R 1701-1：2016
（1）
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
目 次
ページ
序文 ··································································································································· 1
1 適用範囲························································································································· 1
2 引用規格························································································································· 1
3 用語及び定義 ··················································································································· 2
4 試験装置························································································································· 2
5 試験片···························································································································· 5
6 試験方法························································································································· 5
6.1 一般事項 ······················································································································ 5
6.2 試験片の前処理 ············································································································· 6
6.3 窒素酸化物除去試験 ······································································································· 6
6.4 溶出試験 ······················································································································ 7
7 試験結果の計算 ················································································································ 7
8 除去量が小さい試験片の場合の試験方法 ··············································································· 9
9 報告書···························································································································· 9
附属書JA（参考）JISと対応国際規格との対比表 ······································································ 11
R 1701-1：2016
（2）
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まえがき
この規格は，工業標準化法第14条によって準用する第12条第1項の規定に基づき，一般社団法人日本
ファインセラミックス協会（JFCA），国立研究開発法人産業技術総合研究所（AIST）及び一般財団法人日
本規格協会（JSA）から，工業標準原案を具して日本工業規格を改正すべきとの申出があり，日本工業標
準調査会の審議を経て，経済産業大臣が改正した日本工業規格である。
これによって，JIS R 1701-1:2010は改正され，この規格に置き換えられた。
この規格は，著作権法で保護対象となっている著作物である。
この規格の一部が，特許権，出願公開後の特許出願又は実用新案権に抵触する可能性があることに注意
を喚起する。経済産業大臣及び日本工業標準調査会は，このような特許権，出願公開後の特許出願及び実
用新案権に関わる確認について，責任はもたない。
JIS R 1701の規格群には，次に示す部編成がある。
JIS R 1701-1 第1部：窒素酸化物の除去性能
JIS R 1701-2 第2部：アセトアルデヒドの除去性能
JIS R 1701-3 第3部：トルエンの除去性能
JIS R 1701-4 第4部：ホルムアルデヒドの除去性能
JIS R 1701-5 第5部：メチルメルカプタンの除去性能
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日本工業規格 JIS
R 1701-1：2016
ファインセラミックス−
光触媒材料の空気浄化性能試験方法−
第1部：窒素酸化物の除去性能
Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics)-
Test method for air purification performance of photocatalytic materials-
Part 1: Removal of nitric oxide
序文
この規格は，2007年に第1版として発行されたISO 22197-1を基とし，その後に制定されたJIS R 1701-2
〜JIS R 1701-5及びJIS R 1751-1〜JIS R 1751-5と整合させるために，技術的内容を変更して作成した日本
工業規格である。
なお，この規格で点線の下線を施してある箇所は，対応国際規格を変更している事項である。変更の一
覧表にその説明を付けて，附属書JAに示す。
1
適用範囲
この規格は，光触媒を建築材料，その他の材料の表面に担持させた光触媒材料の空気浄化性能のうち，
窒素酸化物（NOx，一酸化窒素と二酸化窒素との合計）の除去性能を試験する方法について規定する。
この規格は，主として太陽光の照射下において波長300〜380 nmの紫外線領域で効果を示す光触媒を対
象としている。可視光だけの照射下における窒素酸化物の除去性能を試験する場合は，この規格ではなく，
JIS R 1751-1を適用する。
注記 この規格の対応国際規格及びその対応の程度を表す記号を，次に示す。
ISO 22197-1:2007，Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics)−Test method for
air-purification performance of semiconducting photocatalytic materials−Part 1: Removal of nitric
oxide（MOD）
なお，対応の程度を表す記号“MOD”は，ISO/IEC Guide 21-1に基づき，“修正している”
ことを示す。
2
引用規格
次に掲げる規格は，この規格に引用されることによって，この規格の規定の一部を構成する。これらの
引用規格は，その最新版（追補を含む。）を適用する。
JIS B 7953 大気中の窒素酸化物自動計測器
JIS K 0055 ガス分析装置校正方法通則
JIS K 0101 工業用水試験方法
2
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JIS K 0127 イオンクロマトグラフィー通則
JIS K 0557 用水・排水の試験に用いる水
JIS R 1600 ファインセラミックス関連用語
JIS R 1709 ファインセラミックス−紫外線励起形光触媒試験用光源
JIS R 1751-1 ファインセラミックス−可視光応答形光触媒材料の空気浄化性能試験方法−第1部：窒
素酸化物の除去性能
JIS Z 8401 数値の丸め方
JIS Z 8806 湿度−測定方法
3
用語及び定義
この規格で用いる主な用語及び定義は，JIS R 1600によるほか，次による。
3.1
光触媒
光照射下で，酸化・還元作用によって，空気浄化・脱臭，水質浄化，抗菌，抗かび，抗ウイルス，セル
フクリーニングなどの諸機能を発現する物質。機能性ファインセラミックスの一種。
3.2
光触媒材料
光触媒の諸機能を利用するため，塗布，含浸，練り込み又は種々の製膜方法によって光触媒を建築材料
及びその他の材料の表面に担持させたもの。
3.3
ゼロガス
汚染物質を含まない空気（試験に影響を及ぼす可能性のある主要な汚染物質の濃度が体積分率0.01 ppm
以下である空気）。高圧容器入りの合成空気を用いるか，又は空気精製装置を用いて室内空気から調製する。
3.4
標準ガス
濃度が既知のガス，又はJIS K 0055の規定に基づき調製された校正用ガス。光触媒材料の性能試験に用
いる。
3.5
試験用ガス
標準ガスとゼロガスとを混合して調製した濃度既知の汚染物質を含む空気。
3.6
精製水
イオン交換法によって精製された，JIS K 0557に規定するA1以上の水。
3.7
暗条件
光源を点灯せず，外部の光も入射しない試験条件。通常は，試験用ガスを流し，光照射下の反応と対比
させた測定を行う。
4
試験装置
4.1
装置の構成 試験装置は，光触媒材料の試験片に機能発現に必要な光を照射しながら，試験用ガス
3
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を連続的に供給し，試験片による汚染物質除去能力を試験するもので，次に示す試験用ガス供給装置，光
照射容器，光源及び汚染物質測定装置で構成する。
試験装置は，低濃度の窒素酸化物を含む空気を扱うことから，吸着などによる損失が少なく，測定結果
に影響を及ぼさないように配慮したものでなければならない。試験装置の構成例を，図1に示す。
1
試験用ガス供給装置
2
コンプレッサ
3
空気精製装置
4
標準ガス
5
減圧弁
6
流量制御器
7
加湿器
8
ガス混合器
9 4方バルブ
10 光照射容器
11 試験片
12 窓板
13 光源
14 汚染物質濃度測定装置
15 排出
図1−試験装置の構成例
4.2
試験用ガス供給装置 高圧容器入りの窒素酸化物標準ガスを用いて，所定の濃度・温度・水蒸気濃
度の試験用ガスを調製し，光照射容器に連続的に供給する。流量制御器，加湿器，ガス混合器などからな
る。
4.3
光照射容器 光照射容器の断面図を，図2に示す。a) は試験片が平板状の場合に，b) は試験片がフ
ィルタ状の場合に用いる。いずれも，試験片を水平に保持し，これと平行に厚さ5.0±0.5 mmの空間を隔
てて光透過窓板を設けた構造のものとする。窓板は，300 nm以上の波長領域で光吸収の小さい石英ガラス
又はほうけい（硼珪）酸ガラス板とし，窓板以外の部位も近紫外線の照射に耐えることができる材料で製
作する。試験用ガスは，a) では試験片と窓板との間の空間だけを通過し，b) では最初に試験片と窓板と
の間を通過して，後はフィルタの下部から出口に至る空間を通過する。フィルタ状試験片をこのように保
持するために，専用のアダプタを用いる。試験片の下部に設置するアダプタの幅は5 mm以内にする。
4
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ガスの流れを乱すとともに試験片上での流速分布を均一にする。そのためには，図2のように，ガス出
入口は容器内でのガス流に対して垂直にするのがよい。これによれない場合には，出入口部に邪魔板を設
置するなどの工夫をする。ガス流路部分の長さは試験片の長さより十分長くとり，入口部分における気流
の乱れの直接の影響を避けるために，試験片の前にガス流路部分を100 mm以上確保する。試験片の厚さ
に応じて，高さ調整板を用いてガス流路部分の空気層厚みを調整する。また，試験片の前後のガス流路部
分には，試験片との段差が1 mm以下となるよう，必要に応じて補助板を置く。補助板，高さ調整板等，
光照射容器内で用いる材料については光照射容器の材質規定に準じる。
a) 平板状試験片の場合
b) フィルタ状試験片の場合
図2−光照射容器
5
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試験片長さl1
試験片幅l2
空気層厚みl3
99.0±1.0 mm
49.0±1.0 mm
5.0±0.5 mm
1
試験用ガス入口
2
邪魔板
3
窓板
4
ガス流路
5
高さ調整板
6 補助板
7 試験片（平板状）
8 試験用ガス出口
9 専用アダプタ
10 試験片（フィルタ状）
図2−光照射容器（続き）
4.4
光源 JIS R 1709に規定する光源のうち，極大波長が351 nmのBL形又はBLB形蛍光ランプ，又は
光学フィルタで300 nm以下の光を遮断したキセノンランプを用い，光照射容器の窓板を通して，試験片
を均一に照射する。また，試験片上表面での紫外放射照度が10.0±0.5 W/m2となるように，光照射容器ま
での距離を調節する。紫外放射照度の測定には，JIS R 1709に規定する校正済みの紫外放射照度計を用い
る。
なお，光照射容器には，外部の光が入射しないようにする。
4.5
汚染物質濃度測定装置 汚染物質濃度（窒素酸化物濃度）の測定にはJIS B 7953に規定する化学発
光式の窒素酸化物自動測定装置を用いる。装置の校正はJIS K 0055の規定に従い，測定濃度範囲に対応し
た濃度のゼロガス及び標準ガスを用いて行う。硝酸イオン及び亜硝酸イオンの測定にはJIS K 0127に規定
するイオンクロマトグラフを用いる。
5
試験片
試験片は，平板状又はフィルタ状の光触媒材料で，幅49.0±1.0 mm，長さ99.0±1.0 mmとする。光照射
容器内で補助板などとの間に隙間ができる場合は，試験片を上流側に寄せるとともに，必要に応じてスペ
ーサーなどを用いて調整する。平板状材料の場合は，光触媒面以外によるガス吸着を抑制するとともに，
洗浄液の回収を容易にするために，試験片の厚さは5 mm以下とする。しかし，これを超える厚さの材料
でも，以上の試験条件が保たれるなら試験できる。光照射容器の深さが十分にあれば，厚さが5 mm以上
の試験片を用いることも可能であるが，厚い試験片の場合には，側面による吸着が予想されるので，あら
かじめ側面をシールしておく。フィルタ状の場合には，厚さを20 mm以内にする。
6
試験方法
6.1
一般事項
窒素酸化物除去試験は6.2〜6.4に示す手順で実施し，光照射時の除去量を調べる。この過程における窒
素酸化物濃度の測定例を図3に示す。また，窒素酸化物除去量が非常に小さく，正確な測定が困難な場合
は箇条8によって，試験条件を変更することができる。
6
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1
NO供給レベル
2
接触開始
3
光照射開始
4
光照射停止，ゼロガス供給
X 時間（h）
Y NO，NO2（体積分率ppm）
図3−試験操作における窒素酸化物濃度の測定例
6.2
試験片の前処理
試験片に付着又は吸着している有機物を完全に除去するため，次の手順で前処理を実施する。この操作
の直後に試験を開始しない場合には，密閉容器に入れて暗所に保管する。
a) 水洗 精製水に試験片を2時間以上浸せきした後，取り出して室温で風乾する。
なお，120 ℃を上限として，物理的・化学的な変化を生じさせない範囲で試験片を加熱乾燥しても
よい。試験片が恒量になることを確認する。洗液に沈殿物などがあればその状況，乾燥の方法などを
記録し，6.4と同様に，pHを測定するとともに，硝酸イオン及び亜硝酸イオンの濃度を測定する。
b) 有機物の除去 紫外線ランプを用いて12時間以上24時間未満の光照射を行う。光触媒面での紫外線
照度は10〜20 W/m2の範囲とする。光照射はゼロガス中又は清浄な密閉容器内で行う。親油性の汚れ
が予想される場合には，b)，a) の順で実施してもよい。
6.3
窒素酸化物除去試験
窒素酸化物除去試験は，次の手順で実施し，光を照射しない暗条件での吸着量，光照射下の除去量及び
試験後の脱着量を調べる。
a) 一酸化窒素（NO）濃度体積分率（1.00±0.05）ppm，水蒸気濃度体積分率（1.56±0.16）%，温度25.0±2.5 ℃
の試験用ガスが安定して発生できるように試験用ガス供給装置をあらかじめ調整しておく。光照射容
器入口で流量が3.00±0.15 L/min（0 ℃，101.3 kPaの標準状態において）となるように流量制御器を
設定する。このときの水蒸気濃度は25 ℃における相対湿度（50±5）%に相当する。湿度の測定は，
JIS Z 8806によって行う。また，試験片上表面における光源からの紫外放射照度を測定し，記録する。
b) 光照射容器内のガス流路部分の中央に試験片を設置し，窓板までの空間の厚さを5.0±0.5 mmに調整
するとともに，試験片と前後のガス流路との段差が1 mm以内となるよう，必要に応じて補助板を置
く。その後，窓板を取り付け，密閉されていることを確認する。
7
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c) 光照射容器に試験用ガスを導入する。光照射を行わない吸着過程を30分間継続し，暗条件での一酸化
窒素（NO）及び二酸化窒素（NO2）の濃度変化を記録する。ただし，出口における一酸化窒素濃度が
供給濃度に一致したことを確認できる場合には，その時点で光照射を開始してもよい。30分後も窒素
酸化物濃度が供給濃度の90 %を下回る場合には，これを超えるまで吸着過程を継続する。
d) 光源を点灯して光照射を開始する。安定な点灯に時間を要する光源については，紫外光が試験片に当
たらないようにするための遮蔽物を設置した上であらかじめ点灯しておき，安定した後，遮蔽物を取
り除いて光照射を開始する。光照射下での試験容器出口における一酸化窒素及び二酸化窒素濃度を連
続5時間記録する。
e) 光照射を停止し，同一の温度，水蒸気濃度及び流速条件でゼロガスに切り換え，容器出口の窒素酸化
物濃度を30分間記録する。ただし，窒素酸化物濃度がゼロになることが確認できれば，それ以前に終
了してもよい。
f)
容器への試験用ガスの供給を停止し，試験片を容器から取り出す。
6.4
溶出試験
溶出試験は，次の手順で行う。光触媒材料による窒素酸化物除去作用においては，窒素酸化物の大部分
は硝酸イオン及び亜硝酸イオンに化学変化し，光触媒材料に吸着している。光触媒効果を持続させるため
には，この硝酸イオン及び亜硝酸イオンを，定期的な水洗によって除去しなければならない。溶出試験は，
この再生効率を調べるための試験である。
a) 窒素酸化物除去試験後の試験片を容量既知の精製水（50 mL程度）に1時間浸せきし，試験片を取り
出す。これを洗液1とし，その容量を記録する。再び同量の精製水に試験片を1時間浸せきし，試験
片を取り出す。これを洗液2とし，その容量を記録する。試験片が水を吸収する場合には，適宜増量
する。
なお，洗液の変色，沈殿物などがあればその状況を記録する。内部への吸収などによって溶出試験
が困難な試験片については，6.2 a) を除いて再試験を行い，水洗によって除去能力が十分に回復する
ことを示してもよい。この場合，報告書にはその結果を記載する。
b) 洗液1及び洗液2について，JIS K 0101に従ってpHを測定するとともに，硝酸イオン及び亜硝酸イ
オンの濃度を測定する。
c) a) 及びb) の結果に基づき，試験片からの窒素酸化物溶出量及び水洗による再生効率を算出する。
7
試験結果の計算
試験結果は，次のとおり計算する。計算値の処理は，JIS Z 8401によって，小数点以下2桁に丸める。
なお，式(5)の除去量が2.00 µmol未満の平板状の試験片については，箇条8によって試験条件を緩和し
た測定を行うことができる。
a) 試験片による窒素酸化物吸着量 試験片による窒素酸化物吸着量とは，6.3 c) において測定される，
光触媒作用によらない，試験片の吸着作用に基づく窒素酸化物除去量であり，式(1)によって算出する。
[
][
]
(
)
[
]
{
}
4.
22
/
d
NO
d
NO
NO
2
0
ads
f
t
t
Q
×
−
−
=
∫
∫
································· (1)
ここに，
Qads： 試験片による窒素酸化物吸着量（μmol）
[NO]0： 一酸化窒素の供給濃度（体積分率ppm）
[NO]： 試験容器出口における一酸化窒素濃度（体積分率ppm）
[NO2]： 試験容器出口における二酸化窒素濃度（体積分率ppm）
t： 吸着操作の時間（min）
8
R 1701-1：2016
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
f： 標準状態（0 ℃，101.3 kPa）に換算した試験用ガス流量
（L/min）
b) 試験片による一酸化窒素除去量 試験片による一酸化窒素除去量とは，6.3 d) において測定される，
光触媒作用に基づく一酸化窒素の除去量であり，式(2)によって算出する。
(
)[
][
]
(
)t
f
Q
d
NO
NO
4.
22
/
0
NO
∫
−
=
················································· (2)
ここに，
QNO： 試験片による一酸化窒素除去量（μmol）
[NO]0： 一酸化窒素の供給濃度（体積分率ppm）
[NO]： 試験容器出口における一酸化窒素濃度（体積分率ppm）
t： 除去操作の時間（min）
f： 標準状態（0 ℃，101.3 kPa）に換算した試験用ガス流量
（L/min）
c) 試験片による二酸化窒素生成量 試験片による二酸化窒素生成量とは，6.3 d) において測定される，
光触媒作用によって副次的に生成する二酸化窒素であり，式(3)によって算出する。
(
)[
]
(
)t
f
Q
d
NO
4.
22
/
2
NO2
∫
=
························································· (3)
ここに，
2
NO
Q
： 試験片による二酸化窒素生成量（μmol）
[NO2]： 試験容器出口における二酸化窒素濃度（体積分率ppm）
t： 生成操作の時間（min）
f： 標準状態（0 ℃，101.3 kPa）に換算した試験用ガス流量
（L/min）
d) 試験片による窒素酸化物脱着量 試験片からの窒素酸化物脱着量とは，6.3 e) において測定される，
試験片に付着していた窒素酸化物が脱着する量であり，式(4)によって算出する。
(
)[
]
[
]
{
}
∫
∫
+
=
t
t
f
Q
d
NO
d
NO
4.
22
/
2
des
············································· (4)
ここに，
Qdes： 試験片による窒素酸化物脱着量（μmol）
[NO]： 試験容器出口における一酸化窒素濃度（体積分率ppm）
[NO2]： 試験容器出口における二酸化窒素濃度（体積分率ppm）
t： 脱着操作の時間（min）
f： 標準状態（0 ℃，101.3 kPa）に換算した試験用ガス流量
（L/min）
e) 試験片による窒素酸化物除去量 光触媒作用による正味の窒素酸化物除去量は，式(5)によって算出す
る。QNOxが1.00 µmol未満の場合は，1.00 µmol未満と表示する。
des
NO
NO
ads
NO
2
x
Q
Q
Q
Q
Q
−
−
+
=
······················································· (5)
ここに，
QNOx： 試験片による窒素酸化物除去量（μmol）
Qads： 試験片による窒素酸化物吸着量（μmol）
QNO： 試験片による一酸化窒素除去量（μmol）
QNO2： 試験片による二酸化窒素生成量（μmol）
Qdes： 試験片による窒素酸化物脱着量（μmol）
f)
試験片からの窒素化合物溶出量 6.4において測定される窒素化合物溶出量は，式(6)によって算出す
る。
[
]
[
]
(
)
[
]
[
]
(
)
46
/
NO
62
/
NO
46
/
NO
62
/
NO
w2
2
w2
3
w2
w1
2
w1
3
w1
w2
w1
w
−
−
−
−
+
+
+
=
+
=
V
V
Q
Q
Q
········ (6)
ここに，
Qw： 試験片からの窒素化合物溶出量（μmol）
9
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2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
Vw： 回収された洗液の容量（mL）
[NO3−]： 試験片からの硝酸イオン溶出量（mg/L）
[NO2−]： 試験片からの亜硝酸イオン溶出量（mg/L）
w1，w2： （添え字）それぞれ，1回目，2回目を表す。
g) 水洗による再生効率 6.4において測定される再生効率は，式(7)によって算出する。
(
)
100
/
x
NO
w2
w1
w
×
+
=
Q
Q
Q
η
·························································· (7)
ここに，
ηw： 水洗による再生効率（%）
Qw1： 試験片からの窒素化合物溶出量（1回目）（μmol）
Qw2： 試験片からの窒素化合物溶出量（2回目）（μmol）
QNOx： 試験片による窒素酸化物除去量（μmol）
8
除去量が小さい試験片の場合の試験方法
平板状の試験片の測定において，式(5)の除去量が2.00 µmol未満で正確に測定できないことが予想され
る場合は，試験片の枚数及び試験用ガス流量の両方を同時に表1のとおり変更して測定することができる。
この場合，試験片の前にガス流路部分を100 mm以上確保する。
なお，試験条件を変更した場合，報告書に記載する窒素酸化物除去量，二酸化窒素生成量及び窒素酸化
物吸着量・脱着量は，式(1)〜式(5)から求められる値の1/2とする。ただし，除去量が0.25 µmol未満の場
合は，除去量0.25 µmol未満と表示する。
表1−試験条件の変更
変更できる試験条件
変更後の値
試験用ガス流量
1.500±0.075 L/min
試験片の枚数
2枚
9
報告書
試験報告書には，通常次の項目を記載する。
a) 一般事項
1) この規格の番号
2) 試験年月日
b) 試験機関
1) 試験機関の名称及び所在地
2) 試験責任者名
c) 試験片に関する情報
1) 試験片の種類，製造番号など
2) 材質，形状及び寸法
3) 試験片の選択プロセス（抜取り方法など）
4) 試験機関到着日，包装から取り出した日時及び試験片を準備した日時
d) 結果
1) 試験片による窒素酸化物除去量，二酸化窒素生成量，窒素酸化物吸着量及び脱着量
2) 水洗による再生効率（又は，除去能力回復確認の方法及びその結果）
e) 試験条件
1) 汚染物質ガスの供給濃度，試験ガス流量，水蒸気濃度，温度
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R 1701-1：2016
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
2) 箇条8適用の有無（試験用ガス流量及び試験片枚数の変更）
3) 光照射条件（光源の種類，紫外放射照度）
4) 前処理条件（水洗及び乾燥の条件，紫外放射照度及び照射時間）
f)
試験装置
1) 試験装置の形式及び仕様
2) 窒素酸化物測定装置，イオンクロマトグラフ，照度計，紫外放射照度計などの種類
g) その他必要な事項
試験状況及び試験後の試験片に関しての特記事項
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R 1701-1：2016
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
附属書JA
（参考）
JISと対応国際規格との対比表
JIS R 1701-1:2016 ファインセラミックス−光触媒材料の空気浄化性能試験方法
−第1部：窒素酸化物の除去性能
ISO 22197-1:2007，Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics)−
Test method for air-purification performance of semiconducting photocatalytic materials
−Part 1: Removal of nitric oxide
(I)JISの規定
(II)
国際
規格
番号
(III)国際規格の規定
(IV)JISと国際規格との技術的差異の箇条
ごとの評価及びその内容
(V)JISと国際規格との技術的差異
の理由及び今後の対策
箇条番号
及び題名
内容
箇条
番号
内容
箇条ごと
の評価
技術的差異の内容
1 適用範囲
1
一致
2 引用規格
3 用語及び
定義
3.7 暗条件を定義。
3
定義されていない。
追加
技術的差異はなし。
規格使用者の理解促進のため。
−
−
4
計算で使用する記号の一
覧。ガス流量fは乾きガ
ス基準。
削除
JISは記載なし。
JISは流量fの乾きガス基準を
廃止し，湿りガス基準とした
（6.3参照）。
流量fの定義をISO規格の改正時に
変更するよう提案する。理由は6.3
を参照。
−
−
5
試験の目的及び原理が記
載されている。
削除
JISは記載なし。
規格本文に記載する必要性がない
ため削除した。
4.2 試験用
ガス供給装
置
流量の換算について記述
なし。
6.2
流量は標準状態（0 ℃，
101.3 kPa，乾きガス基準）
に換算する。
変更
JISは乾きガス基準を廃止した
（6.3参照）。
ISO規格改正時に変更を提案する。
4.3 光照射
容器
容器の形状，試験片の配
置，材質を記載。図2に
断面図を追加し，ガスの
流れを乱す構造及び試験
片の前にガス流路部分を
100 mm以上確保するこ
とを明記した。
6.3
JISとほぼ同じだが，ガス
の流れを乱す構造及び試
験片の前にガス流路部分
を100 mm以上確保する
ことは明記されていな
い。
追加
ISO規格でも図示されているた
め技術的な差異はない。
規格利用者の理解促進のため。ISO
規格の改正時に追加するよう提案
する。
2
R
1
7
0
1
-1
：
2
0
1
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R 1701-1：2016
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
(I)JISの規定
(II)
国際
規格
番号
(III)国際規格の規定
(IV)JISと国際規格との技術的差異の箇条
ごとの評価及びその内容
(V)JISと国際規格との技術的差異
の理由及び今後の対策
箇条番号
及び題名
内容
箇条
番号
内容
箇条ごと
の評価
技術的差異の内容
5 試験片
寸法許容差は±1.0 mm。
フィルタ状試験片の厚さ
は20 mmまで。
7
寸法許容差は±0.5 mm。
フィルタ状試験片の厚さ
は5 mmまでだが，側面
をシールすれば制限はな
い。
変更
JISでは試験片の寸法許容差が
大きい。また，フィルタ状試験
片の厚さに制限がある。
ほかの試験条件の許容差と比べて
寸法に関する許容差が厳しかった
ため。また，フィルタ状試験片の厚
さ制限が必要であるため。ISO規格
の改正時に変更を提案する。
6.1 一般事
項
試験手順の概要。
−
−
追加
概要が追加された。
規格利用者の理解促進のため。
6.2 試験片
の前処理
水洗，有機物除去の順だ
が，逆でも良い。また，
水洗後の乾燥温度の上限
は120 ℃。
8.1
有機物除去，水洗の順に
行う。水洗後の乾燥温度
の上限は110 ℃。
選択
水洗と有機物除去の順序が逆
である。ただし，ISOの手順で
も試験できる。乾燥温度の上限
を引き上げた。
JIS R 1751-1〜-5に整合させるとと
もに，手順を柔軟にするため。
ISO規格改正時に変更を提案する。
6.3 窒素酸
化物除去試
験
流量が3.00±0.15 L/min
（0 ℃，101.3 kPaの標準
状態において）となるよ
うに。
8.2
ここでは記載なし。6.2に
記載。
変更
JISもISO規格も標準状態に換
算した流量を用いるが，JISは
水蒸気を含めた流量（湿りガス
基準）を用い，ISO規格は水蒸
気を除いた流量（乾きガス基
準）を用いる。
水蒸気濃度に相当する1.6 %の差が
生じるが，その他の影響に比べて小
さく，簡略化のために廃止した。ISO
規格改正時に変更を提案する。
6.4 溶出試
験
JIS K 0101に従ってpH
を測定。イオンの測定に
はJIS K 0127に規定する
イオンクロマトグラフを
用いる。
8.3
ISO 10523及びISO
10304-1に従う。
一致
7 試験結果
の計算
fは標準状態（0 ℃，101.3
kPa）に換算した流量。
9
fは標準状態（0 ℃，101.3
kPa，乾きガス基準）に換
算した流量。
変更
JISは流量計算における乾きガ
ス基準を廃止した（6.3参照）。
ISO規格改正時に変更を提案する。
8 除去量が
小さい試験
片の場合の
試験方法
試験用ガス流量半減，試
験片2枚での試験方法を
記載。
−
−
追加
除去量が小さい試験片の試験
方法が追加された。
性能の低い試験片を試験できるよ
うにするため。また，JIS R 1701-2
〜-5に整合させるため。ISO規格改
正時に追加するよう提案する。
2
R
1
7
0
1
-1
：
2
0
1
6
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R 1701-1：2016
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
(I)JISの規定
(II)
国際
規格
番号
(III)国際規格の規定
(IV)JISと国際規格との技術的差異の箇条
ごとの評価及びその内容
(V)JISと国際規格との技術的差異
の理由及び今後の対策
箇条番号
及び題名
内容
箇条
番号
内容
箇条ごと
の評価
技術的差異の内容
9 報告書
ISO規格の報告項目に加
え，試験責任者名，試験
片の前処理条件，箇条8
適用の有無を記載する。
10
JISの報告項目に加え，署
名，各ページ番号を記載
する。
変更
JISでは前処理条件と箇条8適
用の有無を記載する。
試験片の前処理条件が変更され，箇
条8の試験が追加されたため。
ISO規格改正時に変更を提案する。
JISと国際規格との対応の程度の全体評価：ISO 22197-1:2007，MOD
注記1 箇条ごとの評価欄の用語の意味は，次による。
− 一致 ················ 技術的差異がない。
− 削除 ················ 国際規格の規定項目又は規定内容を削除している。
− 追加 ················ 国際規格にない規定項目又は規定内容を追加している。
− 変更 ················ 国際規格の規定内容を変更している。
− 選択 ················ 国際規格の規定内容とは異なる規定内容を追加し，それらのいずれかを選択するとしている。
注記2 JISと国際規格との対応の程度の全体評価欄の記号の意味は，次による。
− MOD ··············· 国際規格を修正している。
2
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