K 7252-5：2016 (ISO 16014-5：2012)
（1）
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
目 次
ページ
序文 ··································································································································· 1
1 適用範囲························································································································· 1
2 引用規格························································································································· 1
3 用語及び定義··················································································································· 2
4 記号······························································································································· 2
5 原理······························································································································· 3
5.1 SEC ···························································································································· 3
5.2 SEC-LS ························································································································ 3
6 試薬······························································································································· 3
6.1 溶離液 ························································································································· 3
6.2 カラム性能評価のための試薬 ··························································································· 3
6.3 校正用の標準物質 ·········································································································· 3
6.4 流量指標用試薬 ············································································································· 3
6.5 添加剤 ························································································································· 3
7 装置······························································································································· 4
7.1 一般 ···························································································································· 4
7.2 溶離液槽 ······················································································································ 4
7.3 ポンプ ························································································································· 4
7.4 試料導入装置 ················································································································ 4
7.5 カラム ························································································································· 4
7.6 検出器 ························································································································· 4
7.7 配管 ···························································································································· 5
7.8 温度制御 ······················································································································ 5
7.9 記録計及びプリンタ ······································································································· 5
7.10 データ処理システム ······································································································ 5
7.11 その他の構成要素 ········································································································· 5
8 操作······························································································································· 5
8.1 校正用溶液の調製 ·········································································································· 5
8.2 Lポイント測定用溶液の調製 ···························································································· 5
8.3 被検物質溶液の調製 ······································································································· 5
8.4 カラム性能評価用溶液の調製 ··························································································· 5
8.5 装置の設定 ··················································································································· 5
8.6 測定条件 ······················································································································ 5
8.7 測定回数 ······················································································································ 6
9 校正······························································································································· 6
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9.1 濃度検出器及び光散乱検出器の校正 ·················································································· 6
9.2 遅延体積の測定 ············································································································· 7
9.3 検出感度の規格化 ·········································································································· 7
9.4 屈折率増分の測定 ·········································································································· 7
10 データ収集及び解析 ········································································································ 7
10.1 データ収集 ·················································································································· 7
10.2 データの検定及びクロマトグラムの補正 ··········································································· 7
10.3 データ解析 ·················································································································· 7
11 結果の表示 ···················································································································· 8
11.1 校正曲線 ····················································································································· 8
11.2 平均分子量の計算 ········································································································ 11
11.3 微分分子量分布曲線 ····································································································· 11
11.4 積分分子量分布曲線 ····································································································· 11
12 精度 ···························································································································· 11
13 試験報告書 ··················································································································· 12
13.1 一般 ·························································································································· 12
13.2 装置及び測定条件 ········································································································ 12
13.3 装置の校正 ················································································································· 12
13.4 校正曲線 ···················································································································· 12
13.5 結果 ·························································································································· 12
附属書A（参考）共同実験 ···································································································· 13
附属書B（参考）光散乱についての情報 ·················································································· 14
附属書C（参考）低分子量領域の校正曲線 ··············································································· 18
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まえがき
この規格は，工業標準化法第12条第1項の規定に基づき，日本プラスチック工業連盟（JPIF）及び一般
財団法人日本規格協会（JSA）から，工業標準原案を具して日本工業規格を制定すべきとの申出があり，
日本工業標準調査会の審議を経て，経済産業大臣が制定した日本工業規格である。
この規格は，著作権法で保護対象となっている著作物である。
この規格の一部が，特許権，出願公開後の特許出願又は実用新案権に抵触する可能性があることに注意
を喚起する。経済産業大臣及び日本工業標準調査会は，このような特許権，出願公開後の特許出願及び実
用新案権に関わる確認について，責任はもたない。
JIS K 7252の規格群には，次に示す部編成がある。
JIS K 7252-1 第1部：通則
JIS K 7252-2 第2部：ユニバーサルキャリブレーション法
JIS K 7252-3 第3部：常温付近での方法
JIS K 7252-4 第4部：高温での方法
JIS K 7252-5 第5部：光散乱検出による方法
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日本工業規格 JIS
K 7252-5：2016
(ISO 16014-5：2012)
プラスチック−
サイズ排除クロマトグラフィーによる
高分子の平均分子量及び分子量分布の求め方−
第5部：光散乱検出による方法
Plastics-Determination of average molecular mass and molecular mass
distribution of polymers using size-exclusion chromatography-
Part 5: Method using light-scattering detection
序文
この規格は，2012年に第1版として発行されたISO 16014-5を基に，技術的内容及び構成を変更するこ
となく作成した日本工業規格である。
なお，この規格で点線の下線を施してある参考事項は，対応国際規格にはない事項である。
1
適用範囲
この規格は，SEC-LSを用いた高分子の平均分子量及び分子量分布を測定する一般的な求め方について
規定する。ここでSEC-LSは，光散乱検出器付きサイズ排除クロマトグラフィーである。平均分子量及び
分子量分布は，溶出時間から連続的に求められる分子量と質量濃度とから計算して求める。各溶出時間で
の分子量は，光散乱検出器と濃度検出器とを組み合わせて絶対的な分子量として決定する。したがって，
SEC-LSは，絶対法に分類される。
この手法の適用性については，JIS K 7252-1のA.1［試験方法の適用範囲（箇条1参照）］を参照する。
注記 この規格の対応国際規格及びその対応の程度を表す記号を，次に示す。
ISO 16014-5:2012，Plastics−Determination of average molecular mass and molecular mass distribution
of polymers using size-exclusion chromatography−Part 5: Method using light-scattering detection
（IDT）
なお，対応の程度を表す記号“IDT”は，ISO/IEC Guide 21-1に基づき，“一致している”こ
とを示す。
2
引用規格
次に掲げる規格は，この規格に引用されることによって，この規格の規定の一部を構成する。これらの
引用規格は，その最新版（追補を含む。）を適用する。
JIS K 7252-1 プラスチック−サイズ排除クロマトグラフィーによる高分子の平均分子量及び分子量
分布の求め方−第1部：通則
2
K 7252-5：2016 (ISO 16014-5：2012)
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注記 対応国際規格：ISO 16014-1，Plastics−Determination of average molecular mass and molecular
mass distribution of polymers using size-exclusion chromatography−Part 1: General principles
（IDT）
JIS K 7252-2 プラスチック−サイズ排除クロマトグラフィーによる高分子の平均分子量及び分子量
分布の求め方−第2部：ユニバーサルキャリブレーション法
注記 対応国際規格：ISO 16014-2，Plastics−Determination of average molecular mass and molecular
mass distribution of polymers using size-exclusion chromatography−Part 2: Universal calibration
method（IDT）
JIS K 7252-3 プラスチック−サイズ排除クロマトグラフィーによる高分子の平均分子量及び分子量
分布の求め方−第3部：常温付近での方法
注記 対応国際規格：ISO 16014-3，Plastics−Determination of average molecular mass and molecular
mass distribution of polymers using size-exclusion chromatography−Part 3: Low-temperature
method（IDT）
JIS K 7252-4 プラスチック−サイズ排除クロマトグラフィーによる高分子の平均分子量及び分子量
分布の求め方−第4部：高温での方法
注記 対応国際規格：ISO 16014-4，Plastics−Determination of average molecular mass and molecular
mass distribution of polymers using size-exclusion chromatography−Part 4: High-temperature
method（IDT）
3
用語及び定義
この規格で用いる主な用語及び定義は，JIS K 7252-1によるほか，次による。
3.1
屈折率増分，dn/dc（refractive index increment）
高分子溶液の質量濃度に対する屈折率の変化率。
注記1 文献によっては“比屈折率増分”という呼称もある。
注記2 dn/dcは，光散乱では濃度ゼロにおける極限値が使われる。
3.2
Lポイント（L-point）
校正曲線作成に当たって多項式回帰の妥当性確認のために使われる低分子量化合物の測定点で，分子量
及び溶出時間のグラフ上にある点。
注記 附属書Cに示すように，低分子量領域では光散乱強度は非常に弱く分子量を算出することはで
きない。したがって，Lポイントを測定することは，全分子量領域にわたって校正曲線が妥当
であるかどうかの確認，又はLポイントを含む校正曲線の作成に必要である。Lポイントは，
対象ポリマーのオリゴマー，又はオリゴマーと同様の化学構造をもつ有機化合物によって求め
られる。
4
記号
Rg
溶液中の高分子の回転半径（nm）
A2
溶液中の高分子の第二ビリアル係数（cm3
mol
g−2）
dn/dc 屈折率増分（cm
g−1）
3
K 7252-5：2016 (ISO 16014-5：2012)
2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
c
溶液中の高分子の質量濃度（g
cm−3）
Hi
i番目の溶出時間における濃度検出器からの過剰シグナル強度
ILS,i
i番目の溶出時間における過剰光散乱強度
Vint
データ取得時間間隔中の溶出体積（cm3）
5
原理
5.1
SEC
サイズ排除クロマトグラフィー（SEC）については，JIS K 7252-1の箇条4（原理）による。
5.2
SEC-LS
SEC-LS測定では，SECカラムから溶出された高分子に単色の可視光線を照射する。分子から散乱され
た光は，受光素子によって連続的に検出される。溶出液は，希薄高分子溶液であるため，光散乱強度は高
分子の分子量及び質量濃度の積にほぼ比例している。したがって，光散乱強度を質量濃度で除すれば，特
定の溶出時間での分子量が得られる。各溶出時間での分子量及び溶出濃度又は質量分率は，高分子の分子
量分布及び平均分子量の計算に使用する。
6
試薬
6.1
溶離液 溶離液についての一般的な必要条件は，JIS K 7252-1の5.1（溶離液）による。60 ℃未満
の温度又は60 ℃以上の温度でSECに使用できる溶離液の例は，JIS K 7252-3の附属書B（溶離液，試薬
及び標準物質の例）及びJIS K 7252-4の附属書B（溶離液，分子量標準物質及び添加剤の例）を参照する。
6.2
カラム性能評価のための試薬 カラムの性能評価に使われる低分子量化合物の例は，60 ℃より低い
温度ではJIS K 7252-3の5.2（カラム性能評価のための試薬）を，60 ℃以上の温度ではJIS K 7252-4の5.2
（カラム性能評価のための試薬）による。
6.3
校正用の標準物質 トルエン及びベンゼンのレイリー比はよく知られているため，光散乱検出器の
装置定数の決定にはこれらの溶媒を用いることが望ましい（B.2参照）。
屈折率検出器の装置定数を求めるには，塩化カリウム又は塩化ナトリウムの水溶液を使用する。また，
これらの水溶液の屈折率増分の濃度依存性は，装置定数の計算に使用する。
光散乱検出器と濃度検出器との間の遅延体積を求めるために，低分子量で単分散のポリマーを使用する。
このポリマーは，多角度光散乱検出器の検出器の角度依存性を校正するためにも使用する。検出器の感度
を校正するために使用するポリマーの回転半径Rgは，10 nmより小さくなければならない。また，5 nmよ
り小さい回転半径が望ましい。Rgの値がよく知られている他の化合物を使用してもよい。
分子量校正では，分子量が20 000〜50 000の高分子標準物質を用いる。
もともと高分子試料中に存在する低分子量化合物又はオリゴマーも，Lポイントを求めるために使用し
てもよい。
6.4
流量指標用試薬
JIS K 7252-1の5.4［流量指標用試薬（内部標準物質）］による。
流量指標用試薬として使われる化合物の例は，60 ℃より低い温度での測定ではJIS K 7252-3の5.4［流
量指標用試薬（内部標準物質）］に，60 ℃以上の温度での測定ではJIS K 7252-4の5.4［流量指標用試薬
（内部標準物質）］による。
6.5
添加剤
JIS K 7252-1の5.5（添加剤）による。
4
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60 ℃より低い温度での測定ではJIS K 7252-3の5.5（添加剤）に，60 ℃以上の温度での測定ではJIS K
7252-4の5.5（添加剤）による。
7
装置
7.1
一般 SEC-LSシステムの典型的な構成を，図1に示す。これは，JIS K 7252-1の図1（SEC装置の
流路図の例）に酷似しているが，主な違いは，光散乱検出器が濃度検出器に直列に接続されている点であ
る。光散乱検出器と濃度検出器とは，並列に接続してもよい。この方法に必要な仕様を満たす機器であれ
ば使用可能である。
要求仕様に合う機器であれば，市販のSEC-LSシステムだけでなく，実験室で組み上げられたSEC-LS
システムもこの方法で使用できる。
1
溶離液槽
2
ポンプ
3
インラインフィルタ
4
試料導入装置
5
カラム
6
光散乱検出器
7
濃度検出器
8
表示部
9 データ処理システム
10 プリンタ
11 廃液へ
図1−典型的なSEC-LSシステムの概念図
7.2
溶離液槽 JIS K 7252-1の6.2（溶離液槽）及びJIS K 7252-3の6.2（溶離液槽）による。
7.3
ポンプ JIS K 7252-1の6.3（ポンプ）及びJIS K 7252-3の6.3（ポンプ）による。
7.4
試料導入装置 JIS K 7252-1の6.4（試料導入装置）及びJIS K 7252-3の6.4（試料導入装置）によ
る。
7.5
カラム
7.5.1
一般 JIS K 7252-1の6.5.1（一般），JIS K 7252-3の6.5（カラム）及びJIS K 7252-4の6.5（カラ
ム）による。
7.5.2
理論段数の計算 JIS K 7252-1の6.5.2（理論段数の計算）による。
7.5.3
分離度の測定 JIS K 7252-1の6.5.3（分離度の測定）による。
7.5.4
シンメトリー係数の測定 JIS K 7252-1の6.5.4（シンメトリー係数の測定）による。
7.6
検出器
7.6.1
濃度検出器 JIS K 7252-1の6.6（検出器）による。
7.6.2
光散乱検出器 この検出器は，カラムからの溶出物によって散乱する光の強度を連続的に検出す
る。市販の光散乱検出器には，低角にだけ調整された検出器と二つ以上の角度に調整された検出器とがあ
る。
5
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クロマトグラムのピークが広くなるのを避けるため，フローセル容量は可能な限り小さいものが望まし
い。
7.7
配管 JIS K 7252-1の6.7（配管）による。
7.8
温度制御 JIS K 7252-1の6.8（温度制御）による。
7.9
記録計及びプリンタ JIS K 7252-1の6.9（記録計及びプリンタ）による。
7.10 データ処理システム JIS K 7252-1の6.10（データ処理システム）による。
7.11 その他の構成要素 JIS K 7252-1の6.11（その他の構成要素）による。
光散乱検出器でスパイクノイズを発生させる微細な粒子を取り除くため，インラインフィルタは必須で
ある。
8
操作
8.1
校正用溶液の調製
二つの検出器の間の遅延体積を測定するための単分散ポリマー溶液を，調製する。溶液濃度は，光散乱
検出器及び濃度検出器の両方に対し，データ処理できる十分なシグナル強度となるように調製する。典型
的なポリマー濃度は，低分子量ポリマーで，5 mg/mL〜10 mg/mLである。
光散乱検出器の感度調整にもこれらのポリマー溶液を用いる。
8.2
Lポイント測定用溶液の調製
必要に応じ，適切なオリゴマー又は他の低分子量化合物を適切な溶媒に溶解することによって，Lポイ
ント測定用溶液を調製する。一般には，この溶液の濃度は，1 mg/mL〜5 mg/mLである。
8.3
被検物質溶液の調製
60 ℃より低い温度の測定については，JIS K 7252-3の7.2（試料溶液の調製）による。60 ℃以上の測定
ではJIS K 7252-4の7.2（試料溶液の調製）による。
8.4
カラム性能評価用溶液の調製
JIS K 7252-3の7.3（カラム性能評価用溶液の調製）による。
8.5
装置の設定
JIS K 7252-3の7.4（装置の設定）による。
8.6
測定条件
8.6.1
流量
JIS K 7252-3の7.5.1（流量）による。
8.6.2
注入量及び注入体積
JIS K 7252-3の7.5.2（注入量及び注入体積）による。
8.6.3
カラム温度
JIS K 7252-3の7.5.3（カラム温度）による。
8.6.4
検出感度
シグナル強度は，注入した試料量及び示差屈折率検出器に対しては屈折率増分dn/dcに依存し，紫外検
出器に対しては単位質量濃度当たりの吸光度に依存する。光散乱検出器では，試料の質量平均分子量に依
存する。検出器感度は，正確なデータ処理をするため，試料の強いピークシグナルを得るように設定する
ことが望ましい。
検出感度を同一条件に設定して，溶質濃度とピーク高さとの関係を直線に保つ。屈折率検出器に対して
は，フルスケールで1×10−5〜9×10−4 RI単位程度，紫外検出器に対してはフルスケールで0.1〜0.9吸光
6
K 7252-5：2016 (ISO 16014-5：2012)
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度単位程度であることが望ましい。
注記 光散乱検出器の場合，散乱光の検出素子を含む光学系は各市販装置特有であり，検出感度を一
義的に設定することはできない。
8.7
測定回数
JIS K 7252-3の7.6（測定回数）による。
9
校正
9.1
濃度検出器及び光散乱検出器の校正
9.1.1
一般
SEC-LSは絶対法であるため，各溶出時間で正しいレイリー比と質量濃度とが得られるように，光散乱
検出器及び濃度検出器を校正する。濃度検出器として示差屈折率検出器を用いる場合には，示差屈折率検
出器及び光散乱検出器の装置定数は9.1.2，9.1.3及び9.1.4に規定する三つの校正方法のうちのいずれかで
測定する。紫外検出器又は赤外検出器を濃度検出器として用いる場合には，濃度検出器及び光散乱検出器
の装置定数は，9.1.3又は9.1.4に規定する方法で測定する。校正定数の相対的不確かさは，各溶出時間で
の分子量又は平均分子量に直接比例する。
9.1.2
校正法A
この方法では，示差屈折率検出器の装置定数kRIを，dn/dc及び質量濃度cが既知の塩化ナトリウム水溶
液のような標準液を用いて，検出器の出力IRIを測定することで求める。装置定数は，式(1)で算出できる。
(
)
RI
RI
d
d
I
c
c
n
k
×
=
········································································ (1)
光散乱検出器の装置定数は，校正試料の検出器出力と校正試料のレイリー比とから求める。校正試料に
は，レイリー比がよく知られ，かつ，強い光散乱シグナルを発する，ろ過した精製トルエンを用いること
が望ましい。
kRI定数を測定すれば，溶出時間iでの質量濃度ciは，式(2)で算出できる。
(
)
i
i
H
c
n
k
c
d
d
RI
=
·········································································· (2)
ここに，
Hi： 示差屈折率検出器のシグナル強度
9.1.3
校正法B
この方法では，ポリスチレンのテトラヒドロフラン溶液のようなdn/dcが既知のポリマー試料の総注入
質量mTotとSECクロマトグラムとから濃度検出器の装置定数を，次の式(3)によって求める。
(
)∑
=
i
i
H
c
n
V
m
k
1
d
d
int
Tot
RI
······························································ (3)
ここに，
Hi： 濃度検出器からのシグナル強度
Vint： データ取得時間間隔中の溶出体積（cm3）
校正及びそれに続く被検物質測定の間，流速が一定になるように注意する。この方法では，注入された
ポリマーのカラムからの完全溶出が前提となる。
光散乱検出器の装置定数は9.1.2（校正法A）に規定する方法によって測定する。
9.1.4
校正法C
この方法では，SEC及びSEC-LSクロマトグラムを，Mw及びdn/dcが既知の分子量標準物質溶液で測定
7
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2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
する。組み合わせた装置定数kcは，次の式(4)によって計算する。
∑
∑
=
i
i
i
i
I
H
M
c
n
k
LS,
w
c
d
d
·································································· (4)
ここで，ILS,iは光散乱検出器で観測された光散乱のシグナル強度である。
溶出時間iでの質量平均分子量Miは，式(5)から直接算出できる。
(
)
i
i
i
H
I
c
n
k
M
LS,
c
d
d
=
······································································· (5)
2角度光散乱検出器の場合には，濃度検出器の装置定数kconcは，式(6)から算出できる。
なお，組み合わせた校正定数kcは，式(4)によって求められる。
(
)
I
int
p
d
d
cV
c
n
V
A
kconc=
······································································· (6)
ここに，
Ap： 全ピーク面積
c： 注入した試料溶液の質量濃度
VI： 注入容量
Vint： データ取得時間間隔中の溶出体積（cm3）
9.2
遅延体積の測定
検出器間の遅延体積は，LSクロマトグラムのピークの頂点と濃度クロマトグラムの頂点との差から求め
る。遅延体積を構成する配管容量が変化した場合は，遅延体積を再測定する。
9.3
検出感度の規格化
多角光散乱検出器の場合，同じ値のレイリー比がそれぞれの光散乱強度で得られるように，異なる角度
での検出感度を，各角度での出力シグナルから測定する。検出感度は，6.3に規定する校正用の標準物質
溶液を注入し，各検出器からの出力シグナルを記録することによって得られる。各検出器からの出力シグ
ナルは，標準検出器に合わせて規格化する。この場合，90度に設定された検出器が標準とされることが多
い。
9.4
屈折率増分の測定
光散乱と示差屈折率検出器とを用いるSEC-LS測定では，屈折率増分dn/dcが被検物質の絶対分子量測
定に必要になる。dn/dcの値は，実測を行うか又は文献から得られる（B.3参照）。
示差屈折率検出器の種類，使用する波長，溶媒の種類，溶質温度，dn/dcを算出する手法などの実験条件
を報告する。dn/dcが既知の標準試料を用いてポリマー試料のdn/dc値の測定を行った場合，被検物質の分
子量算出に用いた方法を報告する。
10 データ収集及び解析
10.1 データ収集
JIS K 7252-1の8.1（データ収集）による。
10.2 データの検定及びクロマトグラムの補正
JIS K 7252-1の8.2（データの検定及びクロマトグラムの補正）による。
10.3 データ解析
10.3.1 ベースラインの決定
濃度クロマトグラムについては，JIS K 7252-1の8.3.1（ベースラインの決定）による。LSクロマトグラ
8
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2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
ムのベースラインは，ピーク開始直前から終了直後まで直線であると仮定する。
注記 通常，LSクロマトグラムは，ベースラインを引く前に，スパイクノイズを除外して改良される。
10.3.2 計算範囲の決定
濃度クロマトグラムについては，JIS K 7252-1の8.3.2（計算範囲の決定）による。LSクロマトグラムの
計算範囲は，10.3.1で規定するものと同じにする。
10.3.3 シグナル強度の計算
ベースライン及び計算範囲（10.3.1及び10.3.2参照）の決定に続き，ポリマー試料の溶出時間iにおけ
るシグナル強度ILS,iをLSクロマトグラムから計算し，かつ，シグナル強度Hiを濃度クロマトグラムから
計算する。
10.3.4 分子量の計算
Hi，ILS,i，試料濃度，注入体積，流量，装置定数，屈折率増分dn/dc，溶離液の屈折率などを用いて溶出
時間における分子量Miを計算する。
校正法A又は校正法Bを用いる場合は（9.1.2及び9.1.3参照），Miは次の式(7)から計算してもよい。
Kc
R
Mi
/
θ
∆
=
··········································································· (7)
ここに， ΔRθ： ILS,i及び光散乱検出器の装置定数から計算される過剰レイリ
ー比（附属書B参照）
Kは，次の式(8)で定義される光学定数である。
(
)
A
4
0
2
2
2
d
d
4
N
c
n
n
K
λ
π
=
····································································· (8)
ここに，
n： 溶離液の屈折率
λ0： 真空中の入射光の波長
NA： アボガドロ定数
高温測定の場合，全ての値（例えば，試料濃度，注入体積，流量，装置定数，屈折率増分dn/dc及び溶
離液の屈折率）は，溶離液の密度又は体積の変化のため，実測温度で補正又は決定しなければならない。
10.3.5 第二ビリアル係数A2
各溶出時間における試料ポリマーの分子量の決定に，第二ビリアル係数A2を考慮することが望ましい
（B.1参照）。しかし，多くの場合，A2の項は無視できるほど小さいため，A2を用いた計算は必要ではない。
A2を分子量の計算に用いた場合は，A2値を報告しなければならない。
11 結果の表示
11.1 校正曲線
11.1.1 一般
方法A又は方法Bのいずれかを選択し，平均分子量又は分子量分布を算出するための校正曲線，又は分
子量と溶出時間との関係を作る。方法Aは簡便な校正方法で，方法Bはより詳細で精度の高い方法である。
附属書Cに校正曲線の例を示す。
11.1.2 方法A
溶出時間iでの分子量Miを，濃度クロマトグラム及びLSクロマトグラムから算出する。必要ならば，
JIS K 7252-1の9.1（校正曲線）に規定する近似法によって溶出時間の関数として分子量を表す校正曲線を
作る。JIS K 7252-1の9.2（平均分子量の計算）に規定されているように，校正曲線及び濃度クロマトグラ
ムとを用いて数平均分子量Mn及び質量平均分子量Mwを算出する。多分散度Mw/Mnが1.2以下の場合は，
Mwだけを質量平均分子量として記録する。Mw/Mnが1.2より大きい場合には，平均分子量及び分子量分布
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を計算し，記録する。試験報告書には使用した校正曲線，濃度クロマトグラム及びLSクロマトグラムを
記載する。
11.1.3 方法B
溶出時間iでの分子量Miを濃度クロマトグラム及び光散乱クロマトグラムから算出する。最小二乗法を
用いて溶出時間の関数として分子量を表した校正曲線を作成する。多分散度Mw/Mnが1.2以下の場合には，
質量平均分子量としてMwだけを記録する。
Mw/Mnが1.2より大きい場合，Lポイントが校正曲線の適用範囲かどうかを確認する。Lポイントが校正
曲線範囲内であれば，平均分子量，分子量分布，及び校正曲線からのLポイントのかい（乖）離幅を算出
し，記録する。試験報告書には使用した校正曲線，濃度クロマトグラム及びLSクロマトグラムを記載す
る。
注記1 Lポイントは，対象ポリマーのオリゴマー又はオリゴマーと同様の化学構造をもつ有機化合
物によって求められる。
Lポイントが校正曲線の適用範囲にない場合，JIS K 7252-2に規定されている分子量標準物質を用いて
ユニバーサルキャリブレーション法に基づく校正曲線を作成する。Lポイントがユニバーサルキャリブレ
ーション法に基づく校正曲線の範囲内であれば，平均分子量，分子量分布，及び校正曲線とLポイントと
のかい（乖）離幅を計算し，記録する。試験報告書には，校正曲線，濃度クロマトグラム及びLSクロマ
トグラムを記載する。
Lポイントがユニバーサルキャリブレーション法に基づく校正曲線の範囲にない場合，Lポイントを含
む別の校正曲線を作成する。この校正曲線を用いて平均分子量，分子量分布，及び校正曲線とLポイント
とのかい（乖）離幅を算出し，記録する。試験報告書には使用した校正曲線，濃度クロマトグラム及びLS
クロマトグラムを含める。
注記2 同じ溶出位置の試料ポリマーと分子量標準物質の分子量とが分かっているため，この場合，
ユニバーサルキャリブレーション法に基づく校正曲線は，マーク・ホーウィンク・桜田
（Mark-Houwink-Sakurada）式を用いずに作成できる。
これら2種類の方法については，図2及び図3に，それぞれ操作フローを図示する。
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図2−方法Aの操作フロー図
多分散度が1.2を
超えるか？
SEC-LS結果
分子量対溶出時間又は校正曲線
の計算
多分散度（Mw/Mn）の計算
Mwだけ算出し報告
算出
1. 平均分子量
2. 分子量分布
3. 校正曲線
報告
いいえ
はい
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図3−方法Bの操作フロー図
11.2 平均分子量の計算
JIS K 7252-1の9.2（平均分子量の計算）による。
11.3 微分分子量分布曲線
JIS K 7252-1の9.3（微分分子量分布曲線）による。
11.4 積分分子量分布曲線
JIS K 7252-1の9.4（積分分子量分布曲線）による。
12 精度
この規格の精度は，ポリスチレン試料を用いた共同実験によって決定した。共同実験の詳細は，附属書
Aに示す。
SEC-LS結果
分子量対溶出時間又は校正曲線の
計算
1. 校正曲線の作成
2. Lポイントの決定
算出：
1. 平均分子量
2. 分子量分布
3. 校正曲線
4. Lポイントのかい（乖）離幅
報告
分子量標準
ユニバーサルキャリブレーション
法に基づく校正曲線
Lポイントを含む
校正曲線
多分散度が1.2を
超えるか？
Mwだけ算出し，報告
いいえ
はい
いいえ
はい
Lポイントが校正曲線
の範囲内であるか？
いいえ
はい
Lポイントが校正曲線
の範囲内であるか？
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13 試験報告書
13.1 一般
JIS K 7252-1の11.1（一般）による。
13.2 装置及び測定条件
次の事項を記載する。
a) SEC-LS装置の種類，形式及び製造業者名
b) 充塡カラムの形式，粒子径及び製造業者名
c) カラム温度
d) 使用したカラムの組合せの理論段数，分離度及びシンメトリー係数，並びにこれらを測定したときの
低分子量標準物質及び分子量分布が狭い分子量標準物質
e) 使用した溶離液，溶離液に加えた添加剤の詳細及び流量
f)
濃度検出器の種類，形式及び製造業者名，示差屈折率検出器を用いた場合は光源の波長
g) 濃度検出器のセルの温度
h) 光散乱検出器の種類，形式及び製造業者名
i)
入射光の波長
j)
計算するときに用いた散乱角度
k) 光散乱検出器のセルの温度
l)
注入した高分子試料溶液の濃度及び体積
m) データ処理システムの種類，形式及び製造業者名
n) 使用したソフトウェアの版数
13.3 装置の校正
次の事項を記載する。
a) 用いた校正方法，例えば校正法A，校正法B及び校正法C
b) 遅延体積
c) 校正用溶液の濃度及び注入体積
d) 用いた校正用標準物質の特性，例えば平均分子量
e) 光散乱検出器の校正に用いた溶媒のレイリー比
f)
用いた場合は，第二ビリアル係数A2の値
g) dn/dcの値及びその出典
h) 光散乱検出器の規格化に用いた回転半径Rg
13.4 校正曲線
次の事項を記載する。
a) 測定点を曲線に近似するために用いた近似式を含めた方法の詳細
b) 校正曲線のグラフ
13.5 結果
次の事項を記載する。
a) クロマトグラムの特性点（ta，tb，tc，td及びt1 000が適用できる。）
b) 平均分子量Mn，Mw，Mz，多分散度Mw/Mn及び計算範囲（10.3.2参照）
c) 濃度クロマトグラム及びLSクロマトグラム，並びに微分分子量分布及び積分分子量分布の表又はグ
ラフ
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附属書A
（参考）
共同実験
A.1 一般
この規格の精度は，ISO 5725-1 [27]及びISO 5725-2 [28]に従って，2004年に行った共同実験によって決
定した。
A.2 試験条件
多分散ポリスチレンPS-1，単分散ポリスチレンPS-2及び1種類の校正用の単分散ポリスチレンを含む
試験試料を参加機関に配布した。測定結果は統計的に解析した。共同実験の詳細を次に示す。
高分子試料
ポリスチレンPS-1（多分散）
ポリスチレンPS-2（単分散）
カラムサイズ
内径7.8 mm又は8.0 mm×30 cm（通常の場合，直線的な校正曲線をもつカラ
ム2本）
カラム充塡剤
ポリスチレンゲル
溶離液
テトラヒドロフラン
流量
1 mL/min
カラム温度
40 ℃
試料量
通常の場合，1 mg/mL×0.1 mL
参加機関数
20
用いたLS検出器の種類
多角度（15機関）
2角度（2機関）
低角度（3機関）
A.3 共同実験の結果
併行精度及び再現精度の結果を，表A.1に示す。
表A.1−SEC-LSの共同実験の結果
高分子試料
数平均分子量Mn及び質量
平均分子量Mwの平均値a)
併行精度，sr a)
%
再現精度，sR a)
%
PS-1
Mn＝179 000 (0/20) b)
2.9
13.2
Mw＝455 000 (0/20)
0.8
4.6
PS-2
Mn＝420 000 (1/20)
0.6
5.7
Mw＝427 000 (1/20)
0.5
4.6
注a) 異常値はGrubbs及びCochranの方法によって除いた[26]，[28]。
b) 括弧内の数字は（異常値）/（全測定機関数）を示す[28]。
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附属書B
（参考）
光散乱についての情報
B.1
光散乱の原理[1]
単色可視光線が高分子溶液中を進むとき，光は溶液中の溶媒分子及び高分子によって全方向に散乱する。
多くの高分子溶液で，光散乱はレイリー散乱と呼ばれる。溶液中での光散乱強度は，光源強度I0及び散乱
体積V並びに試料/検出器距離rの2乗の逆数に比例するため，減衰強度を考慮すると，レイリー比Rθは
式(B.1)で表される。
V
I
r
I
R
0
2
θ
θ=
············································································· (B.1)
ここで，Iθは散乱角θで散乱強度として検出される。Rθを光散乱検出器の配置から決定することは困難
であるため，トルエンのRθ値を文献値として使用することが多い。
希薄高分子溶液の過剰レイリー比ΔRθは，しばしばデバイ式(B.2)として表される。
Λ
+
+
=
∆
c
A
P
M
R
Kc
2
w
2
)
(
1
θ
θ
························································ (B.2)
ここで，θは散乱角度，Kは式(B.3)で定義される光学定数である（10.3.4参照）。
A
4
0
2
2
2
)
d
/
d(
4
N
c
n
n
K
λ
π
=
································································· (B.3)
P(θ)は，散乱光に依存する角度で表される粒子散乱関数である。P(θ)は，式(B.4)から求める。
Κ
+
+
=
2
sin
3
16
1
)
(
1
2
2
g
2
0
2
2
θ
λ
π
θ
R
n
P
·············································· (B.4)
式(B.3)は，垂直偏光の入射光及び偏光のない散乱光を仮定している。
様々な角度及び濃度で得られるKc/ΔRθを，θ＝0及びc＝0に外挿することで（Mw−1）が得られる。SEC
カラムからの溶出液は十分に希釈されていると仮定できるため，SEC-LS測定で使用される多くの光散乱
検出器では，c＝0の外挿は適用しない。Berryプロットのような他の種類のプロットは，高分子の性質に
応じてしばしば使用される。
θ＝0の外挿は，式(B.5)で示すGuinier領域などの低角領域で行うのが望ましい。
g
0
4
2
sin
nR
π
λ
θ<
······································································ (B.5)
B.2
溶媒のレイリー比
トルエンなどの純溶媒のレイリー比は，光散乱検出器の校正に利用される。表B.1は，よく使用される
溶媒のレイリー比の文献値を示す。表中のレイリー比は，波長632.8 nmの垂直偏光入射光からの偏光のな
い散乱光のものである。
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表B.1−代表的な溶媒のレイリー比（λ0＝632.8 nm）
溶媒
レイリー比
cm−1
温度
℃
参考文献
ベンゼン
12.63×10−6
23
[2]
11.84×10−6
22
[3]
トルエン
14.06×10−6
23
[2]
13.59×10−6
22
[3]
メタノール
2.85×10−6
23
[2]
2.71×10−6
22
[3]
水
0.90×10−6
23
[2]
0.92×10−6
22
[3]
レイリー比は，温度によって異なるので注意する。この違いは，平均分子量の算出結果に影響する。
B.3
屈折率増分dn/dc
散乱光の強度は，dn/dcの二乗に比例するため，正確な結果を得るには正確なdn/dc値が必要である。
SEC-LS測定で使用されるdn/dc値は，次の方法のうちのいずれかを用いて得ることができる。
1) バッチモードで示差屈折率検出器を使って測定する。
2) SEC-LS装置又は通常のSEC装置で装置校正定数既知の屈折率検出器に分子量既知物質を注入する
ことで，dn/dcを測定し，算出する。
3) dn/dc既知で注入質量が分かっている標準物質を用いてdn/dcを測定し，算出する。
4) 文献から引用する。
屈折率増分dn/dcは，高分子溶液の屈折率を質量濃度cの関数で表した場合の微分係数として定義され
る。これは文献中では“比屈折率増分”とも表記される。光散乱測定では，濃度ゼロでのdn/dcの極限値
が一般的に使用される。
実験的にdn/dcを求めるには二つの方法がある。一つは，式(B.6)に示すようにdn/dcの値が濃度ゼロで
のΔnの極限値であることから求める。
c
n
c
n
∆
=
→0
clim
d
/
d
······································································ (B.6)
ここでcは高分子溶液の質量濃度，Δnは溶液と溶媒との屈折率差である。
もう一つの方法は，dn/dcをcの関数としてのΔnの勾配と表現することによって求める。
代表的な高分子のdn/dc値を，表B.2に示す。
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表B.2−代表的な高分子のdn/dc値（λ0＝632.8 nm）
高分子
溶媒a)
温度
℃
dn/dc
mL/g
参考文献
ポリエチレン
1-クロロナフタレン
135
−0.183
[5]，[10]
ポリエチレン（PE-HD）
ODCB
145
−0.056 b)
[4]，[11]
ポリエチレン（PE-HD）
TCB
135
−0.104
[4]，[10]
ポリプロピレン
1-クロロナフタレン
135
−0.177
[5]，[16]
ポリプロピレン
TCB
135
−0.105
[5]，[16]
ポリブタジエン
THF
26
0.129 5
[4]，[6]
ポリイソプレン
THF
20
0.124
[5]，[13]
ポリスチレン
DMF
20
0.165
[5]，[17]
ポリスチレン
THF
25
0.186
[4]，[18]
ポリスチレン
クロロホルム
0.155
[4]，[19]
ポリ塩化ビニル
THF
23
0.101
[4]，[6]
ポリ酢酸ビニル
THF
25
0.051 7
[4]，[21]
ポリメタクリル酸メチル
THF
25
0.086
[5]，[14]
ポリメタクリル酸メチル
HFIP
25
0.19
[4]，[15]
ナイロン6
HFIP
25
0.237 5
[4]，[7]
ナイロン66
HFIP
25
0.241
[4]，[8]
ビスフェノールAポリカーボネート
THF
23
0.177
[4]，[6]
ポリブチレンテレフタレート
HFIP
25
0.236
[5]，[9]
ポリエチレンテレフタレート
HFIP
25
0.243
[5]，[9]
ポリウレタン
THF
25
0.086 3
[4]，[20]
エポキシ樹脂
THF
23
0.187
[4]，[6]
ポリエチレンオキシド
メタノール
25
0.142
[5]，[12]
ポリアクリル酸
THF
23
0.099 4
[4]，[6]
注a) THF: テトラヒドロフラン，HFIP: 1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロパノール，DMF: N,N-ジメチ
ルホルムアミド，ODCB: 1,2-ジクロロベンゼン，TCB: 1,2,4-トリクロロベンゼン
b) 参考文献[10]では−0.078となっている。
B.4
回転半径Rgと分子量Mとの関係
ポリスチレン分子の回転半径は，光散乱検出器の補正によく用いられる。テトラヒドロフラン中のポリ
スチレンのRg（nm）は，式(B.7)の経験式から算出できる。
546
.0
2
g
10
45
.2
M
R
−
×
=
······························································· (B.7)
B.5
溶媒の屈折率
代表的な溶媒の屈折率を，表B.3に示す。
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表B.3−代表的な溶媒の屈折率
溶媒
屈折率
波長
nm
温度
℃
参考文献
クロロホルム
1.440 7
633
25
[23]
1-クロロナフタレン
1.532 3
633
140
[23]
1,2-ジクロロベンゼン（ODCB）
1.551
589
25
[5]
N,N-ジメチルホルムアミド（DMF）
1.430 5
633
25
[23]
ジメチルスルホキシド（DMSO）
1.477 3
633
25
[23]
1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプ
ロパノール（HFIP）
1.275 2
589
25
[1]
メタノール
1.372 4
633
25
[23]
1-メチル-2-ピロリドン（NMP）
1.467 5
589
25
[24]
テトラヒドロフラン（THF）
1.405
633
25
[23]
トルエン
1.489 8
633
25
[25]
1,2,4-トリクロロベンゼン（TCB）
1.502
633
135
[23]
水
1.332 3
633
25
[1]
B.6
分子量に与える第二ビリアル係数A2の影響
SEC-LSで分子量を算出する場合，A2を含む式(B.2)での第二項の補正が問題となる。しかしながら，溶
離液中の高分子濃度は非常に希薄なため，第二項は第一項1/Mwと比べて非常に小さな値となる。そのため，
多くの場合に第二項は無視できる。
テトラヒドロフラン中のポリスチレンで第二項の例を示す。この計算では次の値を使用した。
ポリスチレンの分子量：1×105
第二ビリアル係数A2：5.78×10−4 cm3･g−1･mol[3]，
試料濃度：2 g･L−1
注入体積：0.2 mL
高分子の溶出体積：5 mL
第二項の値は式(B.8)のようになる。
8
4
2
10
52
.9
)5/2.0(
002
.0
)
10
78
.5(
2
2
−
−
×
=
×
×
×
×
=
c
A
·························· (B.8)
これは，第一項1/Mw(＝1×10−5)と比べて，非常に小さい。
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附属書C
（参考）
低分子量領域の校正曲線
図C.1に示すように，分子量及び溶出時間からなる校正曲線（点線）及び高分子量領域から外挿した被
検試料の校正曲線（太い実線）は，低分子量領域において真の校正曲線から逸脱することがしばしば見受
けられる。図C.1において，真の数平均分子量Mnは，観測された分子量及び溶出時間のプロット曲線の
外挿で算出したMnより低い。補正したMn値を得るためには，低分子量の標準物質又は化合物を測定して，
分子量と溶出時間との関係を作成する必要がある。Lポイントは，低分子量化合物の実測データを分子量
校正曲線の作成に用いることによって正確な校正曲線を作成するために導入されたものである。
X ：溶出時間（分）
Y1 ：log M
Y2 ：濃度×104（g/mL）
太い実線は，多分散ポリマーサンプルで得られた測定点（黒点）の一次の最小二乗法によって求
めた直線である。点線は，単分散ポリスチレンサンプルで得られた測定点（白点）の三次の最小二
乗法によって求めた曲線である。右下の白抜き三角点は，Lポイントである。
図C.1−共同実験で用いたPS-1サンプルにおける濃度クロマトグラム（実線）及び
測定で得られた分子量及び溶出時間（黒点）
附属書Aに記載した共同実験において，PS-1サンプルの数平均分子量は，膜浸透圧法によっても測定し
た。表C.1に，種々の方法で得られたMn値を記載した。
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表C.1−共同実験で用いたPS-1サンプルの数平均分子量Mnに及ぼす校正曲線の影響
ラウンドロビンテストの結果
（20機関測定の平均値）
典型的な直線校正曲線
による計算値a)
三次の校正曲線による
計算値b)
膜浸透圧法による
測定値
Mn
179 000
155 200
141 800
143 000
注a) 参加機関の一つのデータを使用。
b) 単分散ポリスチレンによるピーク頂点分子量及び溶出時間を用いて算出。
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参考文献 [1] Huglin, M.B. (ed.), Light Scattering from Polymer Solutions, Academic Press (1972)
[2] Kaye, W., McDaniel, J.B., Appl. Opt., 13, 1934-1937 (1974)
[3] Pike, E.R., Pomeroy, W.R.M., Vaughan, J.M., J. Chem. Phys., 62, 3188-3192 (1975)
[4] Mori, S., Barth, H.G., Size Exclusion Chromatography, Springer (1999)
[5] Polymer Handbook (4th Edition), John Wiley & Sons (1999)
[6] Wyatt Technology, Data Sheet, Santa Barbara, CA
[7] Schorn, H., Kosfeld, R., Hess, M., J. Chromatogr., 282, 579 (1983)
[8] Samanta, S.R., J. Appl. Polym. Sci., 45, 1635 (1992)
[9] Patuska, G., Just, U., August, H.,Angew. Makromol. Chem., 107, 173 (1982)
[10] MacRury, T.B., McConnell, M.L., J. Appl. Polym. Sci., 24, 651 (1979)
[11] Grinshpun, V., OʼDriscoll, K.F., Rudin, A., in Provder, T. (ed.), Size Exclusion Chromatography,
ACS, Symposium Series, 245, ACS, 273 (1984)
[12] Kinugasa, S., Nakahara, H., Kawahara, J., Koga, Y., Takaya, H., J. Polym. Sci. B. Polym. Phys., 34,
583 (1996)
[13] Chen, X., Chu, Z., Hadjichristidis, N., Fetters, L.J., Carella, J., Graessley, W.W., J. Polym. Sci.
Polym. Phys., 22, 777 (1984)
[14] Numasawa, N., Hamada, T., Nose, T., J. Polym. Sci. Polym. Lett., 23, 1 (1985)
[15] Remsen, E.E., J. Appl. Polym. Sci., 42, 503 (1991)
[16] Dvornic, P.R., J. Appl. Polym. Sci., 28, 2729 (1983)
[17] Dietrich, W., Basch, A., Angew. Makromol. Chem., 40/41, 159 (1974)
[18] Segudovic, N., Karasz, F.E., MacKnight, W.J., J. Liq. Chromatogr., 13, 2581 (1990)
[19] Jordan, R.C., Silver, S.F., Sehon, R.D., Rivard, R.J., in Provder, T. (ed.), Size Exclusion
Chromatography, ACS Symposium Series, 245, ACS, 295 (1984)
[20] Petrovic, Z.S., MacKnight, W.J., Polym. Bull., 27, 281 (1991)
[21] Jordan, R.C., McConnell, M.L., in Provder, T. (ed.), Size Exclusion Chromatography, ACS
Symposium Series, 138, ACS, 107 (1980)
[22] Fetters, L.J., Hadjichristidis, N., Linder, J.S., and Mays, J.W., J. Phys. Chem. Ref. Data, 23,
619-640 (1994)
[23] Chromatix LALLS-CMX 100 manual, calculated by extrapolation from values measured at other
wavelengths (Reference [1])
[24] Riddick, J.A., Bunger, W.B., Sakano, T.K., Organic Solvents (4th Ed.), John Wiley & Sons (1986)
[25] Huglin, M.B., OʼDonohue, S.J., Radwan, M.A., Eur. Polym. J., 25, 543-547 (1989)
[26] Grubbs, F. E., and Beck, G., Technometrics, 14, 847 (1972)
[27] ISO 5725-1，Accuracy (trueness and precision) of measurement methods and results−Part 1:
General principles and definitions
注記 対応日本工業規格：JIS Z 8402-1 測定方法及び測定結果の精確さ（真度及び精度）
−第1部：一般的な原理及び定義（IDT）
[28] ISO 5725-2，Accuracy (trueness and precision) of measurement methods and results - Part 2:
Basic method for the determination of repeatability and reproducibility of a standard measurement
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2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
method
注記 対応日本工業規格：JIS Z 8402-2 測定方法及び測定結果の精確さ（真度及び精度）
−第2部：標準測定方法の併行精度及び再現精度を求めるための基本的方法（IDT）