JISK0450-40-10:2004 用水・排水中のアジピン酸ビス（２

K 0450-40-10：2004

（2）

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。

ページ

1. 適用範囲 ························································································································ 1

2. 引用規格 ························································································································ 1

3. 共通事項 ························································································································ 1

4. 試料 ······························································································································ 2

4.1 試料の採取 ··················································································································· 2

4.2 試料の取扱い ················································································································ 3

5. 試料の前処理 ·················································································································· 3

5.1 試薬 ···························································································································· 3

5.2 器具 ···························································································································· 3

5.3 操作 ···························································································································· 5

6. ガスクロマトグラフ質量分析法 ·························································································· 6

6.1 試薬 ···························································································································· 6

6.2 器具及び装置 ················································································································ 6

6.3 準備操作 ······················································································································ 7

6.4 操作 ···························································································································· 7

7. 結果の表示 ····················································································································· 9

附属書1（規定）活性けい酸マグネシウムによるカラムクロマトグラフ分離 ··································· 10

附属書2（参考）定量範囲の下限値を確認する方法 ···································································· 11

附属書3（参考）感度係数（RF）を用いる濃度の算出方法 ·························································· 12

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。

日本工業規格 JIS

K 0450-40-10：2004

用水・排水中のアジピン酸ビス

（2-エチルヘキシル）試験方法

Testing method for hexanedioic acid bis (2-ethylhexyl) ester

in industrial water and wastewater

1. 適用範囲この規格は，工業用水及び工場排水中のヘキサン二酸ビス（2-エチルヘキシル）［アジピン

酸ビス（2-エチルヘキシル）］（C22H42O4）（CAS No.103-23-1）(1)の試験方法について規定する。

注(1) アジピン酸ジ-2-エチルヘキシルの名称も使用されている。

2. 引用規格付表1に示す規格は，この規格に引用されることによって，この規格の規定の一部を構成

する。これらの引用規格は，その最新版（追補を含む。）を適用する。

3. 共通事項共通事項は，次による。

a) 通則化学分析に共通する一般事項は，JIS K 0050による。

b) 定義この規格で用いる主な用語の定義は，JIS K 0101，JIS K 0102，JIS K 0211及びJIS K 0215に

よる。

c) ガスクロマトグラフ質量分析法ガスクロマトグラフ質量分析法に共通する一般事項は，JIS K 0123

による。

d) 化合物の名称化合物の名称は，社団法人日本化学会が定めた化合物命名法［国際純正及び応用化学

連合（IUPAC）の有機化学命名法］によるものを用い，その末尾に慣用名を括弧で記載してある。

e) 定量範囲試験方法に示してある定量範囲は，ガスクロマトグラフ質量分析計に導入した溶媒中の目

的成分の質量（pg）で示す。

分析精度分析精度は，試験方法の定量下限値付近において繰返し試験で求めた変動係数（％）で示

す(2)。
注(2) 変動係数（％）＝xs×100

ここに，

s：標準偏差

x：平均値

g) 試験環境試薬，有機溶媒及び器具類からの汚染，操作及び空気中からの汚染が結果に大きく影響を

及ぼすので，特に注意が必要である。

h) 水空試験などに用いる水は，JIS K 0557のA4又はA3の水とする(3)。

使用前に，水1 Lを分液漏斗にとり，5.1 a)の塩化ナトリウム50 gと5.1 d)のヘキサン100 mlとを加

え，振とう器を用いて約10 分間振り混ぜ，放置する。これを5.3 b)〜d)，j)及びk)の操作［ただし，

K 0450-40-10：2004

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。

5.1 i)のフルオランテン-d10内標準液（10 μgC16H10-d10/ml）の添加は行わない。］を行い，6.4a)によって

その濃縮液1 μlをマイクロシリンジでとり，ガスクロマトグラフ質量分析計に導入し，アジピン酸ビ

ス（2-エチルヘキシル）の保持時間に相当する位置にピークのないことを確認する(4)。

注(3) ガラス器具類の洗浄に用いる水は，JIS K 0557のA2又はA3の水を用いてもよい。

(4) 精製が必要な場合には，JIS K 0557の4. 備考6. による。又はA4又はA3の水を活性炭などで

処理する。

試薬試薬についての共通事項は，次による。

1) 試薬は，JISに規定されているもので試験に支障のないものを用いる。JISに規定されていないもの

は，試験に支障のないものを用いる。

2) 標準液の濃度は，mg/ml又はμg/mlで表す。

3) 液体試薬の混合溶液は，試薬A-試薬B（a+b）で表す。この表し方は，試薬Aのa mlと試薬Bのb

mlとを混合したことを示す。

4) 標準液の名称の後に括弧で示されている濃度は，正確な濃度であることを意味する。

5) 試薬類の名称は，国際純正及び応用化学連合（IUPAC）の無機化学命名法及び有機化学命名法を基

にして社団法人日本化学会が定めた化合物命名法，及びJIS試薬の名称とできるだけ整合させてい

る。

6) 標準液の調製に使用する化合物は，純度既知のものを用いる。この規格では，“標準品”と記述して

ある。それらの中には類似した化合物が不純物として含まれることが多いので，試験に支障のない

ものを使用する。

7) 試薬類及び廃液などの取扱については，関係法令規則などに従い，十分に注意する。

ガラス器具類ガラス器具類についての共通事項は，次による。

1) ガラス器具類は，特に断らない限りJIS R 3503及びJIS R 3505に規定するものを使用する。また，

加熱操作を伴う場合には，JIS R 3503に規定するほうけい酸ガラス-1を用いる。

デシケーターに用いる乾燥剤は，特に断らない限りシリカゲル(5)とする。

2) 試験に用いるガラス器具類は，使用前にあらかじめ水で洗浄した後，更にアセトン（JIS K 8040に

規定する濃縮300以上の品質のもの。）で洗浄し，放置してアセトンを揮散させた後，200 ℃以上で

2 時間以上加熱し，汚染のないところで放冷する。

注(5) JIS Z 0701に規定する包装用シリカゲル乾燥剤A形1種を用いる。

k) 検量線検量線の作成に当たっては，試験方法に示される定量範囲内を4〜6 段階に分け，ガスクロ

マトグラフ質量分析計への導入時の濃度に一致するように標準液をとり，定量範囲内について作成す

る。

4. 試料

4.1

試料の採取試料の採取は，次による。

4.1.1

器具器具は，次による。

a) 試料容器共栓ガラス瓶1 000 ml(6)

注(6) 共栓の代わりに，四ふっ化エチレン樹脂製のパッキン付きねじぶたを用いたものでもよい。

4.1.2

採取操作採取操作は，次による。

a) 表層水の採取試料をJIS K 0094の4.1.1（試料容器による採取）又は4.1.2（バケツ類による採取）

に従って採取する。

K 0450-40-10：2004

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。

b) 各深度の水の採取試料をJIS K 0094の4.1.4（バンドーン採水器による採取）に従って採取する。バ

ンドーン採水器のほかに，これと同等の性能をもつものを用いてもよい。

c) 配管装置からの採取試料をJIS K 0094の4.3（採取弁を用いる採取）に従って採取する。

4.2

試料の取扱い試験は試料採取後，直ちに行う。直ちに行えない場合には，0〜10 ℃の暗所に保存

し，できるだけ早く試験する。

5. 試料の前処理試料に塩化ナトリウム及びアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8を加え，ヘキサン

を加えて振り混ぜて抽出した後，抽出液を濃縮する。濃縮液をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフ

管に流して妨害物質を流出分離した後，アセトン-ヘキサン溶離液を用いて対象物質を溶出し，再び濃縮後，

フルオランテン-d10を加え，一定量とする。

妨害物質が存在しない場合は，カラムクロマトグラフ分離の操作を省略してもよい。

5.1

試薬試薬は，次による。

a) 塩化ナトリウム JIS K 8150に規定する塩化ナトリウム。約600 ℃で約60分間加熱した後，デシケ

ーター中で放冷する。

b) 硫酸ナトリウム JIS K 8987に規定するもの。約600 ℃で約60分間加熱した後，デシケーター中で

放冷する。

参考硫酸ナトリウムは，PCB・フタル酸エステル試験用が市販されている。

c) アセトン JIS K 8040に規定する濃縮 300以上のもの(7)。

注(7) 使用前に，200 mlを用いて5.3 i)及びk)の操作［ただし，i)のフルオランテン-d10内標準液（10

μgC16H10-d10/ml）の添加は行わない。］に準じて1 mlまで濃縮する。6.4 a)によってその濃縮液1

μlをマイクロシリンジでとり，ガスクロマトグラフ質量分析計に導入し，アジピン酸ビス（2-

エチルヘキシル）の保持時間に相当する位置にピークのないことを確認する。

d) ヘキサン JIS K 8825に規定する濃縮 300以上のもの(7)。

e) アセトン-ヘキサン溶離液（1+19）アセトン及びヘキサンを用いて調製する。

アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8内標準液（1 mgC22H42O4-d8/ml-アセトン）アジピン酸ビス（2-

エチルヘキシル）-d8（C22H42O4-d8）の標準品0.100 gを，全量フラスコ100 mlにとり，アセトンを標

線まで加える(8)。

注(8) −5 ℃以下の暗所に保存する。

g) アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8内標準液（10 μgC22H42O4-d8/ml-アセトン）アジピン酸ビス

（2-エチルヘキシル）-d8内標準液（1 mgC22H42O4-d8/ml-アセトン）1 mlを，全量フラスコ100 mlにと

り，アセトンを標線まで加える(8)。

h) フルオランテン-d10内標準液（1 mgC16H10-d10/ml）フルオランテン-d10（C16H10-d10）の標準品0.100 g

を，全量フラスコ100 mlにとり，ヘキサンを標線まで加える(8)(9)。

注(9) この溶液は，試料に添加したアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8の回収率を求める場合の

内標準物質として用いる。

フルオランテン-d10内標準液（10 μgC16H10-d10/ml）フルオランテン-d10内標準液（1 mgC16H10-d10/ml）

1 mlを，全量フラスコ100 mlにとり，ヘキサンを標線まで加える(8)(9)。

窒素 JIS K 1107に規定する高純度窒素2 級

5.2

器具器具は，次による。

a) 分液漏斗 1 000〜2 000 mlのもの。

K 0450-40-10：2004

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。

b) 目盛付き共栓試験管 10〜20 ml，透明すり合わせのもの。1 mlに目盛のあるもの。

c) マイクロシリンジ 10〜200 μl，又は自動導入装置

d) 共栓三角フラスコ 100〜500 mlのもの。

e) なす形フラスコ 100〜500 mlの共通すり合わせで濃縮器（ロータリーエバポレーター）に接続でき

るもの。

カラムクロマトグラフ管カラムクロマトグラフ管は，次による。一例を図 1に示す。

1) カラム用管内径約1 cm，長さ約30 cmのコック付きガラス管

2) カラム充てん剤カラムクロマトグラフ用のシリカゲル(10)（粒径150〜250 μm）を約130 ℃で約

15 時間加熱した後，デシケーター中で放冷する。その95 gを共栓三角フラスコにとり，かき混ぜ

ながら，水5 mlを滴加する。密栓し，発熱が終了するまで静かに混合する。さらに，振とう器で約

30 分間振り混ぜる。3)でカラムクロマトグラフ管として調製したものについて，対象物質の保持時

間にピークの生じないもの(11)。

3) カラムクロマトグラフ管の作り方カラム用管の底部にJIS K 8251に規定するガラスウール（あら

かじめ，ヘキサンで洗浄したもの。）を詰め，少量のヘキサンを加えてガラスウール間の気泡を除去

する。続いて，カラム充てん剤約5 gをビーカーにとり，ヘキサンを加えてスラリー状にし，これ

を気泡が入らないようにカラム用管に流し込み(12)，その上部に硫酸ナトリウムを約2 cmになるよ

うに積層した後，コックを操作し，ヘキサンが硫酸ナトリウム層よりわずかに上部になるようにヘ

キサンを流し出す(13)。

注(10) 活性けい酸マグネシウムを用いてもよい。その場合の操作は，附属書1による。

参考活性けい酸マグネシウムは，フロリジルPRなどが市販されている。

(11) 調製したシリカゲルの5 gを，3)によってカラムクロマトグラフ管とし，5.3 f)〜k)に準じた操

作［ただし，フルオランテン-d10内標準液（10 μgC16H10-d10/ml）の添加は行わない。］を行い，

6.4 a)によってその濃縮液1 μlをマイクロシリンジでとり，ガスクロマトグラフ質量分析計に

導入し，アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）の保持時間に相当する位置にピークのないこと

を確認する。

(12) カラム用管に充てん剤を均一に充てんするために，流し込んだ後，カラム用管に縦横の振動を

与えるとよい。

(13) 市販のシリカゲルカートリッジを用いてもよい。ただし，使用前に回収率などをあらかじめ確

認しておく。

単位 cm

図 1 カラムクロマトグラフ管の一例

K 0450-40-10：2004

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。

g) 振とう器

h) 濃縮器ロータリーエバポレーター又はクデルナ-ダニッシュ濃縮器

5.3

操作操作は，次による。

a) 4.1.2で採取した試料(14)の適量（例えば，1 L）を分液漏斗にとり，アジピン酸ビス（2-エチルヘキシ

ル）-d8内標準液（10 μgC22H42O4-d8/ml-アセトン）10 μl（マイクロシリンジでとる。）及び液量1 Lに

つき塩化ナトリウム50 gとヘキサン100 mlとを加え，振とう器を用いて約10 分間振り混ぜ，放置す

る。

注(14) 試料中に懸濁物が多い場合は，アセトン1〜5 mlを加えるとよい。

b) 水層を別の分液漏斗に移し入れる。ヘキサン層を共栓三角フラスコに移し入れ，分液漏斗を少量のヘ

キサンで洗い，洗液は先の共栓三角フラスコに合わせる。分液漏斗の水層に液量1 Lにつきヘキサン

100 mlを加え，再び振とう器を用いて約10 分間振り混ぜ，放置する。水層を捨て，ヘキサン層を先

の共栓三角フラスコに合わせる。

c) 共栓三角フラスコ中のヘキサン溶液に硫酸ナトリウム20〜30 g(15)を加え，軽く振り混ぜて脱水し(16)，

約10分間放置した後，ろ紙5 種A（又は5 種B）(17)を用いてろ過し，ろ液をなす形フラスコ（又は

クデルナ-ダニッシュ濃縮器）に受ける。共栓三角フラスコをヘキサン10〜20 mlで洗浄し，更にその

洗液で先のろ紙上の硫酸ナトリウムも洗浄する。この洗浄操作を数回行い，洗液も先のなす形フラス

コに合わせる。

注(15) ヘキサン溶液にエマルションがある場合には，更に過剰に加える。

(16) このほかの脱水には，ヘキサン抽出液を約−20 ℃の暗所に保存し，水分を凍結させる方法もあ

る。濃縮操作を当日行わない場合に用いるとよい。

(17) ろ紙は，抽出に用いる溶媒で使用時に洗浄する。

d) 濃縮器を用いて，ヘキサン溶液が約10 mlになるまで濃縮する(18)(19)(20)。

注(18) 40 ℃以下の水浴中で減圧濃縮する。クデルナ-ダニッシュ濃縮器を用いる場合は，濃縮器を大

気圧で75 ℃以下に加熱して濃縮する。スニーダーカラムを少量のヘキサンで洗い，スニーダ

ーカラムを付けたまま放冷する。

(19) 乾固近くまで濃縮すると，対象物質が揮散することもあるので注意する。

(20) 妨害物質が存在しない試料で，e)〜h)のカラムクロマトグラフ分離操作を省略する場合は，この

操作に引き続いてj)以降の操作を行う。

e) この濃縮液の全量をカラムクロマトグラフ管の上部から流し込み，コックを操作し，液面が硫酸ナト

リウム層よりわずかに上部になるようにする。なす形フラスコの内壁をヘキサン約2 mlで洗い，これ

もカラムクロマトグラフ管に流し込む。

カラムクロマトグラフ管の上部から，ヘキサン50 mlを約1 ml/minで流下させ，流出液は捨てる。

g) 受器になす形フラスコを用い，先のヘキサンが硫酸ナトリウム層のわずかに上にあるうちにアセトン-

ヘキサン溶離液(1+19)を加え，その50 ml(21)(22)を約1 ml/minで流下させ，溶出液を受器に受ける。

注(21) 活性けい酸マグネシウムを用いた場合の操作は，附属書1による。

(22) ヘキサン約10 mlを目盛付き共栓試験管にとり，6.1 d)のアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）

標準液（1 μgC22H42O4/ml）100 μl，6.1 e)のアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8内標準液（10

μgC22H42O4-d8/ml-ヘキサン）100 μl及びフルオランテン-d10内標準液（10 μgC16H10-d10/ml）100 μl

をそれぞれマイクロシリンジで加え，振り混ぜた後，全量をカラムクロマトグラフ管の上部か

ら流し込み，コックを操作し，液面が硫酸ナトリウム層よりわずかに上部になるようにする。

K 0450-40-10：2004

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。

続いてf)の操作を行い，流出する溶液約10 mlを1画分として目盛付き共栓試験管にとる。さ

らに，g)の操作を行い，溶出する溶液約10 ml（最初から）を1画分として目盛付き共栓試験管

にとる。分取したそれぞれの目盛付き共栓試験管を約40 ℃の水浴中で加熱しながら，窒素を

緩やかに吹き付け約1 mlまで濃縮する。各濃縮液について6.4 a)及びb)，e)によって溶出パタ

ーン及び回収率を確認しておく。この操作によってカラムクロマトグラフ操作に必要なヘキサ

ン及びアセトン-ヘキサン溶離液（1+19）の量を確認しておくとよい。

h) 溶出液に適切な量の硫酸ナトリウムを加え，脱水する。

濃縮器を用いて，溶出液が約10 mlになるまで濃縮する(18)(19)。

濃縮液を目盛付き共栓試験管に移し，なす形フラスコをヘキサン約2 mlで洗浄し，その洗液も目盛付

き共栓試験管に合わせる。

k) この濃縮液にフルオランテン-d10内標準液（10 μgC16H10-d10/ml）10 μl（マイクロシリンジでとる。）を

加え，窒素を緩やかに吹き付け，1 mlまで濃縮して測定用試料溶液とする(23)。

注(23) 乾固近くまで濃縮すると，対象物質が揮散することもあるので注意する。

直ちに測定できない場合には，この濃縮液を約−20 ℃の暗所に保管する。

空試験用として水1 Lを分液漏斗にとり，アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8内標準液（10

μgC22H42O4-d8/ml-アセトン）10 μl（マイクロシリンジでとる。）及び液量1 Lにつき塩化ナトリウム50

gとヘキサン100 mlとを加え，振とう器を用いて約10 分間振り混ぜ，放置する。続いてb)〜k)の操

作を行って空試験用溶液とする。

6. ガスクロマトグラフ質量分析法 5.の前処理で得た測定用試料溶液の一定量をガスクロマトグラフ質

量分析計に導入し，アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8を内標準物質として，選択イオン検出法（SIM

法）又はマスクロマトグラフ法（MC法）によってアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）を定量する。

定量範囲：C22H42O4 10〜300 pg 分析精度：10〜20 ％（いずれも装置，測定条件によって異なる。）

参考定量範囲の下限値を確認する場合は，附属書2によるとよい。

6.1

試薬試薬は，次による。

a) ヘキサン 5.1 d)による。

b) アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）標準液（1 mgC22H42O4/ml）アジピン酸ビス（2-エチルヘキシ

ル）の標準品0.100 gを，全量フラスコ100 mlにとり，ヘキサンを標線まで加える(8)。

c) アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）標準液（10 μgC22H42O4/ml）アジピン酸ビス（2-エチルヘキシ

ル）標準液（1 mgC22H42O4/ml）1 mlを，全量フラスコ100 mlにとり，ヘキサンを標線まで加える(8)。

d) アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）標準液（1 μgC22H42O4/ml）アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）

標準液（10 μgC22H42O4/ml）1 mlを，全量フラスコ10 mlにとり，ヘキサンを標線まで加える(8)。

e) アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8内標準液（10 μgC22H42O4-d8/ml-ヘキサン） 5.1 f)及びg)と同

じ操作によって溶媒にはヘキサンを用いて調製する(8)。

フルオランテン-d10内標準液（10 μgC16H10-d10/ml） 5.1 i)による。

g) 窒素 5.1 j)による。

6.2

器具及び装置器具及び装置は，次による。

a) 目盛付き共栓試験管 5.2 b)による。

b) マイクロシリンジ 5.2 c)による。

c) ガスクロマトグラフ質量分析計（GC/MS）次に掲げる条件を満たすもの(24)。

K 0450-40-10：2004

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。

1) キャピラリーカラム用管内径0.1〜0.53 mm，長さ5〜100 mのステンレス鋼，石英ガラス又はほ

うけい酸ガラス製のもの。

2) キャピラリーカラムキャピラリーカラム用管の内壁に，5 ％フェニルシリコーン化学結合形又は

メチルシリコーン系固定相液体を厚さ0.05〜5 μmで被覆したもの又は同等の性能をもつもの。

参考

この試験に用いるキャピラリーカラムには，DB-5，TC-5，HP-5+，SPB-5などのほか，メ

チルシリコーン系固定相液体として100 ％メチルシリコーンを用いたものが，DB-1，

CBP-1，CBJ-1DB-1，CP-SIL-5CB，NB-1，SPB-1，Ultra-1などの名称で市販されている。

3) 検出器選択イオン検出法（SIM法）又はマスクロマトグラフ法（MC法）が行えるもの。

4) キャリヤーガスヘリウム［体積分率99.999 9 ％以上］で，線速度20〜40 cm/sに調節して用いる。

5) 試料導入方法及び試料導入部温度試料導入方法は，スプリットレス注入法（非分割導入方式）又

はコールドオンカラム注入法（全量導入方式）による。試料導入部温度は，スプリットレス注入法

の場合は220〜280 ℃，コールドオンカラム注入法の場合は50〜100 ℃。

6) GC/MS接続部温度 220〜280 ℃

7) イオン源温度 200〜250 ℃

8) 電子加速電圧 20〜70 V

9) 昇温プログラム 50〜240 ℃(2〜30 ℃/min)

注(24) これらの条件は装置，測定条件によって異なる。

6.3

準備操作準備操作は，次による。

a) アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）標準液（1 μgC22H42O4/ml）100 μl及びアジピン酸ビス（2-エチル

ヘキシル）-d8内標準液（10 μgC22H42O4-d8/ml-ヘキサン）100 μlをマイクロシリンジでとり，目盛付き

共栓試験管に移し入れ，更にフルオランテン-d10内標準液（10 μgC16H10-d10/ml）100 μlをマイクロシリ

ンジで加える。窒素を緩やかに吹き付け，1 ml以下とし，ヘキサンを1 mlの標線まで加える。

6.4

操作操作は，次による。

a) 6.3 a)の溶液の1 μlをマイクロシリンジ(25)でとり，スプリットレス注入法又はコールドオンカラム注

入法によってガスクロマトグラフ質量分析計に導入し，あらかじめアジピン酸ビス（2-エチルヘキシ

ル），アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8及びフルオランテン-d10の選択イオン（m/z）を設定し

(26)たガスクロマトグラフ質量分析計に，選択イオン検出法又はマスクロマトグラフ法によって測定し

てそのマスフラグメントグラムを記録し，アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル），アジピン酸ビス（2-

エチルヘキシル）-d8及びフルオランテン-d10の保持時間に相当するピークの位置を確認しておく。

注(25) 検量線作成時と同じものを用いる。

(26) 選択イオンの一例を表1に示す。

表 1 選択イオンの一例

物質

選択イオン（m/z）

定量用

確認用

アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）（C22H42O4）［DEHA］

129

147

アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8（C22H42O4-d8）

137

−

フルオランテン-d10（C16H10-d10）

212

−

b) 5.3 k)で得た溶液1 μlをマイクロシリンジ(25)でとり，a)と同じ操作を行ってマスフラグメントグラム

を記録し，a)の保持時間と一致していることを確認(27)し，保持時間に相当する位置のピークについて，

指示値(28)を読み取る。アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）の指示値とアジピン酸ビス（2-エチルヘ

K 0450-40-10：2004

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。

キシル）-d8の指示値との比及びアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8の指示値とフルオランテン-d10

の指示値との比(29)を求める。

注(27) 対象物質のフラグメントイオンのピークが予想保持時間の±5 秒間に出現し，フラグメントイ

オンのピーク強度比が標準物質のピークの±20 ％にあれば，同じ物質が存在しているものとみ

なす。

(28) ピーク高さ又はピーク面積。

(29) アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8の指示値とフルオランテン-d10の指示値との比は，前

者の回収率を求めるのに用いる［注(30)参照。］。

c) 空試験として，5.3 l)で得た空試験用溶液について，a)及びb)の操作を行う。

d) 検量線からアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）の濃度とアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8の

濃度との比（試料中の比a及び空試験の比b）を求め，次の式によって試料中のアジピン酸ビス（2-

エチルヘキシル）の濃度（μg/L）を算出する。

000

)

(

−

ここに，

X：試料中のアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）の濃度（μg/L）

a：検量線から求めたアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）とア

ジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8との濃度比

b：空試験から求めたアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）とア

ジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8との濃度比

n：試料に添加したアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8の質

量（μg）

V：試料（ml）

1 000：試料1 Lに換算する係数

検量線アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）標準液（1 μgC22H42O4/ml）0.1〜3 mlを全量フラスコ

10 mlに段階的にとり，それぞれにアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8内標準液（10

μgC22H42O4-d8/ml-ヘキサン）100 μl（マイクロシリンジでとる）及びフルオランテン-d10内標準液（10

μgC16H10-d10/ml）100 μl（マイクロシリンジでとる）とを加え，ヘキサンを標線まで加える。これ

らを検量線作成用標準液とする。それぞれの一定量［試料と同量（例えば，1 μl）］をマイクロシリ

ンジでとり，a)及びb)の操作を行う。

検量線作成用標準液中のアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）の濃度（Ms）とアジピン酸ビス（2-

エチルヘキシル）-d8の濃度（Mi）との比を横軸にとり，アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）

の選択イオン(26)による指示値（As）とアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8の選択イオン(26)に

よる指示値（Ai）との比を縦軸にとって，関係線を作成する。

別に，段階的にとった検量線用標準液中の，アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8の選択イオ

ン(26)による指示値とフルオランテン-d10の選択イオン(26)による指示値とのそれぞれの比を求め，

その平均値を算出する(30)。

検量線の作成は，試料測定時に行う。

注(30) 試料に添加したアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8とフルオランテン-d10とについて，

b)で求めた指示値の比，及び検量線で求めた両物質の指示値の平均値の比から回収率を求

める。回収率が70〜130 ％にあることを確認する。この範囲を超過した場合は再度試験を

K 0450-40-10：2004

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。

行う。

参考

検量線の作成において，感度係数（RF）を求め，これによって検出量を求める方法を附

属書3に示す。

7. 結果の表示結果の表示には，試料量，濃縮条件（例えば，濃縮量，カラムクロマトグラフ分離の有

無など）及びガスクロマトグラフ質量分析計の測定条件［例えば，6.2 c)に掲げる条件において，いずれか

を選択した事項など。］，ガスクロマトグラフ質量分析計への導入量などを明記する。

付表 1 引用規格

JIS K 0050 化学分析方法通則

JIS K 0094 工業用水・工場排水の試料採取方法

JIS K 0101 工業用水試験方法

JIS K 0102 工場排水試験方法

JIS K 0123 ガスクロマトグラフ質量分析通則

JIS K 0211 分析化学用語（基礎部門）

JIS K 0215 分析化学用語（分析機器部門）

JIS K 0557 用水・排水の試験に用いる水

JIS K 1107 高純度窒素

JIS K 8039 アセトニトリル（残留農薬・PCB試験用）（試薬）

JIS K 8040 アセトン（残留農薬・PCB試験用）（試験用）

JIS K 8150 塩化ナトリウム（試薬）

JIS K 8251 ガラスウール（試薬）

JIS K 8825 ヘキサン（残留農薬・PCB試験用）

JIS K 8987 硫酸ナトリウム（試薬）

JIS R 3503 化学分析用ガラス器具

JIS R 3505 ガラス製体積計

JIS Z 0701 包装用シリカゲル乾燥剤

K 0450-40-10：2004

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。

附属書1（規定）活性けい酸マグネシウムによるカラムクロマトグラフ分離

序文この附属書は，試料の前処理のカラムクロマトグラフ分離について規定する。

1. 活性けい酸マグネシウムによるカラムクロマトグラフ分離カラムクロマトグラフ用の活性けい酸マ

グネシウムを用いたカラムクロマトグラフ分離は，次による。

1.1

試薬試薬は，次による。

a) 硫酸ナトリウム本体5.1 b)による。

b) アセトニトリル JIS K 8039に規定する濃縮300以上のもの(1)。

注(1) 本体注(7)による。

c) ヘキサン本体 5.1 d)による。

d) アセトニトリル-ヘキサン溶離液（1+100）アセトニトリル及びヘキサンを用いて調製する。

1.2

器具器具は，次による。

a) 目盛付き共栓試験管本体5.2 b)による。

b) 共栓三角フラスコ本体5.2 d)による。

c) なす形フラスコ本体5.2 e)による。

d) カラムクロマトグラフ管カラムクロマトグラフ管は，次による。一例は，本体図 1を参照。

1) カラム用管本体5.2 f) 1)による。

2) カラム充てん剤カラムクロマトグラフ用の活性けい酸マグネシウム（粒径150〜250 μm）を用い，

調製などの操作は本体5.2 f) 2)による。

3) カラムクロマトグラフ管の作り方本体5.2 f) 3)による。

e) 濃縮器本体5.2 h)による。

1.3

操作操作は，次による。

a) 本体5.3 a)〜f)による。

b) 受器になす形フラスコを用い，先のヘキサンが硫酸ナトリウム層のわずか上にあるうちにアセトニト

リル-ヘキサン溶離液（1+100）を加え，その100 ml(2)を約1 ml/minで流下させ，溶出液を受器に受け

る。

注(2) 本体注(22)による。

c) 本体5.3 h)〜k)による。

K 0450-40-10：2004

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。

附属書2（参考）定量範囲の下限値を確認する方法

序文この附属書は，本体に関連する事柄を補足するもので，装置の検出限界から，定量範囲の下限値を

確認する方法を参考として示したもので，規定の一部ではない。

a) 下限値の算出方法

1) 本体6.1 d)のアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）標準液（1 μgC22H42O4/ml）100 μl及び本体 6.1 e)

のアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8内標準液（10 μgC22H42O4-d8/ml-ヘキサン）100 μlをマイ

クロシリンジでとり，全量フラスコ10 mlに移し入れ，ヘキサンを標線まで加える。

2) 1 μlをマイクロシリンジでとり，スプリットレス注入法又はコールドオンカラム注入法によってガ

スクロマトグラフ質量分析計に導入し，選択イオン検出法又はマスクロマトグラフ法を用いて定量

する。

3) 1)及び2)の操作を5 回以上繰り返す。

4) 得られた測定値から，次の式によって標準偏差を求め，その3 倍を装置の検出下限(1)(2)，10 倍を

装置の定量下限(2)とする。

(

)

−

=∑n

ここに，

s：標準偏差

xi：個々の測定値

x：測定値の平均値

n：測定回数

注(1)

ここで得られた装置の検出下限が，対象物質の定量下限より大きいときには，器具，機器

などを確認して，これらの値以下になるように調整する。

(2)

この装置の検出下限及び定量下限は，使用する装置の状態などによって変動するため，あ

る一定周期で確認し，常に十分な値が得られるように管理する。また，使用する装置及び

測定条件を変更した場合などには必ず確認する。

K 0450-40-10：2004

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。

附属書3（参考）感度係数（RF）を用いる濃度の算出方法

序文この附属書は，本体に関連する事柄を補足するもので，本体6.4の検量線の作成に際して，感度係

数（RF）を求め，これによって試料中のアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）の濃度を求める方法を参考

と示したもので，規定の一部ではない。

a) 検量線作成において，それぞれの検量線作成用標準液中の標準物質［アジピン酸ビス（2-エチルヘキ

シル）］及び内標準物質［アジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）-d8］による指示値から，次の式によっ

て感度係数（RF）を算出する(1)。

ここに， Ast：標準物質による指示値

Ais：内標準物質による指示値

Cis：内標準物質（μg）

Cs：標準物質（μg）

注(1) 求めた各感度係数の値の相対標準偏差は，15 ％以下でなければならない。

b) 平均感度係数（RF）(2)から，次の式によって試料中のアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）の濃度

（μg/L）を算出する。

)

(

)

(

)

(

)

(

′

ここに，

N：試料中のアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）の濃度（μg/L）

As：試料中のアジピン酸ビス（2-エチルヘキシル）による指示値

A′：添加した内標準物質による指示値

Is：添加した内標準物質（μg）

Ve：試料（L）

注(2) a)で求めた各感度係数の平均値。