.26

粒子線参照軸

LIGHT ION REFERENCE AXIS

3.28

粒子線飛程

LIGHT ION BEAM RANGE

3.27

レンジシフタ

RANGE SHIFTER

JIS T 0601-2-64:2016，201.3.234